用于供给化学溶液的系统与方法技术方案

本发明专利技术实施例涉及用于供给化学溶液的系统与方法。一种系统包含化学品存储槽、管线、泵、第一静电探针及控制单元。所述管线连接到所述化学品存储槽。所述泵连接到所述管线且经配置以将化学溶液从所述化学品存储槽泵送到所述管线中。所述第一静电探针耦合到所述泵且经配置以测量所述泵的静电电压。所述控制单元耦合到所述第一静电探针且经配置以从所述第一静电探针获得静电电压的测量。一静电探针获得静电电压的测量。一静电探针获得静电电压的测量。

【技术实现步骤摘要】
用于供给化学溶液的系统与方法


[0001]本专利技术实施例涉及用于供给化学溶液的系统与方法。

技术介绍

[0002]在半导体制造设施中，当由绝缘材料制成的物品被其它绝缘材料触碰或摩擦时，导致静电放电(ESD)的静电在物品的表面上频繁地产生。静电的积累通常由被称为摩擦带电理论的现象产生。静电到机器及人类操作者的放电可引起对半导体晶片及工艺工具的损害，或引起对机器操作者的伤害。因此，在半导体制造设施中，需要通过将机器接地，通过控制相对湿度或通过使用稍微导电材料构建壁及地板覆盖物，使得电荷可经路由到接地而控制ESD。当摩擦电经适合地控制时，还增强粉尘及粒子污染的控制。

技术实现思路

[0003]本专利技术的实施例涉及一种用于供给化学溶液的系统，其包括：化学品存储槽；管线，其连接到所述化学品存储槽；泵，其连接到所述管线且经配置以将化学溶液从所述化学品存储槽泵送到所述管线中；第一静电探针，其耦合到所述泵且经配置以测量所述泵的静电电压；及控制单元，其耦合到所述第一静电探针且经配置以从所述第一静电探针获得所述静电电压的所述测量。
[0004]本专利技术的实施例涉及一种用于供给化学溶液的方法，其包括：将第一静电探针提供到化学品供给系统，其中所述化学品供给系统包括化学品存储槽、管线、连接到所述化学品存储槽及所述管线的泵、耦合到所述泵的第一静电探针及耦合到所述第一静电探针的控制单元；通过所述泵将化学溶液从所述化学品存储槽泵送到所述管线中；在所述化学溶液的所述泵送期间通过所述第一静电探针将所述泵的静电电压的测量提供到所述控制单元；及通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压的所述测量调整所述泵的参数。
[0005]本专利技术的实施例涉及一种供给化学溶液的方法，其包括：提供耦合到处理工具的化学品供给系统，其中所述化学品供给系统包括管线、连接到所述管线的泵及控制单元；将第一静电探针提供到所述泵；通过所述泵经由所述管线将化学溶液提供到所述处理工具；在所述化学溶液到所述处理工具的所述提供期间通过所述第一静电探针将所述泵的静电电压的测量提供到所述控制单元；及通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压的所述测量调整所述泵的参数。
附图说明
[0006]当结合附图阅读时从以下详细描述最好理解本揭露的方面。应注意，根据行业中的标准实践，各种构件未按比例绘制。事实上，为了清楚论述起见，可任意增大或减小各种构件的尺寸。
[0007]图1是根据本专利技术的一或多个实施例的方面的用于供给化学溶液的系统的示意图。
[0008]图2是根据本专利技术的一或多个实施例的方面的用于供给化学溶液的系统的示意图。
[0009]图3是根据本专利技术的一或多个实施例的方面的用于供给化学溶液的系统的示意图。
[0010]图4是根据本专利技术的一或多个实施例的方面的泵的一部分的示意图。
[0011]图5是根据本专利技术的一或多个实施例的方面的静电探针的示意图。
[0012]图6是表示根据本专利技术的一或多个实施例的方面的用于供给化学溶液的方法的流程图。
[0013]图7是说明粒子与时间之间的关系的图表。
具体实施方式
[0014]下列揭露内容提供用于实施所提供主题的不同特征的许多不同实施例或实例。下文描述元件及布置的特定实例以简化本揭露。当然，这些仅为实例且意不在限制。例如，在下列描述中的第一构件形成于第二构件上方或上可包含其中所述第一构件及所述第二构件经形成为直接接触的实施例，且还可包含其中额外构件可形成在所述第一构件与所述第二构件之间，使得所述第一构件及所述第二构件可不直接接触的实施例。另外，本揭露可在各种实例中重复元件符号及/或字母。此重复出于简化及清楚的目的，且本身不指示所论述的各个实施例及/或配置之间的关系。
[0015]此外，为便于描述，可在本文中使用例如“在
…
下面”、“在
…
下方”、“下”、“在
…
上方”、“上”、“在
…
上”及类似者的空间相对术语来描述一个元件或构件与另一(些)元件或构件的关系，如图中说明。空间相对术语希望涵盖除在图中描绘的定向以外的使用或操作中的装置的不同定向。装置可以其它方式定向(旋转100度或按其它定向)且本文中使用的空间相对描述词同样可相应地解释。
[0016]如本文中使用，例如“第一”、“第二”及“第三”的术语描述各种元件、组件、区、层及/或区段，但此类元件、组件、区、层及/或区段不应受此类术语限制。此类术语可仅用于将一个元件、组件、区、层或区段彼此区分。例如“第一”、“第二”及“第三”的术语当在本文中使用时不暗示序列或顺序，除非背景内容清楚指示。
[0017]半导体工艺(例如光刻、湿式蚀刻及清洁)在先进工艺节点处已变得更敏感。在光刻、湿式蚀刻及清洁中使用的液体、溶剂或溶液可萃取金属粒子。来自化学递送系统的萃取金属可引起不利地影响工艺良率的关键晶片缺陷。在一些比较方法中，为了应对此不利良率影响，制造商已使用绝缘管线(例如塑料管线)替换金属管线。此改变导致工艺化学物中的经萃取金属减少。
[0018]然而，当运送或递送低导电率或高电阻化学溶液时，比较方法引起静电放电(ESD)的另一顾虑。当运送此化学溶液时，其可容易地在泵及管线的壁边界处引起电荷分离及积累。泵及管线中的电荷分离及积累的整体机制产生静电。此外，在运送期间产生的静电可损害管线及泵，且产生泄漏路径。在一些比较方法中，代替金属粒子，可在塑料管线中产生绝缘粒子，从而引起晶片的粒子污染。在其它比较方法中，当化学溶液可燃时，静电放电可进一步引起点燃或爆炸，此可引起半导体制造设施中的广泛损害。
[0019]因此，本揭露提供一种用于供给化学溶液的系统与方法。用于供给化学溶液的系
统与方法用于测量、监测且控制静电。在一些实施例中，系统包含耦合到泵及管线或在泵及管在线采用以执行在线测量及监测的静电探针。在一些实施例中，在泵及管线上采用的静电探针提供连续静电测量，此可缓解外部环境影响或人为错误。在一些实施例中，方法根据从静电探针获得的测量进一步调整或调谐用于供给化学溶液的系统的参数以减少静电产生。因此，可迅速地执行调整且因此可缓解粒子污染。
[0020]图1到图3是根据本专利技术的一或多个实施例的方面的用于供给化学溶液的系统10a、10b、10c的示意图。应理解，图1到图3中的相同元件由相同数字描绘，且为了简洁起见，可省略重复细节。用于供给化学溶液的系统10a、10b、10c包含化学品存储槽100。化学品存储槽100经配置以存储一或多种类型的化学溶液。在其它实施例中，系统10a、10b、10c可包含可变体积化学品存储槽100(未展示)。在一些实施例中，系统10a、10b、10c可进一步包含经配置以混合存储于化学品存储槽100中的化学溶液的混合器。
[0021]系统10a、10b、10c至少包含连接到化学品存储槽100的管线110及连接到管线110的泵120。取决于待通过系统10a、10b、10c供给的化学溶液，化学溶液可在被供给到本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于供给化学溶液的系统，其包括：化学品存储槽；管线，其连接到所述化学品存储槽；泵，其连接到所述管线且经配置以将化学溶液从所述化学品存储槽泵送到所述管线中；第一静电探针，其耦合到所述泵且经配置以测量所述泵的静电电压；及控制单元，其耦合到所述第一静电探针且经配置以从所述第一静电探针获得所述静电电压的所述测量。2.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括耦合到所述控制单元及所述管线的内部且经配置以将所述管线的所述内部的静电电压的测量提供到所述控制单元的第二静电探针。3.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括耦合到所述控制单元及所述管线的外部且经配置以将所述管线的所述外部的静电电压的测量提供到所述控制单元的第三静电探针。4.一种用于供给化学溶液的方法，其包括：将第一静电探针提供到化学品供给系统，其中所述化学品供给系统包括化学品存储槽、管线、连接到所述化学品存储槽及所述管线的泵、耦合到所述泵的第一静电探针及耦合到所述第一静电探针的控制单元；通过所述泵将化学溶液从所述化学品存储槽泵送到所述管线中；在所述化学溶液的所述泵送期间通过所述第一静电探针将所述泵的静电电压的测量提供到所述控制单元；及通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压的所述测量调整所述泵的参数。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述泵的所述参数的所述调整是在所述泵的所述静电电压大于近似5KV时执行。6.根据权利要求4所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾志江，李明利，陈锵泽，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：