一种矮杆大豆的高产种植方法技术

本发明专利技术公开了一种矮杆大豆的高产种植方法：在秋季深翻深松整地；选用耐低温、抗逆性强的矮秆大豆品种并进行种子处理；春季适时采用大豆专用密植播种机平作穴播播种，种植行距16cm～18 cm，种植株距16～18cm，保苗密度50万株～60万株/hm2；进行合理的田间管理直至收获。本发明专利技术大豆的种植方法容易实施，可大幅度提高大豆产量，显著提升了种植的经济效益，具有较强应用推广价值。有较强应用推广价值。

【技术实现步骤摘要】
一种矮杆大豆的高产种植方法


[0001]本专利技术涉及的是大豆的种植
，具体涉及的是一种矮杆大豆的高产种植方法。

技术介绍

[0002]黑龙江省纬度高，气候冷凉，热量资源有限。常规65cm～70cm行距垄作种植大豆，行距宽，封垄期晚，光能利用效率低，大豆单产水平较低。近些年又随着全面禁烧秸秆政策的实施，在秸秆连年还田种植模式下，春季土壤温度低，大豆早期生长发育缓慢，农田受病虫害趋势明显加重，农田杂草抗农药性连年增强，严重影响大豆田产量提高。因此，寻找一种科学有效的种植方法针对东北寒地大豆产业的健康发展具有积极的意义。

技术实现思路

[0003]本专利技术目的是提供一种矮杆大豆的高产种植方法，它能有效地解决
技术介绍
中所存在的问题。
[0004]本专利技术针对上述技术中提到的问题，采取的技术方案为：一种矮杆大豆的高产种植方法，包括以下步骤：（1）整地方式秋季深翻深松整地；其中整地质量：耕翻深度为20cm～22 cm，深松深度36 cm～40 cm，旋耕深度15 cm～18 cm，耙茬深度12 cm～15 cm，达到播种本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种矮杆大豆的高产种植方法，其特征在于包括以下步骤：（1）整地方式秋季深翻深松整地；其中整地质量：耕翻深度为20cm～22 cm，深松深度36 cm～40 cm，旋耕深度15 cm～18 cm，耙茬深度12 cm～15 cm，达到播种状态；（2）品种选择据当地生态条件和生产条件，因地制宜地选择成熟期适宜、秆强、耐密植、具有高产潜力、优质、耐低温、抗逆性强的矮秆大豆品种；（3）种子处理 种子播前要进行用机械精选，剔除病斑粒、不完整粒、虫食粒及杂质，播种前100 kg种子用35 %多克福种衣剂1500 ml包衣；（4）播种当春季地温稳定通过7 ℃，适时早播，采用大豆密植专用机械进行平作穴播播种，种植行距16cm～18cm ，种植株距16～18cm ，播种后及时镇压，保苗密度50万株～60万株/ hm2；（5）田间管理 5.1 化学除草播种前及播种后应用化学除草技术防除田间杂草；5.2 化学控制在大豆3 叶期，公顷喷施浓度为0.02 %～0.05 %钼酸铵溶液，在大豆初花期，公顷用0.1 %～0.2 ...

【专利技术属性】
技术研发人员：张敬涛，盖志佳，蔡丽君，刘靖琦，赵桂范，杜佳兴，
申请(专利权)人：黑龙江省农业科学院佳木斯分院，
类型：发明
国别省市：