一种引线框架选择性电镀模具制造技术

一种引线框架选择性电镀模具，属于选择性电镀技术领域。智能卡、引线框架在生产过程中，需要在载带上电镀铜、镍、金等其他金属。在生产过程中为了使镀层充分电镀或填充被电镀的通孔，普遍对被电镀的一面全部电镀上镀层金属，这就导致了非目标区域浪费了电镀液中的一部分镀层金属离子。本发明专利技术利用点镀轮与选镀模块，选镀模块通过底面的柱脚固定在点镀轮上；选镀模块正面表面设有凸起形成的遮蔽围堰；遮蔽围堰形成闭合结构，使引线框架在电镀液中部分表面与电镀液隔离，不会被电镀，而大大节约了电镀液与目标金属的用量，并且仅有极小的面积接触引线框架表面，减小引线框架表面污染或磨损等影响表面性能。磨损等影响表面性能。磨损等影响表面性能。

【技术实现步骤摘要】
一种引线框架选择性电镀模具


[0001]一种引线框架选择性电镀模具，属于选择性电镀


技术介绍

[0002]智能卡、引线框架在生产过程中，需要在载带上电镀铜、镍、金等其他金属。在生产过程中为了使镀层充分电镀或填充被电镀的通孔，普遍对被电镀的一面全部电镀上镀层金属，这就导致了非目标电镀区域无法被遮蔽，暴露于电镀液中而也被镀层金属覆盖，使镀层中的贵金属用量大大增加，无意义消耗，并且整面被镀还可能会导致整面都导电，后续焊接导电丝时需要做绝缘或镀点隔离，增加工序，降低生产效率。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种能够精准控制电镀区域并且不会影响载带表面性能的引线框架选择性电镀模具。
[0004]本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种引线框架选择性电镀模具，包括点镀轮及选镀模块，其特征在于：选镀模块固定在点镀轮上，选镀模块正面表面设有凸起形成的遮蔽围堰；遮蔽围堰为闭合结构。
[0005]引线框架电镀时，引线框架载带在接触电镀液之前先接触并对齐、紧贴选择性电镀模具，选择性电镀模具的点镀轮处于旋转状态，点镀轮上的选镀模块的线速度与载带的运行速度相同，保证了选镀模块与载带在电镀过程中相对静止运动；然后遮蔽围堰以外的引线框架表面接触电镀液进行电镀。
[0006]点镀轮圆心位置以扇形向引线框架方向喷射电镀液，电镀液穿过点镀轮上的镂空孔接触引线框架表面，对引线框架进行电镀。
[0007]选镀模块上的遮蔽围堰紧贴引线框架，闭合的遮蔽围堰使引线框架上也形成一闭合区域，电镀液无法进入该闭合区域，因此也就不会对该区域进行电镀，同时围堰本身的实际面积较小，避免了大面积的接触引线框架，有效的保护了引线框架表面，引线框架的表面性能电镀后几乎不受影响。
[0008]优选的，所述的点镀轮上设有镂空孔，选镀模块在遮蔽围堰以外区域设有镂空结构，选镀模块覆盖镂空孔。
[0009]点镀轮圆心位置以扇形向引线框架方向喷射电镀液，电镀液穿过点镀轮上的镂空孔接触引线框架表面，对引线框架进行电镀。能够有效避免传统的将引线框架浸泡于电镀液中电镀时，电镀液深入闭合区域内对不需要电镀的区域进行电镀。
[0010]优选的，所述的选镀模块通过底面的柱脚固定在点镀轮上。
[0011]优选的，所述的选镀模块正面表面在遮蔽围堰以外区域设有电镀围堰，电镀围堰的凸起高度与遮蔽围堰相同，电镀围堰与遮蔽围堰之间的选镀模块表面为镂空结构。
[0012]在遮蔽围堰以外的区域增设电镀围堰，镂空结构的区域则为选镀模块与引线框架进入电镀液后，电镀液最先接触引线框架的部分，电镀液通过镂空的部分进入电镀围堰与
遮蔽围堰之间的区域接触引线框架进行电镀，这样能使引线框架表面接触电镀液出现时间差，距离镂空结构越近的引线框架表面则越先接触电镀液，则镀层的厚度越厚，电镀围堰与镂空结构优选与引线框架上需要电镀的位置对应，即电镀围堰对应包围引线框架需要电镀的位置，而镂空结构则对齐引线框架需要电镀位置设置在选镀模块上。
[0013]优选的，所述的电镀围堰的两端与遮蔽围堰之间设有缺口。避免电镀围堰与遮蔽围堰构成的区域过度封闭，内部形成气压而导致电镀药水无法进入，同时对于某些特殊的引线框架，其表面的其他部位也需要一层薄的镀层，电镀药水自镂空结构进入后再从缺口进入电镀围堰范围以外的地方，则进一步使电镀围堰范围以内与以外接触电镀药水形成时间差，电镀围堰以外的区域既能够接触电镀药水，又控制其上的镀层相较于直接接触电镀药水的部分更薄，有效节约电镀成本。
[0014]优选的，所述的遮蔽围堰内部的选镀模块正面表面设有遮蔽凸起，遮蔽凸起的凸起高度与遮蔽围堰的凸起高度相同。遮蔽凸起能够直接接触并覆盖遮蔽围堰以内的部分引线框架表面，进一步保证引线框架上某些部位不会接触到电镀液，可以控制遮蔽凸起的面积与位置，仅对引线框架表面不易受到影响的部分进行接触式的遮蔽，避免遮蔽凸起影响引线框架的表面性能。
[0015]优选的，所述的遮蔽凸起的面积小于或等于遮蔽围堰所围成闭合区域面积的50%。遮蔽凸起的表面难以保证完全的平整，且工艺控制较难制作，过大面积的遮蔽凸起在贴合引线框架表面时越容易出现凹凸不平、贴合不紧密的现象。
[0016]优选的，选镀模块的正面边缘设有吸盘。引线框架与选镀模块接触后挤压力最大的时候一般是在载带运行到变形最大位置的时候，吸盘在挤压力最大的点时能够将一部分遮蔽围堰对引线框架表面的压力缓解到吸盘所在的位置，避免遮蔽围堰对引线框架表面过度挤压导致变形，同时也能够在引线框架与选镀模块之间挤压力经过最大点后变小的时候继承一部分挤压力，依然使引线框架与围堰之间保持一定程度的紧密贴合，不至于电镀液流过围堰。
[0017]优选的，所述的遮蔽围堰、电镀围堰与遮蔽凸起为软硅胶材质。软硅胶材质能够随着载带的形变而变形，保持紧密贴合，同时又不会过硬而伤及引线框架的表面而影响其性能。
[0018]与现有技术相比，本技术所具有的有益效果是：提供了一种精准选择性电镀引线框架的模具，避免了对引线框架不必要的地方电镀而增加电镀成本；同时模具接触引线框架表面的面积极小，避免了引线框架表面性能受影响；电镀围堰与缺口使引线框架表面接触电镀液出现时间差，进一步精准的控制不同电镀位置的镀层厚度；吸盘对围堰与引线框架之间的挤压力过大或过小时均能够产生一定的缓冲效果，大大增加了挤压力在合适大小的持续时间，同时也进一步避免模具对引线框架表面的损伤。
附图说明
[0019]图1为实施例1引线框架选择性电镀模具示意图。
[0020]图2为实施例1选镀模块示意图。
[0021]图3为实施例1引线框架选择性电镀模具使用方法示意图。
[0022]图4为实施例2选镀模块示意图。
[0023]其中，1点镀轮，2选镀模块，3柱脚，4遮蔽围堰，5电镀围堰，6缺口，7遮蔽凸起，8吸盘，9镂空结构，10引线框架载带，11电镀液，12镂空孔。
具体实施方式
[0024]下面结合附图1~4对本技术做进一步说明，图4是本技术的最佳实施例。
[0025]实施例1
[0026]参照附图1~2：一种引线框架选择性电镀模具，包括点镀轮1及选镀模块2，点镀轮1表面设有多个镂空孔12，多个选镀模块2通过底面的柱脚3固定并覆盖点镀轮1表面的镂空孔12，图1中仅画出一个选镀模块2以更明确地表示选镀模块2与点镀轮1、镂空孔12的位置关系；选镀模块2正面表面设有凸起形成的遮蔽围堰4；遮蔽围堰4形成闭合结构；选镀模块2正面表面在遮蔽围堰4以外区域还设有电镀围堰5，电镀围堰5的凸起高度与遮蔽围堰4相同，电镀围堰5与遮蔽围堰4之间的选镀模块2表面为镂空结构9；电镀围堰5的两端与遮蔽围堰4之间设有缺口6。遮蔽围堰4、电镀围堰5与遮蔽凸起7为软硅胶材质；点镀轮1采用PEEK材质。
[0027] 参照图3：上述引线框架选择性电镀模具的电镀方法：引线框架电镀时，引线框本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种引线框架选择性电镀模具，包括点镀轮（1）及选镀模块（2），其特征在于：选镀模块（2）固定在点镀轮（1）上，选镀模块（2）正面表面设有凸起形成的遮蔽围堰（4）；遮蔽围堰（4）为闭合结构。2.根据权利要求1所述的引线框架选择性电镀模具，其特征在于：所述的点镀轮（1）上设有镂空孔（12），选镀模块（2）在遮蔽围堰（4）以外区域设有镂空结构（9），选镀模块（2）覆盖镂空孔（12）。3.根据权利要求1所述的引线框架选择性电镀模具，其特征在于：所述的选镀模块（2）通过底面的柱脚（3）固定在点镀轮（1）上。4.根据权利要求1所述的引线框架选择性电镀模具，其特征在于：所述的选镀模块（2）正面表面在遮蔽围堰（4）以外区域设有电镀围堰（5），电镀围堰（5）的凸起高度与遮蔽围堰（4）相同，电镀围堰（5）与遮蔽围堰（4）之间的选...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘恺，杨永学，张成彬，
申请(专利权)人：新恒汇电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：