物镜和光拾取设备制造技术

技术编号:3079311 阅读:162 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
公开了一种光拾取设备和用于光拾取设备的物镜,该光拾取设备用于对光学信息记录介质执行写和/或读,该物镜包括位于光源侧表面上的增透膜,其中,将包括380nm≤λ1≤420nm的波长λ1和630nm≤λ2≤810nm的波长λ2的多个波长的光通量会聚到介质上,关于波长λ1的光源侧数值孔径在0.8-0.9的范围内,关于波长λ2光源侧数值孔径为0.7或更小,并且在对波长区域为400nm至1200nm中垂直进入表面的中心部分的光通量的反射率为3.0%或更小的情况下,增透膜的波带在700nm至800nm的范围内。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于信息记录和重现设备的光拾取设备的物镜以及 配备有该物镜的光拾取设备,该信息记录和重现设备可以执行将信息 记录在光学信息记录介质和重现记录在该光学信息记录介质上的信息中的至少一个。特别地,本专利技术涉及将至少包括波长在380nm至 420nm范围内的光通量和波长在630nm至810nm范围内的光通量的 多个光通量会聚到光学信息记录介质上的物镜,以及配备该物镜的光 拾取设备。
技术介绍
传统上,使用光拾取设备(信息记录和重现设备)作为执行将信 息记录在光学信息记录介质上并重现记录在光学信息记录介质上的信 息的设备。光拾取设备使用物镜(光学透镜)将从半导体激光器光源 发出的光会聚到光学信息记录介质的信息记录面上,以执行信息的记 录和重现。另外,近年来,已执行了下面的技术。即,使用物镜使光束斑的 直径变小的试验,换而言之,使光束斑有效地变窄的试验,以使得可 以为了增大光学信息记录介质的容量而利用高强度记录状态下的光来 记录和重现信息。由于光束斑的直径与物镜的数值孔径(NA)成反比, 所以物镜的NA的增大已经有了进步,并且近来已经开发了这样的光 拾取设备其利用物镜将波长在380nm至420nm范围内的光通量会 聚到光学信息记录介质(被称为蓝光(Blu-Ray)光盘)上,该物镜的 光源侧数值孔径在0.8至0.9范围内。另外,对于光拾取设备来说仅能够对一种光学信息记录介质执行 记录和/或重现是不够的,光拾取设备需要处理诸如传统的紧凑光盘(CD)(波长约为780nm, NA为0.45 )以及数字通用光盘(DVD ) (波长约为650nm, NA为0.6 )的光学信息记录介质。现在,为了有效地利用从光源发出的光通量,已经对光拾取设备 的光学元件实现了增大光学元件的透射率的设计。例如,在物镜等的 光学表面上形成增透膜(antireflective film),以通过利用光干涉来 抑制从光学表面所反射的光量。例如,日本专利申请2007-127954中所公开的技术在光源侧数值 孔径(NA)为0.85的用于蓝光专用光拾取设备的物镜的光源侧表面 上形成一至三层增透膜,从而抑制反射光的量,以增大物镜的透射率。但是,当在用于兼容光拾取设备(该兼容光拾取设备可以以多个 波长读和/或写信息)的物镜上形成增透膜时,日本专利申请 2007-127954中所公开的技术难以对具有不同波长的各个入射光通量 都实现增透。虽然在此给出了对上述技术的简要说明,但是,在本申请递交时 曰本专利申请2007-127954还没有公开。另外,日本专利申请 2007-127954的专利技术人和受让人与本申请是相同的。因此,请注意, 专利技术人认为日本专利申请2007-127954不是本申请的现有技术。另一方面,已知的是,光的入射角越大,在增透涂层中光反射率 的波长相关性越向较短波长偏移。另外,从物镜的中心部分进入物镜 的外部周围部分的光越多,光的入射角越大。因此,在传统的物镜中, 周围部分的光的反射率的波长相关性向较短波长的偏移比中心部分的 大。结果,使进入周围部分的光的反射率成为局部最小的波长短于使 进入中心部分的光的反射率成为局部最小的波长。因此,在配置有传统增透涂层的物镜中,在物镜的中心部分对激光的反射率低,但是在 物镜的周围部分中对激光的反射率高。因此,与中心部分相比周围部 分中所透射的光量变得相对较小。结果,导致物镜有下列问题整个 透镜的透射光的光谱强度变坏,由于光会聚性能的降低而导致光束斑 的直径增大,光束的光量降低,等等。由于具有高NA的物镜的透镜面的曲率大,所以透镜周围部分中的光入射角非常大。因此,透过物镜周围部分的光量降低的程度非常大,并且尽管使用具有高NA的物镜,也不能抑制光斑直径的增大。 诸如此类的情况是增大光学记录介质容量的障碍。日本专利申请特开2005-31361号公开了这样的物镜其通过形 成特定增透膜来将增透涂层的局部最小反射波长设置在比使用的从 380nm至420nm范围的波长长的波长侧,来确保光斑直径最小化与透 射光量之间的良好的平衡。为了获得这种物镜,必须将增透涂层工作的波长带设置得宽。结 果,制造者不得不接受增透膜层数、每层的厚度以及总膜厚度的增大。 但是,增透膜层数、每层的厚度以及总膜厚度的增大导致这样的问题 对高温环境和高湿度环境的环境耐受力降低,对长期光照射的耐光性 降低。但是,日本专利申请特开2005-31361号没有考虑物镜的透光量 与环境耐受力和耐光性之间的平衡。因此日本专利申请特开 2005-31361号的措施还不够。另外,当通过真空蒸镀法在透镜的表面上形成增透膜时,作为进 一步检查的结果,很明显随着入射到透镜中的光的入射角增大,增透 膜的膜厚减小。对于入射角为0。处的光学膜厚为D nm的情况来说, 入射角为0处的光学膜厚在从大约Dcos(3/40) nm至大约Dcos(8/99) nm的范围内。还发现,由于蒸镀源放置在从圆顶(透镜设置在该圆 顶上)的中心偏移的位置处,并且其上设置有透镜的该圓顶在通用蒸 镀器中具有任意的角度,因此导致在来自蒸镀源的蒸镀材料的入射角 根据设置在圆顶上的透镜表面的位置和方向而变化时,光学膜厚具有 一定量的分布。因此,以下问题也变得清晰当光源侧的数值孔径变 得越大时,膜厚减小程度的差异也变得越大,以及透镜周围部分的反 射率变得更高,这使周围部分的透射率进一步下降。
技术实现思路
因此,本专利技术的主要目的是提供一种物镜以及使用该物镜的光拾 取设备,该物镜对多个波长区域的光具有兼容性,并且在确保对每个波长的高透射率的情况下具有环境耐受力和耐光性。根据本专利技术的一方面,提供一种用于光拾取设备的物镜,该光拾 取设备通过来自光源的光来对光学信息记录介质执行写和/或读,该物 镜包括光源侧表面上的增透膜,其中通过该物镜,将包括380nmS>JS420nm的范围内的波长Zl和 630nn^X2^10nm的范围内的波长的多个波长的光通量会聚到光 学信息记录介质上,关于波长U的光源侧数值孔径在0.8至0.9的范围内, 关于波长U的光源侧数值孔径为0.7或更小,以及在波长区域为 400nm至1200nm中垂直进入表面的中心部分的光通量的反射率为3.0 %或更小的情况下,增透膜的波带(band)在700nm至800nm的范 围内。根据本专利技术的另一方面,提供一种光拾取设备,该光拾取设备包 括上述物镜,其中所述物镜通过塑模而形成。根据本专利技术,可以提供一种物镜以及使用该物镜的光拾取设备, 该物镜在确保对各波长的光的高透射率的情况下具有环境耐受力和耐 光性。附图说明通过下面所给出的详细说明以及附图,可以更全面地理解本专利技术 的以上和其它目的、优点和特征,这些附图仅以示例的方式给出,而 并非希望限制本专利技术,以及其中图1是示出将用于本专利技术的优选实施例的光拾取设备的示意性配 置的图2是示出将用于本专利技术的优选实施例的物镜的示意性配置的图3是示出根据本专利技术的优选例子(例子1-5)的样品的波长与 反射率之间的关系的示意图4是示出根据相比于本专利技术的优选例子的比较例子(比较例子 1-5)的样品的波长与反射率之间的关系的示意图;以及图5是示出根据本专利技术的优选例子(例子6-10 )的样品的波长与 反射率之间的关系的示意图。具本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种用于光拾取设备的物镜,该光拾取设备用于通过来自光源的光来对光学信息记录介质执行写和/或读,该物镜包括位于光源侧表面上的增透膜,其中 通过该物镜,将包括380nm≤λ1≤420nm的范围内的波长λ1和630nm≤λ2≤810nm的范围内的波长λ2的多个波长的光通量会聚在光学信息记录介质上, 关于波长λ1的光源侧数值孔径在0.8至0.9的范围内, 关于波长λ2的光源侧数值孔径为0.7或更小,以及 在对波长区域为400nm至1200nm中垂直进入表面的中心部分的光通量的反射率为3.0%或更小的情况下,增透膜的波带在700nm至800nm的范围内。

【技术特征摘要】
JP 2007-8-28 2007-2212221. 一种用于光拾取设备的物镜,该光拾取设备用于通过来自光源的光来对光学信息记录介质执行写和/或读,该物镜包括位于光源侧表面上的增透膜,其中通过该物镜,将包括380nm≤λ1≤420nm的范围内的波长λ1和630nm≤λ2≤810nm的范围内的波长λ2的多个波长的光通量会聚在光学信息记录介质上,关于波长λ1的光源侧数值孔径在0.8至0.9的范围内,关于波长λ2的光源侧数值孔径为0.7或更小,以及在对波长区域为400nm至1200nm中垂直进入表面的中心部分的光通量的反射率为3.0%或更小的情况下,增透膜的波带在700nm至800nm的范围内。2. 根据权利要求1所述的物镜,其包括光源侧表面上的增透膜, 其中,对波长区域为1100nni至1200nm中垂直进入表面的中心部分 的光通量的平均反射率在2.0%至3.5%的范围内。3. 根据权利要求1所述的物镜,其中,波长X2包括 在630nm^Z2al670nm的范围内的第一波长X2a;以及 在760nm$k2b5810nm的范围内的第二波长X2b。4. 根据权利要求1所述的物镜,其中,波长为?J的光通量在光源侧表面上的最大入射和出射角0n,ax在60。^ma^72。的范围内。5....

【专利技术属性】
技术研发人员:高国彦
申请(专利权)人:柯尼卡美能达精密光学株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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