膜层固化装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种膜层固化装置。所述膜层固化装置其特征在于，包括：支撑台，用于承载衬底，所述衬底表面具有一膜层；光源组件，位于所述支撑台上方，所述光源组件包括朝向所述支撑台设置、且投影覆盖整个所述膜层的出光面的光源阵列，所述光源阵列包括均匀分布于所述出光面上的多个点状光源，所述光源阵列发射的光线能够均匀照射整个所述膜层，以提高所述膜层固化后的厚度分布均匀性。本发明专利技术一方面简化了所述膜层固化装置的整体结构和运行成本；另一方面，能够使得固化后所述膜层厚度分布的均匀性得到极大的改善。善。善。

【技术实现步骤摘要】
膜层固化装置


[0001]本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种膜层固化装置。

技术介绍

[0002]随着半导体制造工艺的不断进步，特别是最小线宽进入到20nm以下，间隙填充(gap fill)的深宽比越来越大(例如深宽比大于20)，这就使得传统的化学气相沉积工艺(Chemical Vapour Deposition，CVD)在无空洞(void free)间隙填充方面面临越来越大的挑战。为了解决这一问题，FCVD(Flow-able CVD，可流动CVD)工艺被开发出来。FCVD工艺形成的薄膜具有类似液体的流动性，形成的薄膜密度接近于高密度等离子体化学气相沉积工艺(HDP CVD)形成的薄膜密度，从而可以实现从间隙底部到顶部的完全无空洞填充。
[0003]传统FCVD工艺中的固化装置内部采用长条形的光源作为固化光源，为了使得固化光均匀的照射衬底表面，需要对固化光源进行旋转。然而，安装有固化光源的灯箱通常体积大且重量重，灯箱的旋转需要强力的马达和皮带带动，这样无疑增大了工艺成本和固化装置的结构复杂度。另外，长时间的旋转还容易导致灯本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种膜层固化装置，其特征在于，包括：支撑台，用于承载衬底，所述衬底表面具有一膜层；光源组件，位于所述支撑台上方，所述光源组件包括朝向所述支撑台设置、且投影覆盖整个所述膜层的出光面的光源阵列，所述光源阵列包括均匀分布于所述出光面上的多个点状光源，所述光源阵列发射的光线能够均匀照射整个所述膜层，以提高所述膜层固化后的厚度分布均匀性。2.根据权利要求1所述的膜层固化装置，其特征在于，所述出光面为圆形；所述光源阵列中的多个所述点状光源沿所述出光面的径向方向呈多圈圆环排布。3.根据权利要求1所述的膜层固化装置，其特征在于，所述光源组件还包括位于所述光源阵列背离所述支撑台一侧的反射器，用于反射所述光源阵列发射的光线。4.根据权利要求3所述的膜层固化装置，其特征在于，所述反射器的数量为多个，且多个所述反射器与多个所述点状光源一一对应。5.根据权利要求4所述的膜层固化装置，其特征在于，所述光源组件还包括与多个所述点状光源一一对应的多个传感器，所述传感器用于检测与其对应的所述点状光源发射的光线的强度。6.根据权利要求5所述的膜层固化装置，其特征在于，所述反射器的截面呈圆弧状，且所述反射器罩于所述点...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴天成，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：