原子层沉积装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种原子层沉积装置，反应室包括反应室主体与腔门，反应室主体的内部形成反应腔体，反应室主体上设有进气口与抽气口，腔门与反应室主体可拆卸连接；安装架与腔门固定连接，腔门与反应室主体连接时，安装架位于反应腔体的内部；第一承载件用于承载块状待包覆物，第一承载件与安装架可拆卸连接；第二承载件用于承载粉状待包覆物，第二承载件与安装架可拆卸连接；第一使用状态下，第一承载件与安装架固定连接；第二使用状态下，第二承载件与安装架连接，且驱动件与第二承载件连接，驱动件用于驱动第二承载件相对于安装架转动。该原子层沉积装置可以对不同类型的待包覆物进行沉积，适用范围更广。适用范围更广。适用范围更广。

【技术实现步骤摘要】
原子层沉积装置


[0001]本专利技术涉及原子层沉积
，特别是涉及原子层沉积装置。

技术介绍

[0002]原子层沉积是一种将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的技术，其具有薄膜厚度纳米可控，均匀性好等特点，因此被广泛应用于微纳米电子器件，太阳能电池等领域。原子层沉积的原理是将前驱体通入真空腔体中与待包覆基体发生化学吸附，伴随惰性气体清洗腔体之后，另一前驱体通入腔体与上阶段生成物发生化学反应。这两个阶段组成一个原子层沉积反应循环，也即单层薄膜生长，通过控制循环的次数来达到所需厚度的薄膜。在相关技术中，存在许多专门进行原子层沉积的装置，然而，这些装置对于待包覆物的适用范围较为单一，仅能用于单一类型的待包覆物的沉积。

技术实现思路

[0003]基于此，本专利技术提出一种原子层沉积装置，可以对不同类型的待包覆物进行沉积，适用范围更广。
[0004]原子层沉积装置，包括：
[0005]反应室，所述反应室包括反应室主体与腔门，所述反应室主体的内部形成反应腔体，所述反应室主体上设有进气口与抽气口，所述腔门与所述反应本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.原子层沉积装置，其特征在于，包括：反应室，所述反应室包括反应室主体与腔门，所述反应室主体的内部形成反应腔体，所述反应室主体上设有进气口与抽气口，所述腔门与所述反应室主体可拆卸连接；安装架，所述安装架与所述腔门固定连接，所述腔门与所述反应室主体连接时，所述安装架位于所述反应腔体的内部；第一承载件，所述第一承载件用于承载块状待包覆物，所述第一承载件与所述安装架可拆卸连接；第二承载件，所述第二承载件用于承载粉状待包覆物，所述第二承载件与所述安装架可拆卸连接；驱动件；第一使用状态下，所述第一承载件与所述安装架固定连接；第二使用状态下，所述第二承载件与所述安装架连接，且所述驱动件与所述第二承载件连接，所述驱动件用于驱动所述第二承载件相对于所述安装架转动。2.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述第一承载件上设有多个凹槽，所述凹槽用于容纳所述块状待包覆物。3.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述第一使用状态下，所述第一承载件与所述安装架通过螺纹紧固件连接；或者，所述第一承载件与所述安装架卡扣连接；或者，所述第一承载件与所述安装架通过磁吸固定。4.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述第二使用状态下，所述第二承载件与所述安装架之间通过轴承连接，所述第二承载件的转轴与所述驱动件连接。5.根据权利要求4所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述第二承载件还包括抽气管，所述抽气管与所述抽气口连接，所述抽气管与所述转轴同轴设置，且二者分别位于所述第二承载件沿轴向的两端。6.根据权利要求5所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述安装架的中心区域设有贯通的容纳槽，所述第二承载件位于所述容纳槽内，沿所述轴向，所述容纳...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈蓉，邵华晨，刘潇，向俊任，李嘉伟，弋戈，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：