一种催化氧化法脱除工业级笑气中烃类的方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种催化氧化法脱除工业级笑气中烃类的装置，其特征在于，包括依次通过管道串联的气化系统、回热系统和脱烃系统，所述回热系统与所述冷却系统连接，所述脱烃系统与所述回热系统连接；其中，所述脱烃系统包括加热装置和脱烃装置，笑气经回热系统预热后，再经所述加热装置加热进入所述脱烃装置内，所述脱烃装置内设有催化剂；所述脱烃装置内反应后的笑气循环回流至所述回热系统中回收热量，最终经所述冷却系统冷却。本发明专利技术采用贵金属

【技术实现步骤摘要】
一种催化氧化法脱除工业级笑气中烃类的方法及装置


[0001]本专利技术涉及笑气提纯的
，具体涉及一种催化氧化法脱除笑气中烃类的方法及装置。

技术介绍

[0002]笑气的化学名称为氧化亚氮，氧化亚氮主要来源于己二酸、硝酸生产过程中的副产物，笑气是一种强大的温室气体，在大气中的存留时间长，并可输送到平流层，是导致臭氧层损耗的物质之一。笑气主要应用于电子工业与医学领域中。尤其在电子工业中，电子级笑气是半导体集成电路制造过程中不可或缺的关键支撑材料，但是对其纯度要求甚高，至少在99.999％(5N) 以上。同时，随着我国电子行业的不断发展，电子级笑气更是现代光电子、微电子、大型集成电路、光纤制造领域必要的基础原料，显然，电子级笑气的纯度直接与下游产品的质量息息相关。
[0003]目前，我国高纯度的笑气主要还是依赖于进口，一方面价格昂贵，另一方面制约了我国半导体技术的发展。原因在于，我国生产的笑气纯度都比较低，达不到作为半导体光电期间生产的要求，因此促进我国半导体集成电路的发展，亟待提高我国笑气的提纯技术。
[0004]从我国现有国本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种催化氧化法脱除工业级笑气中烃类的装置，其特征在于，包括依次通过管道串联的气化系统、回热系统和脱烃系统，所述回热系统与所述冷却系统连接，所述脱烃系统与所述回热系统连接；其中，所述脱烃系统包括加热装置和脱烃装置，笑气经回热系统预热后，再经所述加热装置加热进入所述脱烃装置内，所述脱烃装置内设有催化剂；所述催化剂能够催化氧化烃类并抑制笑气分解；所述脱烃装置内反应后的笑气循环回流至所述回热系统中回收热量，最终经所述冷却系统冷却。2.如权利要求1所述的催化氧化法脱除工业级笑气中烃类的装置，其特征在于，所述回热系统为回热式热交换器，所述冷却系统为冷却器。3.如权利要求1所述的催化氧化法脱除工业级笑气中烃类的装置，其特征在于，所述加热装置为电加热器，所述脱烃装置为脱烃塔。4.一种催化氧化法脱除工业级笑气中烃类的方法，其特征在于，在压力为1.5～3.0MPa条件下，经催化剂在300～480℃催化，烃类、一氧化碳和氢气与氧气反应生成二氧化碳和水，以脱除笑气中的烃类，其中所述催化剂的活性成分为贵金属和过渡金属氮化物的混合物。5.如权利要求4所述的催化氧化法脱除工业级笑气中烃类的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将工业级的液态笑气通过气化器在压力为1.5～3.0M...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈剑军，汪民霞，聂俊国，温海涛，徐聪，
申请(专利权)人：苏州金宏气体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：