倾斜检测装置,光盘装置和倾斜控制方法制造方法及图纸

一种倾斜检测装置检测光盘表面关于光束光轴的倾斜（倾角）。该装置具有光头，用于将光束照射在光盘上；光探测器，用于接收光盘反射的光；以及倾斜检测器，用于利用光探测器的信号输出检测光盘记录表面关于光束光轴的倾斜。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
本申请系申请号为CN99801607.1，申请日为1999.7.13，申请人为松下电器产业株式会社，并且题为《倾斜检测装置，光盘装置和倾斜控制方法》的分案申请。上述在先申请要求如下优先权①在先申请日为1998.9.14，在先申请号为JP 259904/1998，以及②在先申请日为1998.12.22，在先申请号为JP 364549/1998，所述优先权的在先申请国均为日本。上述在先申请为PCT申请，其国际申请号为PCT/JP99/03761，国际申请日为1999.7.13，并于2000.3.23以国际公布号WO00/16321由国际局公开。该PCT申请进入中国国家阶段的日期为2000.5.16。本专利技术涉及一种把激光照射在光盘媒体上而存储信息的光盘，及其光盘装置。近年来，光盘装置作为存储和复制大量信息的装置已有很大的发展，实现高密度存储的设备也得到采用。这些方法中之一是利用双向晶体的相位变化型—非晶态变化的光盘装置。在相位变化型光盘装置中，通过利用两个能量装置将半导体激光照射在光盘媒体上，使标记(非晶质部分)和这些标记之间的间隙(结晶部分)都形成于一个光盘媒体上，所述两个能量装置一个本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种倾斜检测装置，用以检测光盘记录表面的倾斜，所述光盘具有连续的磁迹和所形成的第一种偏移凹坑及第二种偏移凹坑，所述凹坑被形成使得该第一种偏移凹坑和第二种偏移凹坑以正交方式分别从一条磁迹的中心线相对于该磁迹的第一侧和第二侧偏移，所述连续磁迹沿着所述中心线位于第二种与第一种偏移凹坑之间，所述倾斜检测装置包括：光头，用于通过将光斑聚焦在所述光盘上切实地记录和重放信号；二隙光探测器，用于切实地接收从所述光盘反射的光，所述光探测器包括沿与磁迹平行方向定向的第一和第二光探 测元件，使所述二隙光探测器分开；跟踪控制机构，用以根据从所述二隙光探测器得到的信号控制所述光斑在所述连续...

【技术特征摘要】
JP 1998-9-14 1998-259904;JP 1998-12-22 1998-3645491.一种倾斜检测装置，用以检测光盘记录表面的倾斜，所述光盘具有连续的磁迹和所形成的第一种偏移凹坑及第二种偏移凹坑，所述凹坑被形成使得该第一种偏移凹坑和第二种偏移凹坑以正交方式分别从一条磁迹的中心线相对于该磁迹的第一侧和第二侧偏移，所述连续磁迹沿着所述中心线位于第二种与第一种偏移凹坑之间，所述倾斜检测装置包括光头，用于通过将光斑聚焦在所述光盘上切实地记录和重放信号；二隙光探测器，用于切实地接收从所述光盘反射的光，所述光探测器包括沿与磁迹平行方向定向的第一和第二光探测元件，使所述二隙光探测器分开；跟踪控制机构，用以根据从所述二隙光探测器得到的信号控制所述光斑在所述连续磁迹上的位置；偏离磁迹检测机构，用于根据由所述二隙光探测器从相对于所述第一种偏移凹坑和第二种偏移凹坑沿着磁迹移动的所述光头得到的重放信号检测光斑的磁迹偏离量；倾斜检测机构，在通过控制所述跟踪控制机构和偏离磁迹检测机构而使光斑实际上位于连续磁迹中心的同时，通过比较第一差值信号和第二差值信号，检测光盘记录表面的倾斜；所述第一差值信号表示在由二隙光探测器接收所述第一种偏移凹坑反射光的情况下从第一和第二光探测元件输出信号之间的差，所述第二差值信号表示在由二隙光探测器接收所述第二种偏移凹坑反射光的情况下从第一和第二光探测元件输出信号之间的差。2.按照权利要求1所述的倾斜检测装置，其中，所述倾斜检测机构切实地比较第一差值信号的包络信号的高值绝对值与第二差值信号的包络信号的高值绝对值。3.按照权利要求1所述的倾斜检测装置，其中，所述倾斜检测机构切实地比较第一差值信号的幅值与第二差值信号的幅值。4.按照权利要求1所述的倾斜检测装置，其中，所述偏离磁迹检测机构通过比较第一求和信号与第二求和信号切实地输出一个偏移设定量，该偏移设定量表示所述磁迹中心与光斑中心间偏移的量；所述第一求和信号表示在由二隙光探测器接收来自所述第一种偏移凹坑的反射光情况下从第一和第二光探测元件输出信号的和，所述第二求和信号表示在由二隙光探测器接收来自所述第二种偏移凹坑的反射光情况下从第一和第二光探测元件输出信号的和。5.按照权利要求1所述的倾斜检测装置，其中，按重复的连续方式提供第一种偏移凹坑，并与第一种偏移凹坑接续地按重复的连续方式提供第二种偏移凹坑。6.按照权利要求5所述的倾斜检测装置，其中，一个间隔Ls表示所述第一种偏移凹坑按该间隔被重复，使得Lp＜Ls＜2Lp，这里的Lp是凹坑长度。7.按照权利要求5所述的倾斜检测装置，其中，一个间隔Ls表示所述第一种偏移凹坑按该间隔被重复，使得20Lp＜Ls，这里的Lp是凹坑长度。8.一种光盘记录和重放装置，用于检测和修正光盘记录表面的倾斜，所述光盘具有连续的磁迹和第一种偏移凹坑及第二种偏移凹坑，所述凹坑被形成使得所述第一种偏移凹坑及第二种偏移凹坑以正交方式分别从一条磁迹的中心线相对于该磁迹的第一侧和第二侧偏移，所述连续磁迹位于第二种与第一种偏移凹坑之间，所述光盘记录和重放装置包括光头，用以通过将光斑聚焦在所述光盘上切实地记录和重放信号；二隙光探测器，用于切实地接收从所述光盘反射的光，所述光探测器包括沿与磁迹平行方向定向的第一和第二光探测元件，使所述二隙光探测器分开；跟踪控制机构，用以从所述二隙光探测器得到的信号控制所述光斑在所述连续磁迹上的位置；偏离磁迹检测机构，用于根据由所述二隙光探测器从相对于所述第一种偏移凹坑和第二种偏移凹坑沿着磁迹移动的所述光头得到的重放信号检测光斑的磁迹偏离量；倾斜检测机构，在通过控制所述跟踪控制机构和偏离磁迹检测机构而使光斑实际上位于连续磁迹中心的同时，通过比较第一差值信号和第二差值信号，检测光盘记录表面的倾斜；所述第一差值信号表示在由二隙光探测器接收所述第一种偏移凹坑反射光的情况下从第一和第二光探测元件输出信号之间的差，所述第二差值信号表示在由二隙光探测器接收所述第二种偏移凹坑反射光的情况下从第一和第二光探测元件输出信号之间的差倾斜修正机构，用于根据所述倾斜检测机构测得的倾角值控制光盘的角度。9.一种用于检测光盘记录表面倾斜的倾斜检测方法，所述光盘具有连续的磁迹和第一种偏移凹坑及第二种偏移凹坑，所述凹坑被形成使得所述第一种偏移凹坑及第二种偏移凹坑以正交方式分别从一条磁迹的中心线相对于该磁迹的第一侧和第二侧偏移，所述连续的磁迹位于第二种与第一种偏移凹坑之间，所述方法包括以下步骤将光斑聚焦在所述光盘上；由光探测器接收从所述光盘反射的光，所述光探测器包括沿与磁迹平行方向定向的第一探测元件和第二光探测元件，使所述光探测器分开；实行跟踪控制，用以根据来自所述光探测器的信号控制所述光斑在所述连续磁迹上的位置；根据由所述光探测器从相对于所述第一种偏移凹坑和第二种偏移凹坑沿着磁迹移动的所述光头得到的重放信号检测光斑磁迹偏离量；在通过控制所述跟踪控制和磁迹偏离检测而使光斑实际上位于磁迹中心的同时，通过比较第一差值信号和第二差值信号，检测光盘记录表面的倾斜；所述第一差值信号表示在接收所述第一种偏移凹坑反射光的情况下从第一和第二光探测元件输出信号之间的差，所述第二差值信号表示在接收所述第二种偏移凹坑反射光的情况下从第一和第二光探测元件输出信号之间的差。10.按照权利要求2所述的倾斜检测装置，其中，所述偏离磁迹检测机构通过比较第一求和信号与第二求和信号切实地给所述跟踪控制机构输出一个偏移设定量，该偏移设定量表示所述磁迹中心与光斑中心间偏移的量；所述第一求和信号表示在由二隙光探测器接收来自所述第一种偏移凹坑的反射光情况下从第一和第二光探测元件输出信号的和，所述第二求和信号表示在由二隙光探测器接收来自所述第二种偏移凹坑的反射光情况下从第一和第二光探测元件输出信号的和；将所述偏移设定量输出。11.按照权利要求3所述的倾斜检测...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村敦史，东海林卫，石田隆，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]