【技术实现步骤摘要】
一种异质结太阳能电池及其制作方法、异质结光伏组件
[0001]本申请涉及光伏
,特别是涉及一种异质结太阳能电池及其制作方法、异质结光伏组件。
技术介绍
[0002]异质结太阳能电池具有双面对称结构和非晶硅层优秀的钝化效果,同时具有转换效率高、双面率高等特点,成为行业研究的热点。
[0003]异质结太阳能电池的正面和背面均有TCO(transparent conductive oxide,透明导电氧化物)膜层,目前在制备TCO膜层时采用物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)方式进行沉积,将硅片放在镂空载板的凹坑里,镂空载板置于PVD设备中,PVD设备一次性进行正面和背面的TCO镀膜。由于硅片放置在载板的凹坑里,硅片背面四边边缘均有0.6mm左右的遮挡而没有TCO膜层,按照计算,约有1.4%的非晶硅膜层没有TCO膜层覆盖,导致此处产生的光生载流子无法有效导出,理论计算的效率损失在0.34%左右。
[0004]因此,如何解决上述技术问题应是本领域技术人员重点关注的。 >
技术实现思路
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种异质结太阳能电池制作方法,其特征在于,包括:获得正面和背面均沉积有非晶硅膜层的硅片;在位于所述正面的所述非晶硅膜层的表面沉积TCO膜层;将所述硅片翻转180度,并在位于所述背面的所述非晶硅膜层的表面沿边缘覆盖掩膜;其中,所述掩膜的宽度在0.05mm~0.5mm之间,包括端点值;在覆盖有所述掩膜的所述非晶硅膜层的表面沉积TCO膜层;分别在位于所述正面和所述背面的TCO膜层的表面制作电极,得到异质结太阳能电池。2.如权利要求1所述的异质结太阳能电池制作方法,其特征在于,在所述获得正面和背面均沉积有非晶硅膜层的硅片之前,还包括:获得所述硅片;在所述硅片的所述正面和所述背面分别沉积本征非晶硅膜层;在位于所述正面的所述非晶硅膜层的表面沉积p型非晶硅膜层;在位于所述背面的所述非晶硅膜层的表面沉积n型非晶硅膜层。3.如权利要求2所述的异质结太阳能电池制作方法,其特征在于,在所述获得所述硅片之后,还包括:对所述硅片进行双面制绒处理。4.如权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员:钱洪强,张树德,符欣,连维飞,
申请(专利权)人:苏州腾晖光伏技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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