配合方阻检测的硅片吸取设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种配合方阻检测的硅片吸取设备，包括：设备机架、固定在所述设备机架上的X轴运动模组、Y轴运动模组、Z轴运动模组和真空吸盘，所述Y轴运动模组被所述X轴运动模组驱动，所述Z轴运动模组被所述Y轴运动模组驱动，所述X轴运动模组、所述Y轴运动模组和所述Z轴运动模组和三者两两互相垂直；所述真空吸盘包括吸取块和连接块，所述吸取块和硅片相接触，所述连接块和所述吸取块一体成型，所述连接块和所述Z轴运动模组固定连接。本实用新型专利技术的有益效果：采用三轴XYZ模组驱动真空吸盘吸取硅片，效率高，而且不会对硅片造成污染。而且不会对硅片造成污染。而且不会对硅片造成污染。

【技术实现步骤摘要】
配合方阻检测的硅片吸取设备


[0001]本技术涉及硅片检测领域，具体涉及一种配合方阻检测的硅片吸取设备。

技术介绍

[0002]在硅片扩散工艺里，方阻检测是必不可少的一步，是用来检测扩散质量，对电池片的效率有着举足轻重的影响。现有都是采用人工将硅片从流水线中取出，然后将硅片放到方阻检测仪上进行检测，这样的话，不仅仅效率低，而且，会对硅片造成污染。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是提供一种配合方阻检测的硅片吸取设备，效率高，而且不会对硅片造成污染。
[0004]为了解决上述技术问题，本技术提供了一种配合方阻检测的硅片吸取设备，包括：设备机架、固定在所述设备机架上的X轴运动模组、Y轴运动模组、Z轴运动模组和真空吸盘，所述Y轴运动模组被所述X轴运动模组驱动，所述Z轴运动模组被所述Y轴运动模组驱动，所述X轴运动模组、所述Y轴运动模组和所述Z轴运动模组和三者两两互相垂直；
[0005]所述真空吸盘包括吸取块和连接块，所述吸取块和硅片相接触，所述连接块和所述吸取块一体成型，所述连接块和所述Z轴运动模组固定连接；本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，包括：设备机架、固定在所述设备机架上的X轴运动模组、Y轴运动模组、Z轴运动模组和真空吸盘，所述Y轴运动模组被所述X轴运动模组驱动，所述Z轴运动模组被所述Y轴运动模组驱动，所述X轴运动模组、所述Y轴运动模组和所述Z轴运动模组和三者两两互相垂直；所述真空吸盘包括吸取块和连接块，所述吸取块和硅片相接触，所述连接块和所述吸取块一体成型，所述连接块和所述Z轴运动模组固定连接；所述吸取块与硅片接触的表面开设有至少两个吸嘴，所述吸取块的内部开设有通往所述连接块且连接外界的连接气路，所述连接气路与所述吸嘴相连通。2.如权利要求1所述的配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，所述连接块的厚度大于所述吸取块的厚度。3.如权利要求1所述的配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，所述吸取块远离所述连接块的一端设有引导块，所述引导块靠近所述连接块的一端的厚度大于所述引导块远离所述连接块的一端的厚度。4.如权利要求1所述的配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，所述吸嘴的数量为4个，4个所述吸嘴成阵列分布，4个所述吸嘴分布在所述吸取块的四个角。5.如权利要求1所述的配合方阻检测的硅片吸取设备，其特征在于，还包括支撑架，所述支撑架设...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴廷斌，张学强，张建伟，罗银兵，许立春，
申请(专利权)人：罗博特科智能科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：