可倾斜动作的光拾取致动器及使用其的光记录和/或再现装置制造方法及图纸

一种光拾取致动器和采用其的光记录和／或再现装置。包括一个用于装配物镜的绕线架，及悬线，悬线的一端固定于该绕线架的一侧，另一端固定于设置在一基座的一部分的一个固定架上，使绕线架能相对于基座移动。一个磁路置于该绕线架和基座上，其包括一对设置于该基座上并面向该绕线架的两个侧面的单极磁体。一个聚焦线圈缠绕于该绕线架上。一对跟踪线圈在径向上邻接于物镜并相互对立地缠绕，与聚焦线圈交叉，该跟踪线圈围绕该绕线架并与该单极磁体相互作用产生用于控制跟踪动作的电磁力。在该绕线架的上部和／或下部安装多数目的倾斜线圈并且当该物镜的中心轴以朝上和朝下方向设置时，该倾斜线圈与该单极磁体相互作用产生用于控制倾斜动作的电磁力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光拾取致动器及使用该致动器的光记录和/或再现装置与方法，并且更具体地涉及一种可倾斜动作的光拾取致动器及使用该致动器的光记录和/或再现装置与方法，通过减小磁体的数目可用低成本制造该光拾取致动器。
技术介绍
通常，在用于向/从一记录介质，如一光盘，记录/再现信息的光记录和/或再现装置中，安装有光拾取器，它不与光盘接触且能在光盘的径向上移动。这种光拾取器需要一个致动器，用它来使一物镜在跟踪方向、聚焦方向和/或倾斜方向上移动，以便从一光源发射的激光束入射至该光盘的正确位置。跟踪方向的移动用于在该光盘的径向上调整该物镜，以使该光束的聚光点形成于轨迹的中心。这种光拾取致动器执行跟踪和聚焦动作，也就是双轴动作。近年来，为促进高记录密度光盘的使用，提高了物镜的数值孔径(NA)并减小了光源的波长，从而光拾取致动器的倾斜容限也随之缩小了。为了使用这种高记录密度介质，光拾取致动器需要三轴动作。在现有的双轴动作上需要增加倾斜动作，特别是径向倾斜动作。这样的话，就需要一种能像执行现有的双轴动作一样执行倾斜动作的三轴动作光拾取致动器。该三轴动作光拾取致动器就是所谓的倾斜动作光拾取致动器。该倾斜动作光拾取致动器通常具有一种一体化的四面(four-sided)磁路结构。该四面磁路具有设置于绕线架的四个侧面的驱动线圈和磁体。图1是一种常规倾斜动作光拾取致动器的实例的示意图。参见图1，该倾斜动作光拾取致动器包括一个绕线架2，其中装配有一个物镜，以及多数量的导线6a、6b。每根导线的一端固定于该绕线架2的一侧，另一端连接于设置在基座(未示出)的一部分上的固定架3。这使得该绕线架2和可动部分(未示出)能够在聚焦方向与跟踪方向上相对于基座移动。一个四面磁路移动该可动单元。导线中的4根6a作为悬挂装置支持该相对于基座的可动部分。在图1中只显示出了四根吊线6a中的两根。附图标记6b代表的是用于加载倾斜动作的电流的导线。该四面磁路包括一对沿光盘径向上的位于该绕线架2的相对两端的聚焦线圈4a和4b，和一对沿光盘的切线方向安装于该绕线架2的相对两侧的跟踪线圈4c和4d。磁体5a至5d和流过聚焦线圈4a、4b与跟踪线圈4c、4d的电流相互作用以产生驱动可动单元的电磁力。该四面磁路还包括磁轭8。在传统的倾斜动作光拾取致动器中，电流一施加于聚焦线圈4a、4b与跟踪线圈4c、4d，流过该聚焦线圈4a、4b与跟踪线圈4c、4d的该电流就与从磁体5a至5d发出的磁通量相互作用，以产生一电磁力并作用于该聚焦线圈4a、4b与跟踪线圈4c、4d。从而，该可动部分就能在聚焦方向与跟踪方向上移动。结果，装配于绕线架2的物镜1在聚焦方向与跟踪方向上移动。当将电流以相反的方向加载至各个聚焦线圈4a和4b时，电磁力以相反方向作用于聚焦线圈4a和4b，则该可动单元就以一径向倾斜方向移动。结果，装配于绕线架2的物镜1在径向倾斜方向上移动。由于该电磁力起作用的方向是平行于该物镜1的中心轴的方向，该磁体5a和5b与聚焦线圈4a和4b用于聚焦动作和倾斜动作。换言之，当在聚焦线圈4a和4b上加载相同大小和方向的电流时，以一预定位移执行聚焦动作。当在聚焦线圈4a和4b上加载相同大小但方向相反的电流时，执行倾斜动作。然而，该传统的倾斜动作光拾取致动器包括一四面磁路，该四面磁路具有安装于该绕线架2的四个侧面的四个预先缠绕的线圈4a至4d和四个磁体5a至5d。于是，该传统结构所需的四个线圈4a至4d和四个磁体5a至5d增加了部件的数目和生产成本，其结果是导致生产力低下。该预先缠绕的线圈需要缠绕线圈的过程和将该缠好的线圈粘结于绕线架上的过程。这样就增加了制造步骤的数目。另外，预先缠绕线圈在质量上不如直接缠绕的线圈。而且，它需要四个磁体。此外，在传统的倾斜动作光拾取致动器中，磁体面向该绕线架2的四个侧面，且聚焦与跟踪线圈面向磁体的设置于该绕线架2的每一侧面上，其结果是在聚焦线圈和跟踪线圈之间的缠绕变得复杂。
技术实现思路
从而，本专利技术的一个方面提供了一种倾斜动作光拾取致动器，其包括一廉价的磁路，且能够只使用两个单极磁体就能够在除聚焦和跟踪动作之外执行倾斜动作；并提供了一种使用该倾斜动作光拾取致动器的光记录和/或再现装置。根据本专利技术的一个方面，一种光拾取致动器，包括一个用于装配物镜的绕线架，和一个悬挂装置，该悬挂装置的一端固定于该绕线架的一侧，另一端固定于设置在一基座的一部分的一个固定架上，以使该绕线架能相对于该基座移动。一个磁路置于该绕线架和基座上，并包括一对设置于该基座上并面向该绕线架的两个侧面的单极磁体。一个聚焦线圈缠绕于该绕线架上，且一对跟踪线圈在径向上邻接于物镜并相互对立地缠绕，并使其与聚焦线圈交叉。该跟踪线圈围绕该绕线架并与该单极磁体相互作用以产生一用于控制跟踪动作的电磁力。在该绕线架的上部和/或下部安装多数目的倾斜线圈并且当该物镜的中心轴以朝上和朝下方向设置时，该倾斜线圈与该单极磁体相互作用以产生一用于控制倾斜动作的电磁力。该朝上方向是靠近该光记录介质的方向，而该朝下方向与之相反。根据本专利技术的一个方面，在该绕线架上形成线轴以使该跟踪线圈和/或倾斜线圈直接缠绕在该线轴上。根据本专利技术的一个方面，在该绕线架的上部相互对立地形成第一对线轴，它在径向上邻接于物镜以在其上缠绕跟踪和倾斜线圈。该倾斜线圈缠绕于该绕线架上部的第一对线轴。根据本专利技术的一个方面，在该绕线架的下部相互对立地形成第二对线轴，它在径向上邻接于物镜以在其上缠绕跟踪和倾斜线圈。该倾斜线圈缠绕于该绕线架下部的第二对线轴。根据本专利技术的一个方面，在该绕线架的上和/或下部，有一支架分离于线轴以保持该物镜，以减少在物镜上的来自于线圈的热效应。在该绕线架上设置跟踪线圈和聚焦线圈以致使跟踪线圈的有效线圈部分比聚焦线圈的有效线圈部分更接近于该单极磁体，或者使聚焦线圈的有效线圈部分比跟踪线圈的有效线圈部分更接近于该单极磁体。在该绕线架中至少形成一个腔，以减少从聚焦线圈、跟踪线圈和/或倾斜线圈上产生的热量传输至物镜。根据本专利技术的另一个方面，一种光记录和/或再现装置包括一光拾取器，该光拾取器包括一个用以驱动物镜的致动器，其可在一光盘的径向上移动以向/从该光盘上记录和/或再现信息。该装置包括一个用于控制光拾取器的聚焦和跟踪伺服操作的控制器和一个用于装配物镜的绕线架。一个悬挂装置的一端固定于该绕线架的一侧，另一端固定于设置在一基座的一部分的一个固定架上，以使该绕线架能相对于该基座移动。一个磁路包括一对设置于该基座上并各自面向该绕线架的一个相对侧面的单极磁体。一个聚焦线圈缠绕于该绕线架上，且一对跟踪线圈在径向上邻接于物镜并相互对立地缠绕，以使其与聚焦线圈交叉、围绕该绕线架并与该单极磁体相互作用以产生一用于控制跟踪动作的电磁力。在该绕线架的上部和/或下部安装多数目的倾斜线圈并且当该物镜的中心轴以朝上和朝下方向设置时，该倾斜线圈与该单极磁体相互作用以产生一用于控制倾斜动作的电磁力。该朝上方向是靠近该光记录介质的方向，而该朝下方向与之相反。下面的描述将逐步阐明本专利技术的其它方面和/或优点，它们从该描述中会变得逐步明显或者也可从本专利技术的实施中得到理解。附图说明从与附图相结合的对实施例的下面的描述将使根据本专利技术的上述和/或其它的方面和优点更加清楚图1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在基座上与一物镜一起使用的光拾取致动器，包括：一保持该物镜的绕线架；一悬挂装置，其一端固定于该绕线架的一侧，而另一端固定在位于该基座的一部分上的固定架上，以使该绕线架能相对于该基座移动；和一磁路，其包括： 一对位于基座上并面向该绕线架的相对两侧的单极磁体，一缠绕于所述绕线架的聚焦线圈，一对跟踪线圈，其相互对立地缠绕且在径向上邻接于物镜，以使其与聚焦线圈和绕线架交叉，该跟踪线圈与该单极磁体相互作用以产生一用于控制跟踪动作的电磁力 ，和多数目的倾斜线圈，其设置在该绕线架的上部和／或下部，并且当该物镜的中心轴以朝上和朝下方向设置时，该倾斜线圈与该单极磁体相互作用以产生一用于控制倾斜动作的电磁力，该朝上方向是靠近一光记录介质的方向。

【技术特征摘要】
KR 2003-2-21 10977/031.一种在基座上与一物镜一起使用的光拾取致动器，包括一保持该物镜的绕线架；一悬挂装置，其一端固定于该绕线架的一侧，而另一端固定在位于该基座的一部分上的固定架上，以使该绕线架能相对于该基座移动；和一磁路，其包括一对位于基座上并面向该绕线架的相对两侧的单极磁体，一缠绕于所述绕线架的聚焦线圈，一对跟踪线圈，其相互对立地缠绕且在径向上邻接于物镜，以使其与聚焦线圈和绕线架交叉，该跟踪线圈与该单极磁体相互作用以产生一用于控制跟踪动作的电磁力，和多数目的倾斜线圈，其设置在该绕线架的上部和/或下部，并且当该物镜的中心轴以朝上和朝下方向设置时，该倾斜线圈与该单极磁体相互作用以产生一用于控制倾斜动作的电磁力，该朝上方向是靠近一光记录介质的方向。2.如权利要求1所述的光拾取致动器，还包括形成于该绕线架上的用于直接缠绕跟踪线圈和/或倾斜线圈的一对线轴。3.如权利要求2所述的光拾取致动器，其中该线轴对包括在该绕线架的上部相互对立地形成的第一线轴对，其在径向上邻接该物镜以在其上缠绕跟踪线圈和倾斜线圈，且该倾斜线圈缠绕于该第一线轴对。4.如权利要求3所述的光拾取致动器，其中该线轴对还包括在该绕线架的下部相互对立地形成的第二线轴对，其在径向上邻接该物镜以在其上缠绕跟踪线圈和倾斜线圈，且该倾斜线圈进一步缠绕于该绕线架的下部的第二线轴对。5.如权利要求2至4中的任一个所述的光拾取致动器，还包括一支架，其与形成于该绕线架上的线轴对间隔开以保持该物镜，以减少在物镜上的热效应。6.如权利要求5所述的光拾取致动器，其中在该绕线架上设置跟踪线圈和聚焦线圈，以使该跟踪线圈的有效线圈部分比该聚焦线圈的有效线圈部分更接近于该单极磁体。7.如权利要求5所述的光拾取致动器，其中在该绕线架上设置跟踪线圈和聚焦线圈，以使该聚焦线圈的有效线圈部分比该跟踪线圈的有效线圈部分更接近于该单极磁体。8.如权利要求5所述的光拾取致动器，其中在该绕线架中还形成一个腔，以减少从聚焦线圈、跟踪线圈和/或倾斜线圈上产生的热量传输至物镜。9.如权利要求1至4中的任一个所述的光拾取致动器，其中在该绕线架上设置跟踪线圈和聚焦线圈，以使该跟踪线圈的有效线圈部分比该聚焦线圈的有效线圈部分更接近于该单极磁体。10.如权利要求1至4中的任一个所述的光拾取致动器，其中在该绕线架上设置跟踪线圈和聚焦线圈，以使该聚焦线圈的有效线圈部分比该跟踪线圈的有效线圈部分更接近于该单极磁体。11.如权利要求1至4中的任一个所述的光拾取致动器，其中在该绕线架中还形成一个腔，以减少从聚焦线圈、跟踪线圈和/或倾斜线圈上产生的热量传输至物镜。12.如权利要求1至4中的任一个所述的光拾取致动器，其中该磁路仅包括一对...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁润卓，宋秉，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]