一种激光雕刻方法技术

本申请涉及激光雕刻技术领域，尤其是涉及一种激光雕刻方法，主要包括获取待雕刻图形的图案信息；通过图案信息确定雕刻装置相对工件的运行路径；根据所述运行路径与外围轮廓或内轮廓的间距，计算雕刻装置相对工件沿运行路径移动时，所述激光组件的摆动幅度；控制雕刻装置相对工件沿所述运行路径移动，控制所述激光组件以摆动幅度进行雕刻等雕刻步骤。通过该激光雕刻方法，有助于改善因待雕刻图形分区域进行激光雕刻而容易形成的缝隙的问题，由此提高雕刻图案的品质。雕刻图案的品质。雕刻图案的品质。

【技术实现步骤摘要】
一种激光雕刻方法


[0001]本申请涉及激光雕刻
，尤其是涉及一种激光雕刻方法。

技术介绍

[0002]激光雕刻加工是以数控技术为基础，采用具有光学组件的激光机构，以激光为加工媒介，借助多个透镜组成的光学组件达到高度聚焦后，在工件使用调变后的激光光线达到打标或雕刻等加工目的。
[0003]激光雕刻过程中，激光机构在待区域内往往是静止的，并采用逐行打点；即，从图案的一侧开始，以激光机构有效雕刻范围雕刻为区域划分行，在雕刻完成一行后再移动至下一行。
[0004]针对上述中的相关技术，专利技术人认为存在有以下缺陷，激光雕刻过程中会产生热量，承载雕刻图案的材料受热形变，在冷却后难以恢复则很容易出现变形，逐行打点方式很容易造成图形的轮廓或不同雕刻区域之间拼接处有明显的缝隙，影响雕刻图案的品质。

技术实现思路

[0005]为了减小不同雕刻残余的缝隙，提高雕刻图案的品质，本申请提供了一种激光雕刻方法。
[0006]本申请提供的一种激光雕刻方法，采用如下的技术方案：一种激光雕刻方法，包括：获取待雕刻图形的图案信息；所述待雕刻图形包括一个外围轮廓和若干内轮廓，所有所述内轮廓位于外围轮廓内；所述图案信息包括所述外围轮廓的外围位置数据和内轮廓的内位置数据；通过图案信息确定雕刻装置相对工件的运行路径；所述运行路径绕设于外围轮廓或内轮廓；所述雕刻装置设有激光组件；根据所述运行路径与外围轮廓或内轮廓的间距，计算雕刻装置相对工件沿运行路径移动时所述激光组件的摆动幅度；控制雕刻装置相对工件沿所述运行路径移动，控制所述激光组件以摆动幅度进行雕刻。
[0007]通过采用上述技术方案，于外围轮廓或内轮廓设定运行路径，使雕刻装置相对工件沿该运行路径移动，使位于雕刻装置的激光组件随雕刻装置移动而摆动，从而使位于雕刻后的图形轮廓连续，可减小因区域划分而容易形成的缝隙，由此提高雕刻图案的品质。
[0008]可选的，所述通过图案信息确定雕刻装置相对工件的运行路径之前，还包括：根据内轮廓数量，对待雕刻图形进行分类；所述待雕刻图形为连续图形；当内轮廓数量为0，则待雕刻图形为实心图形；当内轮廓数量为1，则待雕刻图形为环形图形；当内轮廓数量大于1，则待雕刻图形为多孔镂空图形。
[0009]通过采用上述技术方案，对待雕刻图案进行分类，便于根据不同类型设定雕刻装置相对工件的运行路径，提高不同图形的通过激光雕刻的效果。
[0010]可选的，所述雕刻图形为实心图形时，所述通过图案信息确定雕刻装置相对工件的运行路径，包括：根据外围位置数据和预存的激光组件的初始摆动范围确定运行路径；所述运行路径包括沿外围轮廓设置的外缘运行路径和位于外缘运行路径内的中间运行路径。
[0011]通过采用上述技术方案，实心图形仅有一个外围轮廓，因此雕刻后的图形图案容易因出现缝隙影响图案品质的区域主要在于外围轮廓。通过沿外围轮廓设定的外缘运行路径，可减少外围轮廓出现缝隙的不良率，同时其他区域可通过设定中间运行路径进行激光雕刻。
[0012]可选的，所述根据外围位置数据和预存的初始摆动范围确定运行路径，包括：确定待雕刻图形的中心点；根据所述初始摆动范围，将待雕刻图形划分为若干以所述中心点为中心的环形的第一子图形，每一所述第一子图形的环宽不超过所述初始摆动范围；获取每一第一子图形的第一子轮廓位置数据；通过所述第一子轮廓位置数据，计算所述第一子图形的运行路径。
[0013]通过采用上述技术方案，将实心图形划分为若干个环形状的第一子图形，可便于设定环形的运行路径，该方式中外援运行路径与中间运行路径均为环形，由此可减少待雕刻图形中间部分出现雕刻残留缝隙的概率，进一步提高激光雕刻品质。
[0014]可选的，所述待雕刻图形为环形图形时，所述通过图案信息确定雕刻装置相对工件的运行路径，包括：根据所述图案信息计算围绕于所述内轮廓的运行路径；所述运行路径位于所述内轮廓与所述外围轮廓之间。
[0015]通过采用上述技术方案，环形图形的运行路径通过外围位置数据与内位置数据计算获取，位于内轮廓与外围轮廓之间，可便于激光组件随雕刻装置绕外围轮廓或内轮廓运行，摆动激光发射角度，使激光雕刻覆盖所有待雕刻区域。
[0016]可选的，所述根据所述图案信息计算围绕于所述内轮廓的运行路径，包括：确定所述内轮廓的中心点；所述中心点为所述内轮廓中最长直径的中点；将每一延长线经过中心点的内轮廓与外围轮廓的连接线的中点连接，得到偏移路径；将偏移路径与外围轮廓的间距与预存的初始摆动范围的比较，得到所述运行路径。
[0017]通过采用上述技术方案，利用内轮廓的中心点，计算外围轮廓与内轮廓的间距，可获取与外围轮廓间距和与内轮廓间距一致的偏移路径，可使激光组件随雕刻装置移动时往复摆动的幅度一致，有助于提高对激光组件摆动幅度的控制。
[0018]可选的，当所述偏移路径与外围轮廓的间距位于所述初始摆动范围内，则所述偏移路径为运行路径，所述偏移路径与外围轮廓的间距为所述摆动幅度；当所述偏移路径与外围轮廓的间距大于所述初始摆动范围，则根据初始摆动范围将对应位置的待雕刻图形划分形成第二子图形和第三子图形，所述第二子图形具有所述内
轮廓；分别确定第二子图形与第三子图形的运行路径。
[0019]通过采用上述技术方案，激光组件具有一定的摆动幅度，当摆动幅度不满足偏移路径相对内轮廓或外围轮廓的间距时，激光组件雕刻的图形将存在较多未完全雕刻的区域，影响待雕刻图形的雕刻品质。因此，将超出范围的区域划分出去，可采用实心图形的处理方式进行激光雕刻，而原有的环形图形可保持既定运行路径移动，使激光组件进行激光雕刻。
[0020]可选的，所述待雕刻图形为多孔镂空图形，将待雕刻图形划分为数量与内轮廓数量相等的第四子图形；所述第四子图形中具有一个内轮廓，则所述通过图案信息确定雕刻装置相对工件的运行路径，包括确定每一所述第四子图形的第四运行路径。
[0021]通过采用上述技术方案，根据内轮廓数量划分镂空图形，可将镂空图形划分为多个环形图形，然后可采用环形图形的雕刻方式进行激光雕刻。
[0022]可选的，所述通过图案信息确定雕刻装置相对工件的运行路径，包括：预设图形数据库；所述图形数据库存储有数量大于1的常用图形，每一常用图形设置有激光组件的摆动阈值的和与所述摆动阈值对应的预设运行路径；将待雕刻图形与图形数据库中的常用图形轮询比较，判断是否存匹配的常用图形，若是，则所述预设运行路径为雕刻装置相对工件的运行路径。
[0023]通过采用上述技术方案，实际使用过程中，很多待雕刻图形都是固定的文字或图案等常用图形，因此预先对常用图形的运行路径及摆动幅度进行设定，形成图形数据库，便于在雕刻常用的常用图形时，先访问图形数据库，可提高确定图形的运行路径的效率。
[0024]可选的，还包括：记录待雕刻图形的获取次数；当获取次数达到获取阈值时，将所述待雕刻图形、对应的运行路径和摆动幅度添加至所述图像数据库。
[0025]通过采用上述技术方案，将经常雕刻本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光雕刻方法，其特征在于，包括：获取待雕刻图形(1)的图案信息；所述待雕刻图形(1)包括一个外围轮廓(11)和若干内轮廓(12)，所有所述内轮廓(12)位于外围轮廓(11)内；所述图案信息包括所述外围轮廓(11)的外围位置数据和内轮廓(12)的内位置数据；通过图案信息确定雕刻装置相对工件的运行路径(2)；所述运行路径(2)绕设于外围轮廓(11)或内轮廓(12)；所述雕刻装置设有激光组件；根据所述运行路径(2)与外围轮廓(11)或内轮廓(12)的间距，计算雕刻装置相对工件沿运行路径(2)移动时所述激光组件的摆动幅度(3)；控制雕刻装置相对工件沿所述运行路径(2)移动，控制所述激光组件以摆动幅度(3)进行雕刻。2.根据权利要求1所述的激光雕刻方法，其特征在于：所述通过图案信息确定雕刻装置相对工件的运行路径(2)之前，还包括：根据内轮廓(12)数量，对待雕刻图形(1)进行分类；所述待雕刻图形(1)为连续图形；当内轮廓(12)数量为0，则待雕刻图形(1)为实心图形(13)；当内轮廓(12)数量为1，则待雕刻图形(1)为环形图形(14)；当内轮廓(12)数量大于1，则待雕刻图形(1)为多孔镂空图形(15)。3.根据权利要求2所述的激光雕刻方法，其特征在于：所述雕刻图形为实心图形(13)时，所述通过图案信息确定雕刻装置相对工件的运行路径(2)，包括：根据外围位置数据和预存的激光组件的初始摆动范围确定运行路径(2)；所述运行路径(2)包括沿外围轮廓(11)设置的外缘运行路径(2)和位于外缘运行路径(2)内的中间运行路径(2)。4.根据权利要求3所述的激光雕刻方法，其特征在于：所述根据外围位置数据和预存的初始摆动范围确定运行路径(2)，包括：确定待雕刻图形(1)的中心点；根据所述初始摆动范围，将待雕刻图形(1)划分为若干以所述中心点为中心的环形的第一子图形，每一所述第一子图形的环宽不超过所述初始摆动范围；获取每一第一子图形的第一子轮廓位置数据；通过所述第一子轮廓位置数据，计算所述第一子图形的运行路径(2)。5.根据权利要求2所述的激光雕刻方法，其特征在于：所述待雕刻图形(1)为环形图形(14)时，所述通过图案信息确定雕刻装置相对工件的运行路径(2...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈立波，邓永隆，
申请(专利权)人：深圳市智远数控有限公司，
类型：发明
国别省市：