一种磁性阵列的制备方法技术

技术编号:3105623 阅读:199 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术属于电子材料技术领域,涉及平面磁性阵列器件的制备方法。先将永磁阵列母板固定于基底下表面,然后在基底上表面均匀涂覆纳米铁氧体/光敏聚合物复合材料,然后静置待纳米铁氧体磁性粒子在永磁阵列母板磁场的作用下按照母板的阵列图形排布后曝光实现纳米铁氧体磁性粒子的固化,最后去除永磁阵列模板即可得到相应的磁性阵列。本发明专利技术实质上是利用永磁阵列母板复制磁性阵列;同时,本发明专利技术利用光敏聚合物来固定磁性阵列中的纳米铁氧体磁性粒子,解决了现有技术中“因图形分辨率下降导致器件失效”的技术问题。本发明专利技术工艺简单、操作容易、无需光刻和成本低廉,适于大规模生产,在微电子、光电子、磁记录及微波器件领域中具有广泛的应用前景。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于电子材料
,涉及平面磁性阵列器件的制备方法。技术背景随着器件与整机的微小型化发展,以加工微米/纳米机构和系统为目的的微 米/纳米技术在此背景下应运而生,特别是其中的MEMS技术得到了迅猛的发展。 MEMS器件具有体积小、重量轻、能耗低、惯性小、响应时间短等突出优点, 同时可把多个不同功能、不同敏感方向或致动方向的微机构大规模地集成在一 起,并且可以通过微电铸的方法进行批量复制和大规模生产,因此在医疗、生物 技术、空间技术、无线通讯等方面具有巨大的市场价值。磁性阵列作为微米/纳米器件中的一种基本结构,不仅可以应用在MEMS领 域中;而且在磁记录,微波器件领域也得到了广泛的应用。目前,磁性阵列大都 是采用光刻的方式进行布线与图形化,其微细加工工艺极其复杂,通常都需要进 行十几步甚至几十步的工序才能完成制作过程,并且对所涉及的材料与设备要求 很高,极大的限制了器件的应用。因此,如何实现磁性阵列工艺简单化成为了关 注的焦点。目前,文献所报道的方法主要是利用纳米材料来实现,所采用的技术 包括自组装技术和旋涂法等。其主要工艺工程包括首先在基底表而制备纳米无 机单层磁性材本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁性阵列的制备方法,包括以下步骤: 步骤1、根据实际需要,采用现有光刻工艺,制备永磁阵列母板; 步骤2、将纳米铁氧体材料与固含量为5%~45%质量百分比的光敏聚合物材料均匀混合,得到纳米铁氧体-光敏聚合物的复合材料; 步骤3、将步骤1所得的永磁阵列母板固定在基底介质层下表面,然后在基底介质层上表面均匀涂覆一层步骤2所得的纳米铁氧体/光敏聚合物复合材料; 步骤4、静置待基底介质层上均匀涂覆的纳米铁氧体/光敏聚合物复合材料中的纳米铁氧体磁性粒子在永磁阵列母板磁场的作用下按照永磁阵列母板的阵列图形排布; 步骤5、待步骤4所述的纳米铁氧体磁性粒子按永磁阵列母板的阵列图形排布好后,在步骤2所述光敏聚...

【技术特征摘要】
1、一种磁性阵列的制备方法,包括以下步骤步骤1、根据实际需要,采用现有光刻工艺,制备永磁阵列母板;步骤2、将纳米铁氧体材料与固含量为5%~45%质量百分比的光敏聚合物材料均匀混合,得到纳米铁氧体-光敏聚合物的复合材料;步骤3、将步骤1所得的永磁阵列母板固定在基底介质层下表面,然后在基底介质层上表面均匀涂覆一层步骤2所得的纳米铁氧体/光敏聚合物复合材料;步骤4、静置待基底介质层上均匀涂覆的纳米铁氧体/光敏聚合物复合材料中的纳米铁氧体磁...

【专利技术属性】
技术研发人员:李元勋宋远强刘颖力张怀武钟智勇边丽菲查杰
申请(专利权)人:电子科技大学
类型:发明
国别省市:90[中国|成都]

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