本发明专利技术涉及一种清洗装置，包括具有进料口和出料口的箱体结构，以及位于箱体结构内部的第一超声清洗单元、第二超声清洗单元、离子溅射单元，箱体结构内还设置有用于控制从进料口进入的待清洗件的运动状态的移动结构；第一超声清洗单元包括用于容纳超纯水的第一容纳槽，第一超声波发生结构和第一喷淋结构；第二超声清洗单元包括用于容纳酸性清洗液的第二容纳槽，第二超声波发生结构、鼓泡结构和第二喷淋结构；离子溅射单元包括第三容纳槽，惰性气体提供结构和电压提供结构，电压提供结构用于提供负电压，使得第三容纳槽内的惰性气体产生离子或原子，以对待清洗件进行离子轰击溅射。本发明专利技术还提供一种清洗方法。发明专利技术还提供一种清洗方法。发明专利技术还提供一种清洗方法。
【技术实现步骤摘要】
清洗装置和清洗方法
[0001]本专利技术涉及清洗
，尤其涉及一种清洗装置和清洗方法。
技术介绍
[0002]目前，外延片的生产多采用型号为300Centura外延炉，其排气管道的总长度大多在0.5m左右、内径约为50mm，且由于排气不可逆流和空间条件限制，管道存在较多的弯折结构和复杂形状。为了避免上述颗粒物堵塞尾管或出现未反应完全的高活性粉末过度沉积，因此需要定期对尾管进行清理维护。由于管道内部沉积物的活性过高，直接接触空气很容易引发爆燃事故，因此需周期性的对尾管进行拆卸清洗甚至更换。但是，尾管的清洗工作十分困难，需要专业的人员来进行操作，资金和人力的耗费都很大。
技术实现思路
[0003]为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种清洗装置和清洗方法，解决外延炉排气尾管不易清洗的问题。
[0004]为了达到上述目的，本专利技术实施例采用的技术方案是：一种清洗装置，用于清洗外延沉积反应炉体排气管道，包括具有进料口和出料口的箱体结构，以及位于所述箱体结构内部的第一超声清洗单元、第二超声清洗单元、离子溅射单元，所述箱体结构内还设置有用于控制从所述进料口进入的待清洗件的运动状态的移动结构；
[0005]所述第一超声清洗单元包括用于容纳超纯水的第一容纳槽，第一超声波发生结构和第一喷淋结构，所述第一超声发生结构设置于所述第一容纳槽的底部，所述第一喷淋结构设置于所述第一容纳槽的侧壁上，且所述第一喷淋结构位于相应的所述侧壁靠近所述第一容纳槽的顶部的部分；
[0006]所述第二超声清洗单元包括用于容纳酸性清洗液的第二容纳槽，第二超声波发生结构、鼓泡结构和第二喷淋结构，所述鼓泡结构设置于所述第二容纳槽的侧面或者底部，所述第二喷淋结构设置于所述第二容纳槽的侧壁上，且所述第二喷淋结构设置于相应的所述侧壁靠近所述第二容纳槽的顶部的部分；
[0007]所述离子溅射单元包括第三容纳槽，惰性气体提供结构和电压提供结构，所述第三容纳槽内设置有用于承载待清洗件的载物台，所述惰性气体结构用于通过所述第三容纳槽侧壁上的气体入口向第三容纳槽内输入惰性气体，所述电压提供结构用于对所述载物台提供负电压，所述第三容纳槽的外壳接地，使得所述第三容纳槽的外壳与所述载物台之间形成压差，以击穿所述第三容纳槽内的惰性气体形成游离的离子、离子团或原子，以对待清洗件进行离子轰击溅射；
[0008]所述移动结构包括机械手臂。
[0009]可选的，还包括清洗液提供单元和排液单元；
[0010]所述清洗液提供单元包括储液结构，以及用于向所述第一容纳槽提供超纯水的第一输入管道，向所述第二容纳槽内提供酸性清洗液的第二输入管道；
[0011]所述排液单元包括废液存储结构，以及与所述第一容纳槽的底部的排液孔连通的第一输出管道，和与所述第二容纳槽的底部的排液孔连通的第二输出管道。
[0012]可选的，包括控制单元，所述控制单元包括设置于所述箱体结构外部的人机交互控制面板，
[0013]所述控制单元用于控制所述移动结构带动待清洗件在所述第一超声清洗单元、所述第二超声清洗单元和所述离子溅射单元中传输，并控制所述第一超声清洗单元、所述第二超声清洗单元和所述离子溅射单元按照预设顺序处于工作状态以对待清洗件进行清洗。
[0014]可选的，所述第二超声清洗单元还包括氮气提供结构，用于对清洗完成的待清洗件提供氮气，以去除待清洗件表面残留的水分。
[0015]可选的，还包括喷丸处理单元，所述喷丸处理单元包括一容纳腔室，所述容纳腔室的侧壁和/或顶部设置有喷枪以向待清洗件喷射石英砂；所述喷丸处理单元还包括压缩气体提供结构，用于携载石英砂形成高速喷射流，从所述喷枪喷出。
[0016]可选的，还包括使得所述箱体结构的内部压力高于外部压力的排风结构，所述排风结构包括设置于所述箱体结构的侧壁上的入风孔，以及设置于所述箱体结构的侧壁或顶部上的排风孔，所述排风孔通过气体管道与真空设备连接，以使得所述箱体结构内的压力小于外界压力。
[0017]本专利技术还提供一种清洗方法，通过上述的清洗装置实现，包括以下步骤：
[0018]步骤1：将待清洗件放入容纳有超纯水的第一容纳槽，进行超声清洗；
[0019]步骤2：对待清洗件进行喷淋冲洗；
[0020]步骤3：将待清洗件放入容纳有酸性清洗液的第二容纳槽中，再次进行超声清洗；
[0021]步骤4：对待清洗件进行喷淋冲洗；
[0022]步骤5：对待清洗件进行离子溅射处理。
[0023]可选的，所述步骤3具体包括：
[0024]步骤31：采用比例为1:7的氢氟酸和超纯水构成的酸性清洗液对待清洗件进行超声清洗和鼓泡清洗；
[0025]步骤32：采用比例为1:10的氢氟酸和超纯水构成的酸性清洗液对待清洗件进行超声清洗和鼓泡清洗。
[0026]可选的，所述步骤3还包括重复所述步骤31和所述步骤32，对待清洗件循环进行多次清洗。
[0027]可选的，步骤31中的超声频率为40KHz，步骤32中的超声频率为120
‑
160KHz。
[0028]可选的，所述步骤4之后还包括：
[0029]向待清洗件喷射氮气，以去除表面残留水分。
[0030]可选的，所述步骤1中的超声频率为28KHz。
[0031]可选的，所述步骤5之前还包括：
[0032]步骤S1：对待清洗件的表面粗糙度进行判断；
[0033]步骤S2：在步骤S1的判断结果为粗糙度超过预设值时，进行以下步骤：采用石英砂对待清洗件进行喷丸处理；
[0034]步骤S3：返回上述步骤1，并依次执行上述步骤1
‑
步骤4，再次对待清洗件进行清洗；或者，返回上述步骤2，并依次执行上述步骤2
‑
步骤4，再次对待清洗件进行清洗；或者
[0035]返回上述步骤3，并依次执行上述步骤3
‑
步骤4，再次对待清洗件进行清洗；或者
[0036]执行所述步骤2，或者执行所述步骤4。
[0037]本专利技术的有益效果是：实现自动清洗，且安全有效的去除排气管道内的副产物，并保证清洗后管道的洁净度。
附图说明
[0038]图1表示本专利技术实施例中清洗装置结构示意图；
[0039]图2表示本专利技术实施例中离子溅射单元结构示意图；
[0040]图3表示本专利技术实施例中清洗流程示意图。
具体实施方式
[0041]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例的附图，对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本专利技术的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0042]在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，其特征在于，包括具有进料口和出料口的箱体结构，以及位于所述箱体结构内部的第一超声清洗单元、第二超声清洗单元、离子溅射单元，所述箱体结构内还设置有用于控制从所述进料口进入的待清洗件的运动状态的移动结构；所述第一超声清洗单元包括用于容纳超纯水的第一容纳槽，第一超声波发生结构和第一喷淋结构，所述第一超声发生结构设置于所述第一容纳槽的底部，所述第一喷淋结构设置于所述第一容纳槽的侧壁上，且所述第一喷淋结构位于相应的所述侧壁靠近所述第一容纳槽的顶部的部分；所述第二超声清洗单元包括用于容纳酸性清洗液的第二容纳槽，第二超声波发生结构、鼓泡结构和第二喷淋结构，所述鼓泡结构设置于所述第二容纳槽的侧面或者底部，所述第二喷淋结构设置于所述第二容纳槽的侧壁上，且所述第二喷淋结构设置于相应的所述侧壁靠近所述第二容纳槽的顶部的部分；所述离子溅射单元包括第三容纳槽，惰性气体提供结构和电压提供结构，所述第三容纳槽内设置有用于承载待清洗件的载物台，所述惰性气体结构用于通过所述第三容纳槽侧壁上的气体入口向所述第三容纳槽内输入惰性气体，所述电压提供结构用于对所述载物台提供负电压，所述第三容纳槽的外壳接地，使得所述第三容纳槽的外壳与所述载物台之间形成压差，以击穿所述第三容纳槽内的惰性气体形成游离的离子、离子团或原子，以对待清洗件进行离子轰击溅射；所述移动结构包括机械手臂。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括清洗液提供单元和排液单元；所述清洗液提供单元包括储液结构，以及用于向所述第一容纳槽提供超纯水的第一输入管道，向所述第二容纳槽内提供酸性清洗液的第二输入管道；所述排液单元包括废液存储结构，以及与所述第一容纳槽的底部的排液孔连通的第一输出管道，和与所述第二容纳槽的底部的排液孔连通的第二输出管道。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，包括控制单元，所述控制单元包括设置于所述箱体结构外部的人机交互控制面板，所述控制单元用于控制所述移动结构带动待清洗件在所述第一超声清洗单元、所述第二超声清洗单元和所述离子溅射单元中传输，并控制所述第一超声清洗单元、所述第二超声清洗单元和所述离子溅射单元按照预设顺序处于工作状态以对待清洗件进行清洗。4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述第二超声清洗单元还包括氮气提供结构，用于对清洗完成的待清洗件提供氮气，以去除待清洗件表面残留的水分。5.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，还包括喷丸处理单元，所述喷丸处理单元包括一容纳...
【专利技术属性】
技术研发人员：牛景豪，曹岩，
申请(专利权)人：西安奕斯伟材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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