光记录媒质制造技术

一种光记录媒质包括一透射基底以及一形成在透射基底上的记录层，该记录层含有至少一种由化学式所示的通式表示的染料材料（化学式１中，Ｒ１是有１到４个碳原子的烷基，Ｒ２、Ｒ３是有１到４个碳原子的烷基、苄基或结合以形成３到６个环的基团，Ｙ１和Ｙ２独立地是有机基团以及Ｘ代表ＣｌＯ↓［４］，ＢＦ↓［４］，ＰＦ↓［６］，ＳｂＦ↓［６］）和一种由化学式２代表的通式表示的染料材料（化学式２中，Ｒ１和Ｒ２是有１到４个碳原子的烷基、苄基或结合以形成３到６个环的基团，Ｙ１和Ｙ２独立地为有机基团以及Ｘ代表ＣｌＯ↓［４］，ＢＦ↓［４］，ＰＦ↓［６］，ＳｂＦ↓［６］）。在例如ＤＶＤ－Ｒ和ＤＶＤ＋Ｒ的一次写入型光记录媒质中，可以在从低速记录到高速记录中获得满意的记录特性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光记录媒质，并特别涉及一种使用有机染料材料作为记录层的光记录媒质。
技术介绍
使用光学有机染料材料作为记录层的光记录媒质包括一个由例如塑料这样的合适材料做成的透明基底，在该基底上如有需要可层压有有机染料作为主要组分的记录层，反射层，保护层等等。激光照射到该记录层的表面以在其照射的表面部分形成凹坑以高密度记录信息。由CD-R(一次写入CD致密盘，注册商标)代表的有机染料记录媒质是布置简单并且能便宜地制造，所以它们作为存储数据、图像数据和音乐数据的介质在市场中被广泛使用。但是，为了与近年来高速发展的电脑相一致，要求记录媒质的存储容量必需更增加。因此，使用有机染料的光记录媒质的需求正在从CD-R移向DVD-R和DVD+R(一次写入DVD数字通用盘，注册商标)。信息是以加热模式使用有机染料记录到光记录媒质上。当激光照射到记录层上时，在照射部分的有机染料吸收该激光从而被加热而分解。有机染料的分解部分与未分解部分在反射率上是不同的，因此在记录层上形成凹坑。因为这个原因，热量吸收机理在使用有机染料的光记录媒质中变得很重要。分解记录层中的有机染料所需要的热量依赖于吸收频谱，由此调整激光照射功率。在使用有机染料的光记录媒质中，记录层的反射率特性和记录灵敏特性是很重要的。这些特性彼此非常相关，它们可以对光记录媒质的记录特性产生很大的影响。为了增加记录密度，DVD使用波长为650nm(DVD-R)或是655nm(DVD+R)的激光，它们比用于CD的激光波长要短。目前已经用于CD-R的有机染料在该波长区域内具有大的吸收性，并且它的记录灵敏性从最合适的记录灵敏性有很大的移位，因此它不能用于DVD-R和DVD+R。另外，DVD-R和DVD+R也要求完成与CD-R相同的高速记录。能够实现高速记录的记录材料要求具有高的反射率、高的记录灵敏性以及用于以热量分解该染料的高的分解速度。已经提出适用于DVD-R等的各种染料材料(例如，见引证的专利参考1和2)。然而，这并不表示以高速记录模式下的记录和再现特性已充分地检测。另外，如果通过简单增加染料的分解速度而使记录模式最佳化作为高速记录模式，那么在低速记录模式下的信号特性将不可避免地恶化。另外，如果记录模式被优化为低速记录模式，则在高速记录模式下的信号特性会恶化。因此，使用单一有机染料的记录介质很难以从低速记录模式到高速记录模式下保持记录特性。日本官方公报公开的专利申请第No.2002-52829号[引证的专利参考文献2]日本官方公报公开的专利申请第No.2003-231359号专利技术概述由于前述方面，本专利技术的一个目的是提供一种诸如DVD-R和DVD+R的一次写入型的光记录媒质，该光记录媒质能够在从低速记录模式到高速记录模式的很宽的范围内获得满意的记录特性。根据本专利技术的一个方面，提供一种由一个透射基底和一个形成在透射基底上的记录层所组成的光记录媒质，该记录层包括至少一种示于以下化学式的通式所表示的染料材料(在化学式1中，R1代表具有1到4个碳原子的烷基，R2、R3代表具有1到4个碳原子的烷基、苄基或结合以形成3到6个环的基团，Y1和Y2独立地代表有机基以及X代表ClO4，BF4，PF6，SbF6)和一种示于以下化学式2所代表的通式表示的染料材料(在化学式2中，R1和R2代表具有1到4个碳原子的烷基、苄基或结合以形成3到6个环的基团，Y1和Y2独立地代表有机基团以及X代表ClO4，BF4，PF6，SbF6) 化学式1 化学式2 根据本专利技术的另一方面，在具有如上所述布置的光记录媒质中，基底具有沿着记录轨迹形成的凹槽，该凹槽的宽度Wg按以下表示0.28μm≤Wg≤0.40μm以及该凹槽的深度D按下表示为100nm≤D≤200nm。根据本专利技术，在具有如上所述布置的光记录媒质中，用化学式1代表的通式表示的染料材料是一种由下面的化学式3所代表的结构式所表示的材料。化学式3 还有，根据本专利技术，在具有上述布置的光记录媒质中，用化学式1所代表的通式所表示的染料材料是一种由下面化学式4代表的结构式所表示的材料。化学式4 再者，根据本专利技术的其他方面，各颜料材料的重量比率按下表示为0＜W2/(W1+W2)≤0.7其中W1代表由所述化学式1描述的染料材料的重量，以及W2代表由所述化学式2描述的染料材料的重量。如上所述，根据本专利技术，提供一种适宜于在一次写入光记录媒质中应用中所使用的光记录媒质，特别地，该光记录媒质具有使用有机染料材料的DVD型的布置。当记录层的材料已被选择并且凹槽的宽度和凹槽被特别合适地选择时，那么可以得到令人满意的记录和再现特性，更确切的说是关于从1×速度记录模式到8×速度记录模式的宽的记录速度范围内可以获得抖动值小于9.0％，以及正常的记录功率特性。因此，有可能提供一种具有DVD型布置的一次写入类型光记录媒质，它在实际运用中很有用并且它具有令人满意的记录和再现特性。根据本专利技术，有可能提供一种一次写入型光记录媒质，其高速记录特性是优良的。另外，根据本专利技术，有可能提供一种具有优良高速记录特性的光记录媒质，并且其在高速记录和例如1×速度记录模式的低速记录所需要的记录功率可以落在一个合适的范围内。而且，根据本专利技术，有可能提供一种具有优良高速记录特性以及在低速记录模式下所需要的记录功率可以落在一个合适范围内的光记录媒质，并且其在高速记录模式，特别是8×速度记录模式下所需要的记录功率可以可靠地落在一个合适的范围内。附图说明图1是示出根据本专利技术的一种光记录媒质的布置的示意剖面图；图2是示出根据本专利技术的光记录媒质主要部分的放大比例的剖面图；图3是示出根据本专利技术实施例的关于记录功率的抖动变化的图表；图4是示出根据本专利技术实施例的有关记录层材料的重量比率的记录功率变化的图表；图5是示出根据本专利技术实施例有关凹槽深度的抖动和反射率变化的图表；图6是示出根据本专利技术实施例的有关凹槽宽度的抖动变化的图表；图7是示出根据本专利技术实施例的与记录层材料的重量比率有关的在紫外线照射前后所获得的反射光量比和抖动变化的图表。优选实施例的描述本专利技术的实施例将在下文中进行描述。在此不需要说明本专利技术并不局限于以下的实施例，并且可以对其实施各种改变和修改。在本实施例中，本专利技术应用于一种有机染料盘片，以及一种当应用本专利技术时可以改善其高速记录特性的光记录媒质，特别地，下面将描述DVD-R盘和DVD+R盘。图1是示出根据本专利技术的一种光记录媒质布置的示意剖面图。如图1中所示，由染料材料构成的记录层2，以及反射层3沉积在由例如PC(聚碳酸酯)或是PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)的合适材料构成的透射基底1上。。记录层2的染料材料可含有由上述化学式1和2代表的通式的染料材料。例如，有可能使用具有以化学式1代表的通式的化学式3或4的结构式的染料材料。同样，有可能通过加入一种具有例如，具有以化学式2所代表的通式的以下化学式5所代表的结构式的染料材料而构造一种光记录媒质。化学式5 染料材料的涂敷液体是溶解入四氟丙醇或类似物，它用作对包含记录层的有机染料的涂层溶剂并准备。例如通过旋涂法将一记录层沉积在具有0.6mm厚度的透射基底上，将一个由APC(银钯铜合金)、ANC(银钕铜合金)等等银合金构成的反射层通过溅射法层压在记录层上。同时，记本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光记录媒质，包括：一透射基底；和一形成在所述透射基底上的记录层，所述记录层含有至少一种由以下化学式所示的通式表示的染料材料（在化学式１中，Ｒ１代表具有１到４个碳原子数的烷基，Ｒ２、Ｒ３代表具有１到４个碳原子数的烷基、苄基或结合以形成３到６个环的基团，Ｙ１和Ｙ２独立地代表有机基团以及Ｘ代表ＣｌＯ↓［４］，ＢＦ↓［４］，ＰＦ↓［６］，ＳｂＦ↓［６］）和一种由以下化学式２代表的通式表示的染料材料（在化学式２中，Ｒ１和Ｒ２代表具有１到４个碳原子数的烷基、苄基或结合以形成３到６个环的基团，Ｙ１、Ｙ２独立地代表有机基团以及Ｘ代表ＣｌＯ↓［４］，ＢＦ↓［４］，ＰＦ↓［６］，ＳｂＦ↓［６］）：化学式１：＊＊＊化学式２：＊＊＊。

【技术特征摘要】
JP 2003-10-31 373308/031.一种光记录媒质，包括一透射基底；和一形成在所述透射基底上的记录层，所述记录层含有至少一种由以下化学式所示的通式表示的染料材料(在化学式1中，R1代表具有1到4个碳原子数的烷基，R2、R3代表具有1到4个碳原子数的烷基、苄基或结合以形成3到6个环的基团，Y1和Y2独立地代表有机基团以及X代表ClO4，BF4，PF6，SbF6)和一种由以下化学式2代表的通式表示的染料材料(在化学式2中，R1和R2代表具有1到4个碳原子数的烷基、苄基或结合以形成3到6个环的基团，Y1、Y2独立地代表有机基团以及X代表ClO4，BF4，PF6，SbF6)化学式1 化学式22.根据权利要求1中的光记录媒质，其中所述基底具有沿着记录轨迹形成的凹槽，所述凹槽的宽度Wg按以下表示0.28μm≤Wg≤0.40μm并且所述凹槽的深度D按以下表示100nm≤D≤200nm。3.根据权利要求1中的光记录媒质，其中由所述化学式1代表的所述通式表示的所述染料材料是一种由以下化学式3代表的结构式表示的材料，化学式34.根据权利要求2中的光记录媒质，其中由所述化学式1代表的所述通式表示的所述染料材料是由所述化学式3代表的所述结构式表示的材料。5.根据权利要求1中的光记录媒质，其中由所述化学式1代表的所述通式表示的所述染料材料是一种由以下化学式4代表的结构式表示的材料，化学式46.根据权利要求2中的光记录媒质，其中由所述化学式1代表的所述通式表示的所述染料材料是一种由所述化学式4代表的所述结构式表示的材料。7.根据权利要求1中的光记录媒质，其中所述各颜料材料的重量比率按以下表示0＜W2/(W1+W2)≤0.7其中W1代表由所述化学式1描述的所述染料材料的重量，而W2代表由所述化学式2描述的所述染料材料的重量。8.根据权利要求2中的光记录媒质，其中所述各颜料材料的重量比率表示为0＜W2/(W1+W2)≤0.7其中W1代表由所述化学式1描述的所述染料材料的重量，而W2代表由所述化学式2描述的所述染料材料的重量。9.根据权利要求3中的光记录媒质，其中所述各颜料材料的重量比率按下表示0＜W2/(W1+W2)≤0.7其中W1代表由所述化学式1描述的所述染料材料的重量，而W2代表由所述化学式2描述的所述染料材料的重量。10.根据权利要求4中的光记录媒质，其中所述各颜料材料的重量比率按下表示0＜W2/(W1+W2)≤0.7其中W1代表由所述化学式1描述的所述染料材料的重量，而W2代表由所述化学式2描述的所述染料材料的重量。11.根据权利要求5中的光记录媒质，其中所述各颜料材料的重量比率按下表示0＜W2/(W1+W2)≤0.7其中W1代表由所述化学式1描述的所述染料材料的重量，而W2代表由所述化学式2描述的所述染料材料的重量。12.根据权利要求6中的光记录媒质，其中所述各颜料...

【专利技术属性】
技术研发人员：和田丰，诹访部正次，秋森敏博，岛田淳子，大矢桂二，滋野浩一，矢野亨，
申请(专利权)人：索尼株式会社，株式会社ADEKA，
类型：发明
国别省市：JP[日本]