全息数据存储的相位掩模制造技术

本发明专利技术涉及全息数据存储的相位掩模（３），并且涉及用于使用此类相位掩模（３）从全息存储介质（１６）读取和／或向全息存储介质（１６）写入的方法和装置（７）。根据本发明专利技术，相位掩模（３）具有多个相位单元（４），相位单元（４）的尺寸等于装置（７）的空间光调制器（１）的像素（２）的尺寸的整数倍。相位单元（４）在子单元规模上具有相位变化，对于基本上一半数目的相位单元（４），该相位变化是反向的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及全息数据存储的相位掩模(phase mask )，并且涉及用于使用
技术介绍
在全息数据存储中，通过记录由两个相干激光束的叠加产生的干涉图案 来存储数字数据，其中， 一个光束(所谓的物光束)被空间光调制器(SLM) 调制，并且携带要被记录的信息。第二光束充当参考光束。干涉图案导致存 储材料的特定属性的修改，该修改依赖于干涉图案的局部亮度(local intensity )。通过利用参考光束照射全息图来执行所记录的全息图的读取，该 参考光束使用与记录期间相同的条件。这导致所记录的物光束的重建。全息数据存储的 一个优点是增加的数据容量。与传统的光学存储介质不 同，全息存储介质的体积(volumn)被用来存储信息，而不仅仅是一些层。 全息数据存储的另 一优点是例如通过改变两个光束之间的角度或通过使用移 位复用(shiftmultiplexing)等来在同一体积中存储多个数据的可能性。此外， 代替存储单个比特，将数据存储为数据页。典型地，数据页由明暗图案(light-dark-pattern)的矩阵组成，即两维二值阵列或灰度值阵列，其编码多 个比特。除了增加的存储密度之外，本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于从全息存储介质（１６）读取和／或向全息存储介质（１６）写入的装置（７）的相位掩模（３），所述相位掩模（３）具有多个具有子单元规模上的相位变化的相位单元（４），所述相位单元（４）的尺寸等于所述装置（７）的空间光调制器（１）的像素（２）的尺寸的整数倍，所述相位掩模（３）特征在于：对于基本上一半数目的所述相位单元（４），所述相位变化是反向的。

【技术特征摘要】
EP 2007-8-21 07114691.41.用于从全息存储介质(16)读取和/或向全息存储介质(16)写入的装置(7)的相位掩模(3)，所述相位掩模(3)具有多个具有子单元规模上的相位变化的相位单元(4)，所述相位单元(4)的尺寸等于所述装置(7)的空间光调制器(1)的像素(2)的尺寸的整数倍，所述相位掩模(3)特征在于:对于基本上一半数目的所述相位单元(4)，所述相位变化是反向的。2. 如权利要求1所述的相位掩模(3),其中，在所述相位掩模(3)的 平面内，所述相位单元(4)的尺寸在垂直方向上是不同的。3. 如权利要求1或2所述的相位掩模(3 )，其中，所述相位变化是圓形、 矩形、类环形、类多边形、或像素化的图案、或这些图案的组合中的至少一 种。4. 如权利要求3所述的相位掩模(3 ),其中，不同的相位单元(4)具 有不同的相位变化。5. 如之前权利要求之一所述的相位掩模(3 ),其中，所述相位掩模(3) 引入二值或多级相移。6. 如之前权利要求之一所述的相位掩模(3 ...

【专利技术属性】
技术研发人员：弗兰克普齐戈达，乔基姆尼特尔，
申请(专利权)人：汤姆森特许公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]