光盘设备制造技术

技术编号:3056615 阅读:152 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种光盘设备,从光源(110)发出的光(111)穿过物镜(140),从光盘(10)反射,再次穿过物镜(140),然后由全息装置(150)分成穿过物镜(140)内周部分的内周光(111A)和穿过物镜(140)外周部分的外周光(111P)。从内周光(111A)产生内周光FE信号(S212A)并从外周光(111P)产生外周光FE信号(S212P)。在聚焦搜索操作中,S字母信号检测器(221A)检测内周光FE信号(S212A)处于零电平的时间点,且S字母检测器(221P)检测外周光FE信号(S212P)处于零电平的时间点。计时器(222)根据所经过的时间来测量时间差。盘片识别装置(300)基于该时间差识别光盘(10)的类别。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光盘设备,尤其涉及一种光盘设备中的光盘识别技术。
技术介绍
近年来,为了在单一光盘装置中使用诸如CD(高密盘)、DVD(数字化视频光盘)以及BD(蓝光光盘,Blue-ray Disk)之类的多种类型的光盘,人们的研发已经取得了进步。对于这样一种光盘设备来说,必须要识别要插入的光盘的类型。例如,在作为光盘识别技术的一种方法中,用具有与各类光盘(CD、DVD、BD)分别相对应预定波长(例如750nm、650nm以及405nm)的光在顺序变化的同时来顺序照射所插入的光盘,由此以确认所插入的光盘是否可读写。日本特开2004-111028号公报公开了另外一种光盘识别技术,其中基于表示从光盘的反射光量的信号的波形对称性来判断信息面(informationsurface)的深度,从而识别光盘的类型(见该公报的0068和0076段)。另外,日本特开平10-49885号公报(1998年)和特开平10-55602号公报(1998年)公开了一种技术,其中利用光电变换装置获得要识别的光盘上的聚焦反应信号(聚焦误差信号(focus error signal)、分光束加和信号(sub-beamsum signal)以及这些信号的组合)的波形信息,并将所述聚焦反应信号的波形信息与事先获得的用于各类光盘的数值孔径(numerical apertures,NA)(即,以DVD模式和CD模式获得)的聚焦反应信号的波形信号相比较。这样,光盘的类型就得以识别(见日本特开平10-49885号公报(1998年)的0027段0033至0062段和0072至0073段,以及日本特开平10-55602号公报(1998年)的0029段0035至0064段以及0074至0075段)。这两个文献公开了在预定状态下强制运行聚焦控制装置,且在光盘停止旋转时改变NA,随后根据所述操作而变化的光电变换装置的聚焦反应信号便可获得。根据通过顺序变化照射光来确定光盘是否可读写的上述技术,有时,需要按照具有预定波长的光的发射顺序发射所有光。在这种情况下,识别盘片类别所占用的时间比较长。因为在日本特开2004-111028公报中公开的技术利用了表示从光盘反射的光量的信号的波形对称性,即,因为使用了信号波形的全部信息,所以可想而知,包含在部分信号中的噪音将降低光盘识别的精确度。在使用了信号波形的全部信息的情况下,可想而知,为适应光盘识别所需要的处理负荷不可避免地使电路或软件的规模加大。在日本特开平10-49885号公报(1998年)和日本特开平10-55602号公报(1998年)中公开的用聚焦反应信号的波形信息与预先准备的信号相比较的技术存在着同样的问题。
技术实现思路
本专利技术旨在解决上述问题,本专利技术的目的是提供一种光盘装置,其能够实现较短的光盘识别时间,并以较小的处理负荷来精确地识别光盘。为实现上述目的,本专利技术提供了一种光盘设备,包括光源;物镜,其用于利用该光源的光照射光盘;聚焦控制装置,其用于使穿过该物镜的光的焦点位置沿着光轴方向移动来进行聚焦操作;分光装置,其用于将从该光盘反射的光分成穿过该物镜内周部分的内周光和穿过该物镜外周部分的外周光;内周光聚焦误差信号产生装置,其用于从所述内周光产生内周光聚焦误差信号;外周光聚焦误差信号产生装置,其用于从所述外周光产生外周光聚焦误差信号;时间差检测装置,其用于在聚焦操作中检测该内周光聚焦误差信号和该外周光聚焦信号之间在零电平时的时间差;以及盘片识别装置,其基于该时间差识别该光盘的类别。根据这个构造,从光盘反射的光被分成内周光和外周光,检测分别从内周光和外周光获得的内周光聚焦误差信号和外周光聚焦误差信号之间在零电平时的时间差,基于该时间差来识别该光盘的类别,这就使仅一次光照射就可以识别光盘类别成为可能。因此,与用光照射光盘同时将光从分别具有与光盘类别相对应波长的光中顺序切换以确定光盘是否可读写的技术相比,能够在较短的时间内实现光盘识别。在具有这种优点的情况下,因为能够在光盘插入后很快地进行复制/记录,所以使用者能够享受到更好的可操作性。与使用聚焦误差信号的全部波形来识别盘片的技术相比,使用内周光聚焦误差信号和外周光聚焦误差信号之间在零电平时的时间差不易受噪音的影响。因此,能够精确地进行盘片识别。因为基于时间差来识别盘片,所以与使用聚焦误差信号的全部波形的技术相比,盘片识别的处理负荷变小。本专利技术还提供了一种光盘设备,其包括光源;物镜,其用于利用该光源的光照射光盘;分光装置,其用于将从该光盘反射的光分成穿过该物镜内周部分的内周光和穿过该物镜外周部分的外周光;比较装置,其用于将所述内周光和所述外周光相互比较以输出比较结果;以及盘片识别装置,其基于该比较结果识别该光盘的类别。采用这个构造,从光盘反射的光被分成内周光和外周光并将二者相互比较,由此以基于比较的结果确认光盘的类别,所以单次的光照射就能够识别光盘。因此,与例如用光照射光盘同时将光从分别具有与光盘类别相对应的波长的光中进行顺序切换由此以确定光盘是否可读写的技术相比,光盘识别能够在较短的时间内得以实现。这样就能够在光盘插入后很快地进行复制/记录,所以使用者能够享受到更好的可操作性。优选地,所述的光盘设备还包括聚焦控制装置,所述聚焦控制装置用于使穿过该物镜的光的焦点位置沿着光轴方向移动来进行聚焦操作;其中所述比较装置包括聚焦时间差检测装置,该聚焦时间差检测装置用于将所述内周光的焦点与该光盘的信息记录面一致时的时间点和所述外周光的焦点与该光盘的信息记录面一致时的时间点之间的时间差作为聚焦操作比较结果来输出;以及,所述盘片识别装置,其基于该时间差来识别该光盘的类别。采用这个结构,因为利用所述内周光的焦点与该光盘的信息记录面一致时的时间点和所述外周光的焦点与该光盘的信息记录面一致时的时间点之间的时间差来识别光盘,所以与利用横跨聚焦操作整个周期的全部信息(例如,聚集误差信号的全部波形)来识别光盘的技术相比,噪音不易施加影响。因此,能够准确地进行光盘识别。因为,基于时间差来识别光盘,所以与上述的在利用聚焦操作中横跨整个周期的所有信息的技术相比,用于光盘识别的处理负荷变小。优选地,该物镜具有0.8或者0.8以上的数值孔径。因此,由于该物镜为所谓的高数值孔径(高NA)透镜,所以时间差由于大的球面像差而增加。因此,能够更精确地进行光盘识别。优选地,该聚焦操作为聚焦搜索操作。因此,由于光盘识别在聚焦搜索操作中进行,所以不需要用于光盘识别的附加的单独的聚焦操作。因此,从光盘插入直到复制/记录的时间能够进一步地缩短,从而给使用者提供了更好的可操作性。注意,日本特开2004-111028号公报还公开了这样一种技术在聚焦误差信号为0(零)电平(零交叉)状态下,即在光束的焦点与光盘的信息面一致的状态下,基于来自聚焦驱动发生器的输出信号来检测信息面的深度,并基于检测到的深度来确定光盘的类别(见该文献的0008至0009段)。另外,日本特开2004-253119号公报公开了这样一种技术聚焦搜索操作在与高反射率光盘相对应的设定中进行,由此通过与从盘片反射的光量相对应的信号(来自于光电探测器四等分的受光面的光电转换信号的信号之和)的电平高度来确认插入的光盘是高反射率光盘或者低反射率光盘(见该文献本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种光盘设备,包括:光源;物镜,其利用来自该光源的光照射光盘;聚焦控制装置,其用于使穿过该物镜的光的焦点位置沿着光轴方向移动来进行聚焦操作;分光装置,其用于将从该光盘反射的光分成穿过该物镜内周部分的内周光和穿过该物镜外周部分的外周光;内周光聚焦误差信号产生装置,其用于从所述内周光产生内周光聚焦误差信号;外周光聚焦误差信号产生装置,其用于从所述外周光产生外周光聚焦误差信号;时间差检测装置,其用于检测在聚焦操作中该内周光聚焦误差信号和该外周光聚焦信号之间在零电平时的时间差;以及盘片识别装置,其基于该时间差来识别该光盘的类别。

【技术特征摘要】
JP 2005-2-8 2005-0315911.一种光盘设备,包括光源;物镜,其利用来自该光源的光照射光盘;聚焦控制装置,其用于使穿过该物镜的光的焦点位置沿着光轴方向移动来进行聚焦操作;分光装置,其用于将从该光盘反射的光分成穿过该物镜内周部分的内周光和穿过该物镜外周部分的外周光;内周光聚焦误差信号产生装置,其用于从所述内周光产生内周光聚焦误差信号;外周光聚焦误差信号产生装置,其用于从所述外周光产生外周光聚焦误差信号;时间差检测装置,其用于检测在聚焦操作中该内周光聚焦误差信号和该外周光聚焦信号之间在零电平时的时间差;以及盘片识别装置,其基于该时间差来识别该光盘的类别。2.一种盘片识别装置,包括光源;物镜,其利用来自该光源的光照射光盘;分光装置,其用于将从该光盘反射的光分成穿过该物镜内周部分的内周光和穿过该物镜外周部分...

【专利技术属性】
技术研发人员:岩本厚志
申请(专利权)人:船井电机株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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