光罩、基板及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种光罩、基板及其制备方法，光罩包括阻光区、透光区以及部分透光区，部分透光区及阻光区通过透光区间隔，部分透光区允许部分紫外线透过，且包括第一部分透光区以及第二部分透光区，其中：第一部分透光区连接于透光区的边缘，且具有渐变紫外线透过率；第二部分透光区连接于第一部分透光区远离透光区的边缘，第二部分透光区具有固定紫外线透过率，以使得第二部分透光区对应的保护层的厚度均匀且小于透光区对应的保护层的厚度，从而形成不同厚度的保护层，而第一部分透光区连通透光区和第二部分透光区，从而能够使得保护层之间具有平滑坡度，提高视觉效果。提高视觉效果。提高视觉效果。

【技术实现步骤摘要】
光罩、基板及其制备方法


[0001]本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种光罩、基板及其制备方法。

技术介绍

[0002]在显示
，基板的保护层用于保护基板上的层结构，例如在铜线路域的上方设置保护层，以保护铜线路免受水汽、灰尘等杂质的影响，再例如在ITO线路的上方设置保护层，以保护ITO线路，避免其发生线路损伤，而层结构上方的保护层通过同一光罩曝光制程进行制备。
[0003]目前，现有基板的保护层的制备通常采用成膜-遮挡-曝光-显影等工艺制备，在具有ITO线路以及铜线区的基底上形成一层负性干膜，并在负性干膜上设置光罩，接着使用曝光机的平行紫外光进行曝光以光刻负性干膜形成所需图形，并用显影液清除多余的图形，留下的部分为保护层，但是由于用于遮挡紫外线的光罩使用的是紫外线透过率均匀的遮光层，曝光显影后形成的保护层厚度均匀，而随着市场需求和产品要求的不断增加，在基板上不同区域形成不同厚度保护层的需求越来越明显，例如同一厚度的保护层时在铜线路处较薄使得铜线路不能有效保护，在ITO线路处较厚使得视觉效果较差，再例如，ITO线路在刻蚀位置线路明显,在ITO线路和基底裸露区相交位置出现断差，使得ITO线路明显，影响视觉效果。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要针对现有ITO线路视觉效果较差的问题，提供一种光罩、基板及其制备方法。
[0005]一种光罩，包括阻光区、透光区以及部分透光区，所述部分透光区及所述阻光区通过所述透光区间隔，所述部分透光区允许部分紫外线透过，且包括第一部分透光区以及第二部分透光区，其中：
[0006]所述第一部分透光区连接于所述透光区的边缘，且具有渐变紫外线透过率；
[0007]所述第二部分透光区连接于所述第一部分透光区的边缘，所述第二部分透光区具有固定紫外线透过率。
[0008]上述技术方案至少具有以下技术效果：透光区对应的负性干膜曝光显影时全部被保留，阻光区对应的负性干膜在曝光显影时全部洗掉，通过在阻光区和透光区以及相邻透光区之间设置部分透光区，以允许部分紫外线透过，使得在曝光时仅有一部分紫外线透过部分透光区进行曝光，从而使得与部分透光区相对的负性干膜所获取的曝光能量较小，仅有表层的负性干膜在曝光显影时被去除，从而形成保护层，通过设置具有固定紫外线透过率的第二部分透光区，以使得第二部分透光区对应的保护层的厚度均匀且小于透光区对应的保护层的厚度，从而能够形成不同厚度的保护层，以实现不同区域的保护，并提高视觉效果，而具有渐变紫外线透过率的第一部分透光区连通透光区和第二部分透光区，从而能够使得部分透光区所形成的保护层之间具有平滑坡度，提高视觉效果。
[0009]在其中一个实施例中，所述部分透光区包括中间区域和位于所述中间区域两侧的边缘区域，其中：
[0010]在所述中间区域中，位于相邻两个所述第一部分透光区之间的第二部分透光区连接相邻的两个所述第一部分透光区；
[0011]在每一边缘区域具有一个所述第一部分透光区和一个所述第二部分透光区，所述第二部分透光区和所述第一部分透光区相连接，且所述第二部分透光区位于所述第一部分透光区靠近所述中间区域的一侧。
[0012]上述技术方案通过限定部分透光区中第一部分透光区和第二部分透光区的设置方式，从而能够使得部分透光区所形成的保护层之间具有平滑坡度，保护效果较好，并且提高视觉效果。
[0013]在其中一个实施例中，还包括第三部分透光区，以允许部分紫外线透过，所述第三部分透光区连接于所述阻光区朝向所述透光区的边缘，且具有渐变紫外线透过率，所述第三部分透光区与所述部分透光区之间具有透光区。
[0014]上述技术方案通过限定光罩具有第三部分透光区，并限定第三部分透光区具有渐变紫外线透过率，以使得表层的负性干膜在曝光显影时被去除，剩余部分负性干膜抵消显影液的浸泡侧面过度侵蚀，从而使得第三部分透光区对应的保护层的底面面积较大，提高保护效果。
[0015]在其中一个实施例中，所述部分透光区的紫外线透过率为10％-90％。
[0016]上述技术方案通过限定部分透光区的紫外线透过率为10％-90％，以使得第二部分透光区的紫外线透过率为10％-90％范围内的任一固定值，第一部分透光区的紫外线透过率为10％-90％范围内的任一阈值，从而与部分透光区相对的负性干膜所获取的曝光能量较小。
[0017]在其中一个实施例中，所述第一部分透光区的最大紫外线透过率相比所述第二部分透光区的紫外线透过率上升60％。
[0018]上述技术方案通过限定第一部分透光区的最大紫外线透过率相比第二部分透光区的紫外线透过率上升60％，以使得第二部分透光区的允许透光的紫外光较小，曝光能量较弱，从而使得部分透光区所形成的保护层的过渡区坡度较缓。
[0019]在其中一个实施例中，所述第一部分透光区的紫外线透过率自所述第二部分透光区的边缘向着远离所述第二部分透光区的方向逐渐变大。
[0020]上述技术方案通过限定第一部分透光区的紫外线透过率的渐变方式为自第二部分透光区的边缘向着远离第二部分透光区的方向逐渐变大，以使得沿着第二部分透光区的边缘向外的方向，透过第一部分透光区的曝光能量逐渐减弱，从而使得与第一部分透光区相对的负性干膜曝光显影时形成的过渡区的保护层坡度较缓。
[0021]在其中一个实施例中，所述部分透光区和/或所述第三部分透光区的宽度为1um-100um。
[0022]上述技术方案通过限定部分透光区和/或第三部分透光区的宽度为1um-100um，以在平滑过渡的同时提高视觉效果。
[0023]另外，本专利技术还提供了一种基板的制造方法，包括以下步骤：
[0024]步骤S701,在基底上依次形成铜线路、ITO线路以及负性干膜，所述铜线路、ITO线
路同层设置，且所述负性干膜覆盖所述基底、铜线路以及ITO线路；
[0025]步骤S702,利用如上任一实施例所述的光罩对所述负性干膜进行曝光，以光刻出保护层的图案；
[0026]步骤S703,对所述负性干膜进行显影，以形成保护层。
[0027]上述技术方案至少具有以下技术效果：通过步骤S701在基底上依次形成铜线路、ITO线路以及负性干膜，其中，铜线路、ITO线路同层设置，负性干膜覆盖基底、铜线路以及ITO线路；通过步骤S702利用如上任一实施例所述的光罩对负性干膜进行曝光，阻光区对应的负性干膜未被曝光，透光区对应的负性干膜完全曝光，部分透光区允许部分紫外线透过，使得在曝光时仅有一部分紫外线透过，部分透光区对应的负性干膜中仅表面部分被曝光，以光刻出保护层的图案；通过步骤S703对负性干膜进行显影，透光区对应的负性干膜显影时全部被保留，阻光区对应的负性干膜在显影时全部洗掉，部分透光区仅有表层的负性干膜在曝光显影时被去除，从而形成保护层，并且具有固定紫外线透过率的第二部分透光区对应的保护层的厚度均匀且小于透光区对应的保护层的厚度，从而能够形成不同厚度的保护层，以实现不同区域的保护，并提高视觉效果，而本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光罩，其特征在于，包括阻光区、透光区以及部分透光区，所述部分透光区及所述阻光区通过所述透光区间隔，所述部分透光区允许部分紫外线透过，且包括第一部分透光区以及第二部分透光区，其中：所述第一部分透光区连接于所述透光区的边缘，且具有渐变紫外线透过率；所述第二部分透光区连接于所述第一部分透光区的边缘，所述第二部分透光区具有固定紫外线透过率。2.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述部分透光区包括中间区域和位于所述中间区域两侧的边缘区域，其中：在所述中间区域中，位于相邻两个所述第一部分透光区之间的第二部分透光区连接相邻的两个所述第一部分透光区；在每一所述边缘区域具有一个所述第一部分透光区和一个所述第二部分透光区，所述第二部分透光区和所述第一部分透光区相连接，且所述第二部分透光区位于所述第一部分透光区靠近所述中间区域的一侧。3.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，还包括第三部分透光区，以允许部分紫外线透过，所述第三部分透光区连接于所述阻光区，且具有渐变紫外线透过率，所述第三部分透光区与所述部分透光区之间具有所述透光区。4.根据权利要求1-3任一项所述的光罩，其特征在于，所述部分透光区的紫外线透过率为10％-90％。5.根据权利要求4所述的光罩，其特征在于，所述第一部分透光区的最大紫外线透过率相比所述第二部分透光区的紫外线透过率上升60％。6.根据权利要求4所述的光罩，其特征在于，所述第一部分透光区的紫外线透过率自所述第二部分透光区的边缘向着远离所述第二部分透光区的方向逐渐变大。7.根据权利要求3...

【专利技术属性】
技术研发人员：张礼冠，许建勇，田舒韵，
申请(专利权)人：南昌欧菲显示科技有限公司，
类型：发明
国别省市：