一种电解铜箔真空上液装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种电解铜箔真空上液装置，包括，储液罐，用于储存硫酸铜电解液；上液泵，位于所述储液罐外侧，并通过管道和储液罐连接，用于输送硫酸铜电解液并完成供液操作；控制装置，位于所述储液罐和上液泵之间，用于控制排出管道内的液体，并完成对硫酸铜电解液的输送；所述控制装置包括：调节组件，与所述储液罐连接，用于储存硫酸铜电解液和排出管道中的空气；真空组件，与所述调节组件连接，用于调节调节组件内部的空气压强；输液组件，位于所述调节组件和上液泵之间；在本实用新型专利技术中，所述调节组件可以对储液罐内侧的液体进行储存，方便排出管道内侧的空气和液体；方便完成供液操作，便于排出管道内侧的液体并进行维修。修。修。

【技术实现步骤摘要】
一种电解铜箔真空上液装置


[0001]本技术涉及供液装置
，具体是一种电解铜箔真空上液装置。

技术介绍

[0002]现有传统的电解铜箔输送硫酸铜液技术，其中之一为采用上液泵在硫酸铜电解液储罐上方，直接通过管道与硫酸铜电解液储罐连接，且连接管道下方安装有逆止阀，启动上液泵后直接把硫酸铜液输送到系统中，此方法弊端为管道中液体无法排出，维修困难；另一种为上液泵与硫酸铜电解液储存罐在同一水平面上。
[0003]现有的上液装置在设备进行维修时，不方便将液体排出，且不方便对管道内侧气体进行排出，容易造成上液过程中出现气泡，降低上液效果。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种电解铜箔真空上液装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0006]一种电解铜箔真空上液装置，包括：
[0007]储液罐，用于储存硫酸铜电解液；
[0008]上液泵，位于所述储液罐外侧，并通过管道和储液罐连接，用于输送硫酸铜电解液并完成供液操作；
[000本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电解铜箔真空上液装置，其特征在于，所述电解铜箔真空上液装置包括：储液罐，用于储存硫酸铜电解液；上液泵，位于所述储液罐外侧，并通过管道和储液罐连接，用于输送硫酸铜电解液并完成供液操作；控制装置，位于所述储液罐和上液泵之间，用于控制排出管道内的液体，并完成对硫酸铜电解液的输送；所述控制装置包括：调节组件，与所述储液罐连接，用于储存硫酸铜电解液和排出管道中的空气；真空组件，与所述调节组件连接，用于调节调节组件内部的空气压强；输液组件，位于所述调节组件和上液泵之间，用于对硫酸铜电解液的输送。2.根据权利要求1所述的电解铜箔真空上液装置，其特征在于，所述调节组件包括：储液框，位于所述储液罐一端，用于对硫酸铜电解液的储存；第一输液管，位于所述储液罐和储液框之间。3....

【专利技术属性】
技术研发人员：黄锐，
申请(专利权)人：深圳市金诚盛电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：