本发明专利技术提供有利于检测处理液的泄漏等不良情况的发生的基片液处理装置和基片液处理方法。基片液处理装置包括：供处理液流动的液配管；释放嘴，其释放经由液配管供给的处理液；阀机构，其调节液配管中的处理液的流动；和液检测传感器，其检测液配管中是否存在处理液。在阀机构工作以使液配管中的处理液位于比液配管的第一配管测量部位靠上游处的状态下，液检测传感器检测在位于第一测量点的第一配管测量部位是否存在处理液。测量部位是否存在处理液。测量部位是否存在处理液。
【技术实现步骤摘要】
基片液处理装置和基片液处理方法
[0001]本专利技术涉及基片液处理装置和基片液处理方法。
技术介绍
[0002]在专利文献1公开的装置中，基于响应时间来测量流过供给路径的处理液的流量，当该流量的测量值大于阈值时，判断为在设置于供给路径的阀中发生处理液的泄漏。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特许第6059087号公报
技术实现思路
[0006]专利技术要解决的技术问题
[0007]本专利技术提供了一种有利于检测处理液的泄漏等不良情况的发生的技术。
[0008]用于解决技术问题的技术方案
[0009]本专利技术的一方面涉及一种基片液处理装置，包括：供处理液流动的液配管；释放嘴，其释放经由液配管供给的处理液；配管阀机构，其调节液配管中的处理液的流动；和液检测传感器，其检测液配管中是否存在处理液，在配管阀机构工作以使液配管中的处理液位于比液配管的第一配管测量部位靠上游处的状态下，液检测传感器检测在位于第一测量点的第一配管测量部位是否存在处理液。
[0010]专利技术效果
[0011]依照本专利技术，有利于检测处理液的泄漏等不良情况的发生。
附图说明
[0012]图1是表示处理系统的一例的概要的图。
[0013]图2是表示处理单元的一例的概要的图。
[0014]图3是例示处理腔室的内侧的一部分的状态的俯视图。
[0015]图4是例示供给管线的第一配管测量部位和液检测传感器的第一测量点的概要图。
[0016]图5是概要地例示液检测传感器与供给管线及摆动臂之间的相对位置的图。
[0017]图6是表示液检测传感器与供给管线及摆动臂之间的相对位置(横轴)、与由受光部测量的检测光的受光量(纵轴)之关系示例的图表。
[0018]图7是表示控制部的功能构成的一例的框图。
[0019]图8是表示泄漏检查流程的一例的图。
[0020]图9是表示阈值的决定流程的一例的图。
[0021]图10是表示基片液处理流程的一例的图。
[0022]图11是表示基片液处理流程的一例的图。
[0023]图12是用于说明第一变形例的异常检测方法的图。
[0024]图13是用于说明第一变形例的异常检测方法的图。
[0025]图14是用于说明第一变形例的异常检测方法的图。
[0026]附图标记说明
[0027]10
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处理单元
[0028]15
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释放嘴
[0029]16
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供给管线
[0030]17
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排液管线
[0031]28
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阀机构
[0032]35
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液检测传感器
[0033]93
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控制部
[0034]M1
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第一测量点
[0035]Q
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处理液
[0036]R1
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第一配管测量部位
[0037]W
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基片。
具体实施方式
[0038]图1是表示处理系统80的一例的概要的图。图1所示的处理系统80具有送入送出站91和处理站92。送入送出站91包括：具有多个承载器C的载置部81；以及设置有第一运送机构83和交接部84的运送部82。在各承载器C中，多个基片W以水平状态被收纳。在处理站92设有：设置于运送通路86的两侧的多个处理单元10；和在运送通路86中往复移动的第二运送机构85。
[0039]基片W由第一运送机构83从承载器C取出并载置在交接部84，由第二运送机构85从交接部84取出。然后，基片W由第二运送机构85送入对应的处理单元10，在对应的处理单元10中被实施规定的液处理(例如，药液处理)。之后，基片W由第二运送机构85从对应的处理单元10取出并载置在交接部84，然后由第一运送机构83送回到载置部81的承载器C。
[0040]处理系统80具有控制部93。控制部93例如由计算机构成，具有运算处理部和存储部。在控制部93的存储部中存储有用于处理系统80中执行的各种处理的程序和数据。控制部93的运算处理部通过适当地读出并执行存储在存储部中的程序，来控制处理系统80的各种装置而进行各种处理。
[0041]存储在控制部93的存储部中的程序和数据，可以是记录在计算机可读取的存储介质中的程序和数据，从该存储介质安装到存储部。作为计算机可读取的存储介质，例如有硬盘(HD)、软盘(FD)、光盘(CD)、磁光盘(MO)和存储卡等。
[0042]图2是表示处理单元10的一例的概要的图。
[0043]处理单元10包括对基片W供给处理液以进行液处理的基片液处理装置和控制部93(参照图1)。处理液的具体组成和用途没有限定，例如可以将药液、纯水和清洗液作为处理液。
[0044]本实施方式的处理单元10包括基片保持部11、旋转驱动部12、液体供给部14、杯状结构体21、非活性气体供给部22、整流板23、FFU(Fan Filter Unit：风机过滤单元)24和处
理腔室25。基片保持部11、旋转驱动部12、液体供给部14的至少一部分、杯状结构体21和整流板23设置于处理腔室25的内侧。非活性气体供给部22和FFU 24的至少一部分设置于处理腔室25的外侧。
[0045]基片保持部11保持由第二运送机构85(参照图1)供给的基片W。虽然图示的基片保持部11采用吸附保持基片W的背面的真空方式，但是基片保持部11可以通过其他方式(例如，机械卡盘方式)来保持基片W。旋转驱动部12对基片保持部11施加旋转动力，以使由基片保持部11保持的基片W与基片保持部11一起旋转。图示的旋转驱动部12包括旋转驱动轴和旋转驱动主体部，其中，旋转驱动轴在旋转轴线A1上延伸，并且其前端部固定地安装有基片保持部11，旋转驱动主体部使旋转驱动轴以旋转轴线A1为中心旋转。像这样，由基片保持部11和旋转驱动部12构成使基片W以旋转轴线A1为中心旋转的旋转机构13的至少一部分。
[0046]杯状结构体21具有环状的平面形状，以包围由基片保持部11保持的基片W的方式设置。杯状结构体21承接从基片W飞散的液体并将其引导到排液管(未图示)，以及调节气体的流动来防止基片W周围的气体扩散。杯状结构体21的具体结构没有限定。例如，杯状结构体21可以以分体的方式具有主要用于引导液体的杯状体和主要用于调节气体的流动的杯状体。
[0047]非活性气体供给部22将非活性气体(例如，氮)供给到处理腔室25内。FFU 24在处理腔室25内产生向下流动的气流。整流板23具有多个孔(参照后述的贯通孔(图4的附图标记“23a”))，设置在FFU 24的吹出口的正下方，调节气流以使处理腔室25内的向下流动的气流最优化。
[0048]液体供给部14具本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基片液处理装置，其特征在于，包括：供处理液流动的液配管；释放嘴，其释放经由所述液配管供给的处理液；阀机构，其调节所述液配管中的所述处理液的流动；和液检测传感器，其检测所述液配管中是否存在所述处理液，在所述阀机构工作以使所述液配管中的所述处理液位于比所述液配管的第一配管测量部位靠上游处的状态下，所述液检测传感器检测在位于第一测量点的所述第一配管测量部位是否存在所述处理液。2.如权利要求1所述的基片液处理装置，其特征在于：所述液配管设置有多个，该多个液配管分别被设置成能够相对于所述液检测传感器相对地移动，在所述多个液配管各自的所述第一配管测量部位通过所述第一测量点时，所述液检测传感器检测在所述多个液配管各自的所述第一配管测量部位是否存在所述处理液。3.如权利要求1或2所述的基片液处理装置，其特征在于：所述液配管包括：具有所述第一配管测量部位的供给管线；和连接到所述供给管线并设置在比所述释放嘴低的位置的排液管线，所述阀机构包括：供给开闭阀，其调节所述供给管线中的所述处理液的流动；和排液开闭阀，其调节所述排液管线中的所述处理液的流动，当使所述供给管线中的所述处理液位于比所述第一配管测量部位靠上游处时，所述排液开闭阀工作以使所述处理液从所述供给管线流到所述排液管线。4.如权利要求1～3中任一项所述的基片液处理装置，其特征在于：所述液检测传感器具有...
【专利技术属性】
技术研发人员：中岛干雄，田中明贤，绪方信博，宫本勋武，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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