多弧离子镀膜机制造技术

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种多弧离子镀膜机。一种多弧离子镀膜机，包括镀膜室以及电弧蒸发源；镀膜室包括侧壁段，侧壁段包括顺次连接而成的多个侧壁，在侧壁段中，相邻侧壁中的其中一个侧壁上至少设置有一个电弧蒸发源，另一个侧壁上至少间隔设置有两个电弧蒸发源，且相邻侧壁上的所述电弧蒸发源在侧壁的高度方向上交错设置。镀膜室上的相邻两个侧壁上的电弧蒸发源在镀膜时，其镀膜面积会重叠，从而形成有有效的镀膜面积，此有效的镀膜面积能够尽可能的保证待镀件的镀膜效果。镀膜面积能够尽可能的保证待镀件的镀膜效果。镀膜面积能够尽可能的保证待镀件的镀膜效果。

【技术实现步骤摘要】
多弧离子镀膜机


[0001]本申请涉及真空镀膜
，尤其是涉及一种多弧离子镀膜机。

技术介绍

[0002]目前，常采用镀膜机对待镀件进行镀膜，然而，现有的镀膜机其镀膜效果不好，镀在待镀件表面的膜层，常出现膜层开裂、膜层结合力不好、硬度不高、工件不耐用等的现象。
[0003]因此，亟需一种高质量的多弧离子镀膜机，在一定程度上以解决现有技术中存在的技术问题。

技术实现思路

[0004]本申请的目的在于提供一种多弧离子镀膜机，在一定程度上以解决当采用现有技术中的镀膜机，镀在待镀件表面的膜层，常出现膜层开裂、膜层结合力不好、硬度不高、工件不耐用等技术问题。
[0005]本申请提供了一种多弧离子镀膜机，包括镀膜室以及电弧蒸发源；
[0006]所述镀膜室包括侧壁段，所述侧壁段包括顺次连接而成的多个侧壁，在所述侧壁段中，相邻侧壁中的其中一个所述侧壁上至少设置有一个所述电弧蒸发源，另一个所述侧壁上至少间隔设置有两个所述电弧蒸发源，且相邻所述侧壁上的所述电弧蒸发源在所述侧壁的高度方向上交错设置。
[0007]在上述技术方案中，进一步地，所述电弧蒸发源设置于所述镀膜室的侧壁的对半中线上。
[0008]在上述技术方案中，进一步地，所述镀膜室呈八棱柱结构，所述镀膜室包括相对设置的两个侧壁段，所述两个侧壁段经由一组彼此面对的两个连接侧壁连接，以形成所述镀膜室的侧部；
[0009]在彼此面对的两个连接侧壁中，其中一个所述连接侧壁上设置有门组件，且另一个所述连接侧壁上开设有抽气孔；<br/>[0010]除所述门组件所在的所述连接侧壁以及所述抽气孔所在的所述连接侧壁，所述镀膜室的侧部的其余所述侧壁上均设有所述电弧蒸发源。
[0011]在上述技术方案中，进一步地，在所述侧壁段中，相邻所述侧壁中的其中一个所述侧壁上设置有一个电弧蒸发源，且另一个所述侧壁上间隔设置有两个电弧蒸发源；且一个所述电弧蒸发源的中心位于两个所述电弧蒸发源之间的中线上。
[0012]在上述技术方案中，进一步地，在所述侧壁段中，任意一个所述侧壁上均设置有两个所述电弧蒸发源，且相邻所述侧壁中的其中一个所述侧壁上设置的其中一个所述电弧蒸发源位于另一个所述侧壁上两个所述电弧蒸发源之间的中线上。
[0013]在上述技术方案中，进一步地，同一侧壁上间隔排布的所述电弧蒸发源之间的间距设置在400
‑
600mm之间。
[0014]在上述技术方案中，进一步地，所述电弧蒸发源的表面与待镀件的表面之间的距
离设置在150
‑
300mm之间。
[0015]在上述技术方案中，进一步地，所述电弧蒸发源的有效镀膜区的高度设置大于500mm。
[0016]在上述技术方案中，进一步地，所述电弧蒸发源的有效镀膜区的高度设置大于900mm。
[0017]在上述技术方案中，进一步地，还包括抽真空组件，所述抽真空组件通过所述抽气孔与所述镀膜室连通，用于对所述镀膜室抽真空。
[0018]在上述技术方案中，进一步地，还包括旋转转架，所述旋转转架设置于所述镀膜室的底部，用于装载待镀件。
[0019]在上述技术方案中，进一步地，所述门组件包括门以及密封件；
[0020]所述门可旋转安装于所述镀膜室的所述侧壁上，所述密封件安装于所述门朝向所述镀膜室内部的侧壁上，所述密封件用于密封所述门与所述镀膜室的侧壁。
[0021]在上述技术方案中，进一步地，所述电弧蒸发源的靶材直径为160mm。
[0022]与现有技术相比，本申请的有益效果为：
[0023]本申请提供的所述镀膜室包括侧壁段，所述侧壁段包括顺次连接而成的多个侧壁，在所述侧壁段中，相邻侧壁中的其中一个所述侧壁上至少设置有一个所述电弧蒸发源，另一个所述侧壁上至少间隔设置有两个所述电弧蒸发源，且相邻所述侧壁上的所述电弧蒸发源在所述侧壁的高度方向上交错设置。
[0024]具体地，所述镀膜室上的相邻两个侧壁上的电弧蒸发源在镀膜时，其镀膜面积会重叠，从而形成有有效的镀膜面积，此有效的镀膜面积能够尽可能地保证待镀件的镀膜效果，保证镀膜的牢固性和均匀性，使得膜层不易开裂、膜层结合力好、硬度高。
附图说明
[0025]为了更清楚地说明本申请具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0026]图1为本申请实施例一提供的多弧离子镀膜机的展开示意图；
[0027]图2为本申请实施例一提供的多弧离子镀膜机的俯视图；
[0028]图3为本申请实施例一提供的多弧离子镀膜机的镀膜原理结构图；
[0029]图4为本申请实施例二提供的多弧离子镀膜机的展开示意图；
[0030]图5为本申请实施例二提供的多弧离子镀膜机的镀膜原理结构图。
[0031]图中：100
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镀膜室；101
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第一电弧蒸发源；102
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第二电弧蒸发源；104
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门组件；105
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抽气孔；106
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旋转转架；107
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第一侧壁；108
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第二侧壁；109
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第三侧壁；110
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第四侧壁；111
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第五侧壁；112
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第六侧壁；113
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第七侧壁；114
‑
第八侧壁。
具体实施方式
[0032]下面将结合附图对本申请的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术
人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0033]在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0034]在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
[0035]实施例一
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多弧离子镀膜机，其特征在于，包括镀膜室以及电弧蒸发源；所述镀膜室包括侧壁段，所述侧壁段包括顺次连接而成的多个侧壁，在所述侧壁段中，相邻侧壁中的其中一个所述侧壁上至少设置有一个所述电弧蒸发源，另一个所述侧壁上至少间隔设置有两个所述电弧蒸发源，且相邻所述侧壁上的所述电弧蒸发源在所述侧壁的高度方向上交错设置。2.根据权利要求1所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，所述电弧蒸发源设置于所述镀膜室的侧壁的对半中线上。3.根据权利要求2所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，所述镀膜室呈八棱柱结构，所述镀膜室包括相对设置的两个侧壁段，所述两个侧壁段经由一组彼此面对的两个连接侧壁连接，以形成所述镀膜室的侧部；在彼此面对的两个连接侧壁中，其中一个所述连接侧壁上设置有门组件，且另一个所述连接侧壁上开设有抽气孔；除所述门组件所在的所述连接侧壁以及所述抽气孔所在的所述连接侧壁，所述镀膜室的侧部的其余所述侧壁上均设有所述电弧蒸发源。4.根据权利要求3所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，在所述侧壁段中，相邻所述侧壁中的其中一个所述侧壁上设置有一个电弧蒸发源，且另一个所述侧壁上间隔设置有两个电弧蒸发源；且一个所述电弧蒸发源的中心位于两个所述电弧蒸发源之间的中线上。5.根据权利要求3所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，在所述侧壁段中，任意一个所述侧壁上均设置有两个所述电弧蒸发源，且相邻所述侧壁中的其中一个所述侧壁...

【专利技术属性】
技术研发人员：王君，王思航，闫超颖，汪友林，李昌华，
申请(专利权)人：沈阳爱科斯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：