一种闪蚀药水护岸剂、生产方法及设备技术

本发明专利技术涉及半导体制造领域，具体涉及一种闪蚀药水护岸剂、生产方法及设备，底壳与釜体转动连接，进气阀与釜体连通，进气阀和氮气供应装置连接通入氮气进行保护；进料壳的第一进料口放入甲苯，第二进料口放入需要萃取的2

【技术实现步骤摘要】
一种闪蚀药水护岸剂、生产方法及设备


[0001]本专利技术涉及半导体制造领域，尤其涉及一种闪蚀药水护岸剂、生产方法及设备。

技术介绍

[0002]但是对于超精细线路成型工艺，目前MSAP工艺中常见的酸铜或碱铜已无法达到精度的要求，即便采用价格昂贵的真空蚀刻设备，线路品质可产品可靠性依然无法得到有效保证，当前采用真空蚀刻设备上酸铜体系制备精细线路的工艺，最低的有效蚀刻线宽线距通常为45μm/45μm左右。
[0003]蚀刻药水中一般需要添加护岸剂，也称为缓蚀剂，可以防止或减缓材料腐蚀，现有的护岸剂使用效果不好，并且在提纯的过程中溶剂容易挥发到空气中，影响操作人员健康。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种闪蚀药水护岸剂、生产方法及设备，旨在解决现有制造过程溶剂容易挥发到空气中影响操作人员健康的问题。
[0005]为实现上述目的，第一方面，本专利技术提供了一种闪蚀药水护岸剂，所述闪蚀药水护岸剂为2
‑
巯基苯骈噻唑。
[0006]第二方面，本专利技术提供一种闪蚀药水护岸剂的生本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种闪蚀药水护岸剂，其特征在于，所述闪蚀药水护岸剂为2
‑
巯基苯骈噻唑。2.一种闪蚀药水护岸剂的生产设备，应用于制备如权利要求1所述的闪蚀药水护岸剂，其特征在于，包括外壳、进料组件、搅拌组件和过滤组件，所述外壳包括釜体、进气阀和底壳，所述釜体具有第一凹槽，所述底壳与所述釜体转动连接，并覆盖所述第一凹槽，所述进气阀与所述釜体连通，并位于所述釜体的一侧，所述进料组件包括进料壳、混合壳、加压泵、喷嘴和第二单向阀，所述进料壳具有第一进料口和第二进料口，所述进料壳与所述釜体固定连接，并位于所述釜体的一侧，所述混合壳与所述进料壳连通，并贯穿所述釜体，所述加压泵与所述混合壳连通，并位于所述釜体外侧，所述喷嘴与所述混合壳连通，并位于所述釜体内，所述第二单向阀设置在所述混合壳和所述进料壳连接处，所述过滤组件包括过滤网和第二出料管，所述过滤网具有第一出料管，所述过滤网与所述底壳可拆卸连接，所述第一出料管穿过所述底壳，所述第二出料管与所述底壳连通，并位于所述底壳的一侧，所述搅拌组件设置在所述釜体内。3.如权利要求2所述的闪蚀药水护岸剂的生产设备，其特征在于，所述外壳还包括第一密封圈，所述第一密封圈与所述底壳固定连接，并位于所述底壳和所述釜体之间。4.如权利要求3所述的闪蚀药水护岸剂的生产设备...

【专利技术属性】
技术研发人员：万小宁，
申请(专利权)人：镌致实业重庆有限公司，
类型：发明
国别省市：