盘片装置的读写头滑块制造方法及图纸

一种盘片装置的读写头滑块，包括：磁性元件，适于在盘状磁记录介质上方飞行以在该磁性元件和该磁记录介质之间记录或再生磁信息；读写头滑块的与介质相对的表面，相对于介质运转的方向该表面形成有位于上游端的流入垫部分和从流入垫部分向下游延伸的一对侧轨部分，以及在读写头滑块的下游端位于中心部分的中心垫和位于中心垫两侧并且在中心垫的上游的一对侧垫；中心垫具有空气支承面和位于空气支承面的流出侧并且高度小于空气支承面高度的台阶面，空气支承面在中心垫的流出区域具有横向延伸部分并且在中心垫的各侧具有前部纵向延伸部分以限定大致Ｕ形的结构，台阶面具有空气支承面的正前方区域以及从正前方区域向读写头滑块的上游延伸的中心突起。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及盘片装置的读写头滑块，更具体地，涉及下述盘片装置 的读写头滑块，该读写头滑块包括磁性元件，该磁性元件适合于在盘状 磁记录介质上方飞行，以在磁性元件与磁记录介质之间记录或再生磁信 息，其中相对于该介质运转的方向，在该读写头滑块的与该介质相对的 表面上形成有位于上游端的流入垫(pad)部分和从该流入垫部分向下 游延伸的一对侧轨(side rail)部分；以及在读写头滑块的下游端位于 中心部分的中心垫和位于该中心垫的两侧并且在该中心垫上游的一对侧 垫。
技术介绍
首先，参照图15说明其上安装有磁性滑动读写头的传统盘片装置。 图15是传统盘片装置1的平面图，其中以预定的间隔在可旋转心轴上安 装有一个或多个盘状磁记录介质3。为各个旋转磁记录介质3的正面和反面均设置读写头滑块10，各个 读写头滑块10通过位于可摆动地支撑在枢轴上的执行器的臂4的端部的 悬架5来支撑。通过音圈电机6使读写头滑块10在各个介质表面上沿径 向移动(以进行寻道操作)。如图16所示，具有上述结构的盘片装置1的读写头滑块10在盘状 记录介质上基本上沿径向向外或向内移动，同时在由高速旋转的盘状记 录介质3产生的正压或负压的作用下在介质表面上方飞行。在图16中，通过磁记录介质3在沿箭头P的方向上的高速旋转，在磁记录介质3和读写头滑块10之间沿箭头P的方向产生如图所示的气流。通过该气膜，在正压或负压的作用下，读写头滑块IO距离磁记录介质3 的表面预定的高度飞行，并且与磁记录介质3的表面保持预定的间隔关 系。为了实现磁记录介质3的高密度封装，希望将读写头滑块10设置得 尽可能接近盘状记录介质3。然而，在各种条件下，希望在介质表面和读 写头滑块之间保持预定的间隔。如果读写头滑块10的总长度为1. 25nm， 则读写头滑块10的安装有记录/再生磁性元件7的离介质表面最近的部 分距离介质表面的飞行高度t为几十和几nm,或者大约15nm。在图17中，具有上述结构的盘片装置的读写头滑块10由于由沿箭 头P的方向高速旋转的盘状记录介质3产生的力而在介质表面上方飞行， 同时该读写头滑块10在盘状记录介质上方基本上沿径向向外或向内移动 (寻道操作)。结果，盘状记录介质3相对于读写头滑块10的运转速度根据读写头 滑块10是沿盘状记录介质3的内周侧、中间周侧还是外周侧运动而变化。 同时，磁记录介质3相对于读写头滑块10的运转方向，g卩，速度矢量V1、 V2、 V3及其方向也发生变化。具体地，在最内周和最外周之间，运转速 度变化了大约两倍，而速度矢量变化了大约25度。因此，在设计盘片装置的读写头滑块10时，在盘状记录介质3的整 个圆周上尽可能保持读写头滑块的飞行高度t (图16) —致是很重要的， 甚至允许存在速度的变化或速度矢量的变化。通过类似的方式，在支撑读写头滑块10的执行器的臂4 (图15)进 行寻道操作的情况下，安装在臂4前端的读写头滑块10在某些定时沿盘 状记录介质3的径向向内移动，而在其它定时向外移动。在该过程中， 寻道操作与读写头滑块10相对于记录介质3的速度矢量的合成使速度矢 量(V4和Vs)的方向改变了大约15度。因此，对于气流的这种方向变化，要求读写头滑块在记录介质上方 的飞行高度尽可能保持一致。此外，要求携带该盘片装置的设备(无论是固定计算机还是移动个4人计算机)能够承受包括低气压在内的多种工作条件。通常，HDD (硬 盘驱动器)要求考虑在高的海拔高度使用，因此，HDD即使在海平面以上 3000m的高度也必须保证能够工作。此外，考虑到诸如加工误差和装配误差等制造问题而需要鲁棒的设计。在上述盘片装置的读写头滑块的所有设计问题中，本专利技术特别倾向 于提供一种可以在低气压下使用的盘片装置的读写头滑块。具体地，传统盘片装置的读写头滑块产生的问题在于在低气压下读 写头滑块的飞行高度降低。尤其在支撑于执行器的臂的自由端处的读写 头滑块位于盘片介质的内侧(内顶U)，同时沿旋转磁介质的径向进行寻道 操作的情况下，盘状记录介质相对于读写头滑块的圆周速度很低，以至 于不能确保向读写头滑块提供足够的空气支承(air-bearing)压力。结 果，随着气压的下降飞行高度大大降低。确保读写头滑块几乎不依赖于气压，即，具有能够可靠地克服低气 压的特性的尝试会遇到克服圆周速度变化的鲁棒性下降的问题。此外， 如同读写头滑块的飞行高度一样，随着气压的下降，提供转动读写头滑 块相对于介质的上游或下游方向的倾角的俯仰角(pitch angle)减 小。在与本专利技术相关的日本未审专利公报No. 2003-323706中公开的传 统技术提出了下述的读写头，其中在滑块体在磁记录介质上方飞行的情 况下，通过减小气压对磁芯和磁记录介质之间的间隔的影响来防止磁芯 与磁记录介质相接触。JP-A 2003-323706公幵了一种磁记录装置的读写头滑块，其中在与 介质相对的滑块体表面的流出端(尾端部分)的中部形成有具有磁芯的 中心垫部分，并且在比中心垫部分更接近流入端(前端)的横向端部形 成有多个侧垫部分。与介质相对的两个侧垫部分的表面的总面积大于与 介质相对的中心垫部分的表面的面积。各个垫部分形成有低于前端上的 其它部分的前台阶面。如上所述，已对通过调整与介质相对的中心垫部分和侧垫部分的表面面积来提高读写头滑块克服气压变化的鲁棒性进行了尝试。然而，在 专利参考文献1中公开的方法只考虑了与介质呈相对关系的中心垫部分 和侧垫部分的表面面积，并没有充分考虑中心垫和侧垫产生的压力的大 小。鉴于此，根据本专利技术，不论与介质相对的中心垫部分和侧垫部分的 表面面积如何，侧垫部分中产生的正压增大至超过中心垫部分中产生的 正压，从而确保克服气压变化的鲁棒性。此外，可以通过适当地设计侧 垫部分的形状来进一步提高克服更大的气压变化的鲁棒性。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是提供一种盘片装置的读写头滑块，该读写头 滑块在旋转的盘状磁记录介质上方飞行，并且具有对气压的依赖性较小 的特性，S卩，能够可靠克服气压变化，并且即使在低气压下也能使读写 头滑块的飞行高度变化最小。根据本专利技术，提供了一种盘片装置的读写头滑块，该读写头滑块包 括磁性元件，其适于在盘状磁记录介质上方飞行以在该磁性元件与该 磁记录介质之间记录或再生磁信息；该读写头滑块的与该介质相对的表 面，相对于介质运转的方向，该表面形成有位于上游端的流入垫部分和 从该流入垫部分向下游延伸的一对侧轨部分，以及在读写头滑块的下游 端位于中部的中心垫和位于该中心垫两侧并且在该中心垫的上游的一对侧垫；其中当读写头滑块位于磁记录介质的内周区域时，由侧垫产生的 正压大于由中心垫产生的正压。在如上所述的盘片装置的读写头滑块中，至少一个侧垫具有空气支 承面和台阶面，该台阶面的高度小于该空气支承面的高度，空气支承面 和台阶面之一具有纵向延伸部分和横向延伸部分以限定一大致L形的结 构，其中，所述一对侧垫的外侧边缘不相对于所述一对侧轨部分的外侧 边缘突出，而是基本上与所述一对侧轨部分的外侧边缘一致。该对侧垫中的至少一个具有该大致L形结构的纵向延伸部分，并且 该纵向延伸部分相对于磁记录介质位于外周侧，以使该大致L形的结构6相对于磁记录介质向内周侧开口 。如上所述，在盘片装置的读写头本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种盘片装置的读写头滑块，其包括：　磁性元件，该磁性元件适于在盘状磁记录介质上方飞行以在该磁性元件和该磁记录介质之间记录或再生磁信息；　所述读写头滑块的与所述介质相对的表面，相对于所述介质运转的方向，该表面形成有位于上游端的流入 垫部分和从该流入垫部分向下游延伸的一对侧轨部分，以及在所述读写头滑块的下游端位于中心部分处的中心垫和位于该中心垫的两侧并且在该中心垫的上游的一对侧垫；并且　所述中心垫具有空气支承面和位于该空气支承面的流出侧并且高度小于该空气支承面高度 的台阶面，该空气支承面在所述中心垫的流出区域具有横向延伸部分并且在所述中心垫的各侧具有前部纵向延伸部分，以限定一大致Ｕ形的结构，并且该台阶面具有该空气支承面的正前方区域以及从该正前方区域向所述读写头滑块的上游延伸的中心突起。

【技术特征摘要】
JP 2004-3-31 2004-1064261. 一种盘片装置的读写头滑块，其包括磁性元件，该磁性元件适于在盘状磁记录介质上方飞行以在该磁性元件和该磁记录介质之间记录或再生磁信息；所述读写头滑块的与所述介质相对的表面，相对于所述介质运转的方向，该表面形成有位于上游端的流入垫部分和从该流入垫部分向下游延伸的一对侧轨部分，以及在所述读写头滑块的下游端位于中心部分处的中心垫和位于该中心垫的两侧并且在该中心垫的上...

【专利技术属性】
技术研发人员：洼寺裕之，
申请(专利权)人：富士通株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]