本发明专利技术提供一种用于对流体喷射装置的流体喷射头进行清洁及密封的回转维护站所用的流体喷射装置与手持式流体喷射装置。流体喷射装置包括壳体、设置在壳体中的流体贮存库及流体喷射头。包括喷射头擦洗器及喷射头加帽装置的回转维护站可移动地附装到壳体，且被配置成进行旋转以选择性地将喷射头擦洗器或喷射头加帽装置定位成与流体喷射头相邻。加帽装置定位成与流体喷射头相邻。加帽装置定位成与流体喷射头相邻。
【技术实现步骤摘要】
流体喷射装置与手持式流体喷射装置
[0001]本公开涉及一种用于对流体喷射装置的流体喷射头进行清洁及密封的回转维护站，尤其涉及一种流体喷射装置与手持式流体喷射装置。
技术介绍
[0002]流体射出喷射(fluid jet ejection)依赖于从流体射出喷射头的表面喷射射出流体的微小小滴，流体射出喷射头与流体喷射装置的本体中所含有的射出流体的流体贮存库进行流体连通(fluidic communication)。流体射出喷射头需要“保养(servicing)”喷射头的芯片表面(chip face)，包括对芯片表面进行擦洗及加帽，以维持流体射出喷射头的可操作性。对芯片表面进行擦洗会从流体射出喷射头的喷嘴板移除可对射出性能产生负面影响的灰尘、流体喷雾及结壳(crusting)。一旦完成擦洗，便必须对喷射头的芯片表面进行密封或“加帽(capped)”以防止射出流体从喷嘴板中的喷嘴蒸发，射出流体从喷嘴蒸发可能会导致流体射出喷射头无法启动。
[0003]传统上，喷墨打印已经用于在各种衬底上打印图像及文本。打印头容纳在打印机中，打印机使打印头在整个衬底上进行线性运动，且衬底垂直于打印头的运动而移动，以在衬底上产生二维图像。对于典型的喷墨打印机系统(例如台式打印机)来说，保养方法很好地建立起来并且通常包括以下操作：在打印期间以线性运动的方式移动打印头；以及一旦打印工作已经完成，便在线性方向上将打印头进一步移动到保养站，在保养站处驱动打印头跨过擦洗叶片以移除碎屑。一旦完成擦洗，便将打印头进一步线性移动到加帽站，在加帽站处对打印头的芯片表面进行密封。传统台式打印机中的保养站与加帽站通常在侧向上彼此相邻。
[0004]随着流体射出技术进入新的行业，喷射头现在可容纳在小型手持式装置中，在这些小型手持装置中不可能使用传统的维护装置及方法。因此，需要不依赖于流体喷射头在侧向上移动到远程位置以进行维护的维护站或装置。
技术实现思路
[0005]因此，本公开的实施例提供一种流体喷射装置，所述流体喷射装置包括壳体、设置在壳体中的流体贮存库、及流体喷射头。包括喷射头擦洗器及喷射头加帽装置的回转维护站可移动地附装到壳体，且被配置成进行旋转以选择性地将喷射头擦洗器或喷射头加帽装置定位成与流体喷射头相邻。
[0006]在另一实施例中，提供一种手持式流体喷射装置，所述手持式流体喷射装置包括壳体、设置在壳体中的流体贮存库、及流体喷射头。提供一种回转维护站，且回转维护站包括喷射头擦洗器、喷射头加帽装置及位于回转维护站中的流体喷射端口。回转维护站可移动地附装到壳体且被配置成进行旋转以选择性地将喷射头擦洗器、喷射头加帽装置或流体喷射端口定位成与流体喷射头相邻。
[0007]在一些实施例中，喷射头加帽装置被配置成保护流体喷射头且维持与流体喷射头
相邻的环境以防止流体从流体喷射头蒸发。在其他实施例中，喷射头加帽装置包括位于喷射头加帽装置中的排气孔。
[0008]在一些实施例中，回转维护站在其内壁上还包括至少一个耳片。在其他实施例中，壳体包括圆形壁，圆形壁在其外侧部分上具有至少一个凹槽，以用于与回转维护站的至少一个耳片配合。
[0009]在一些实施例中，回转维护站被配置成相对于壳体手动进行旋转。在其他实施例中，回转维护站被配置成相对于壳体自动进行旋转。
[0010]在一些实施例中，喷射头擦洗器包括弹性擦洗器叶片。
[0011]在一些实施例中，喷射头加帽装置为弹性加帽装置。
[0012]在一些实施例中，回转维护站还包括吸收性擦洗器叶片。
[0013]在一些实施例中，回转维护站还包括位于回转维护站中的流体喷射端口。
[0014]在一些实施例中，回转维护站在其内壁上还包括至少一个V形耳片。在其他实施例中，壳体包括圆形壁，圆形壁在其外侧部分上具有至少一个V形凹槽，以用于与回转维护站的至少一个V形耳片配合。
[0015]在一些实施例中，回转维护站朝壳体偏置。
[0016]所述回转维护站的优点在于，所请求保护的维护站可包括为防止喷射头变干或堵塞所需要的所有组件且维护站可易于手动进行操作或自动进行操作以维持流体喷射装置的性能。与传统的旋转维护站不同，所公开实施例的设备具有与流体喷射头的表面垂直的附加运动轴线(axis of motion)，从而使喷射头加帽装置能够定位在上方且然后下落到流体喷射头的表面上。加帽装置还提供用于确保加帽装置与喷射头之间的可靠密封的机制。
[0017]所公开实施例的另一优点在于，在对喷射头进行擦洗之后，擦洗器叶片与流体喷射头隔离开。作为另外一种选择，擦洗器叶片可定位在可用于收集从擦洗器叶片滴落的过量流体的站之上，或者可在对流体喷射头的表面进行擦洗之后拖曳擦洗器叶片经过吸收性材料，使得能够从擦洗器叶片移除任何过量的流体。因此，本公开的实施例可防止粘性流体保持与流体喷射头的表面接触，这是因为与一些传统的擦洗器不同，所述擦洗器叶片在使用后会与流体喷射头隔离开。
附图说明
[0018]图1是根据本公开实施例的含有回转维护站的手持式流体喷射装置的透视图，其未按比例绘制。
[0019]图2是图1所示手持式流体喷射装置的喷射头端的透视图，在图2中回转维护站被移除。
[0020]图3是图2所示手持式流体喷射装置的喷射头端的透视图，在图3中回转维护站取向为流体喷射取向。
[0021]图4是图2所示手持式流体喷射装置的喷射头端的透视图，在图4中回转维护站取向为喷射头加帽取向。
[0022]图5是图1所示手持式流体喷射装置的一部分的透视图，在图5中回转维护站被移除。
[0023]图6是图1所示手持式流体喷射装置的回转维护站的内部透视图。
[0024]图7是图1所示回转维护站及流体喷射装置的剖视图，在图7中回转维护站相对于喷射头加帽装置处于伸出位置。
[0025]图8是图7所示回转维护站及流体喷射装置的剖视图，在图8中回转维护站相对于喷射头加帽装置处于缩回位置。
[0026]图9是图1所示回转维护站及流体喷射装置的剖视图，在图9中回转维护站相对于流体喷射端口处于伸出位置。
[0027]图10是图1所示回转维护站及流体喷射装置的剖视图，在图10中回转维护站相对于流体喷射端口处于缩回位置。
[0028]图11是图1所示回转维护站及流体喷射装置的剖视图，在图11中回转维护站处于伸出位置以对流体射出喷射头进行擦洗。
[0029]图12及图13是根据本公开其他实施例的图1所示手持式流体喷射装置的回转维护站的内部透视图。
[0030]图14至图16是根据本公开另一实施例的回转维护站及流体喷射装置的剖视图。
[0031]图17是根据本公开另一实施例的含有用于进行对齐的磁体的回转维护站的内部透视图。
[0032]图18是附装到流体喷射装置的壳体的图17所示回转维护站的透视图。
[0033]图19是根据本公开另一实施例的回转维护站及流体喷射装置的剖视图。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种流体喷射装置，包括：壳体、设置在所述壳体中的流体贮存库、及流体喷射头；以及回转维护站，包括喷射头擦洗器及喷射头加帽装置，其中所述回转维护站可移动地附装到所述壳体且被配置成进行旋转以选择性地将所述喷射头擦洗器或所述喷射头加帽装置定位成与所述流体喷射头相邻。2.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其中所述喷射头加帽装置被配置成保护所述流体喷射头且维持与所述流体喷射头相邻的环境以防止流体从所述流体喷射头蒸发。3.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其中所述喷射头加帽装置包括位于所述喷射头加帽装置中的排气孔。4.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其中所述回转维护站在其内壁上还包括至少一个耳片。5.根据权利要求4所述的流体喷射装置，其中所述壳体还包括圆形壁，所述圆形壁在其外侧部分上具有至少一个凹槽，以用于与所述回转维护站的所述至少一个耳片配合。6.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其中所述回转维护站被配置成相对于所述壳体手动进行旋转。7.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其中所述回转维护站被配置成相对于所述壳体自动进行旋转。8.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其中所述喷射头擦洗器包括弹性擦洗器叶片。9.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其中所述喷射头加帽装置包括弹性加帽装置。10.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其中所述回转维护站还包括吸收性擦洗器叶片。11.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其中所述回转维护站还包括位于...
【专利技术属性】
技术研发人员：亚当，
申请(专利权)人：船井电机株式会社，
类型：发明
国别省市：
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