低应力绝缘阻隔耐腐蚀涂层制备方法技术

一种低应力绝缘阻隔耐腐蚀涂层制备方法，包括：采用气体等离子体源对基片进行等离子体清洗；调整每组中的两个溅射阴极各自角度位置至对应的预设溅射角度，以及调整每组中的两个溅射阴极各自靶材的高度位置；通入反应气体进行溅射，并通过移动基片以形成单层厚度涂层，以及调整每组中的两个溅射阴极的高度并反向移动基片以在单层厚度涂层的表面上形成另一单层厚度涂层，且往复交替动作后，以在基片上沉积形成预设厚度涂层。本发明专利技术通过改变溅射阴极的溅射角度，以及交替沉积的方式，降低了相邻单层厚度涂层之间的内应力，为制备低应力涂层提供了条件，同时提高了沉积速率、绝缘阻隔性和耐腐蚀性，以及具有良好的包覆性。以及具有良好的包覆性。以及具有良好的包覆性。

【技术实现步骤摘要】
低应力绝缘阻隔耐腐蚀涂层制备方法


[0001]本专利技术涉及材料表面处理
，特别涉及一种低应力绝缘阻隔耐腐蚀涂层制备方法。

技术介绍

[0002]OLED柔性显示技术因其具有可弯曲、响应速度快、高色域、宽视角的特点，以及对比传统的显示技术其不论是在画面品质、功耗及成本上都有很大的优势，使得其大规模取代传统显示技术而被在应用在电视、手机、平板显示等领域。
[0003]目前，OLED柔性显示屏幕的表面主要采用封装掩膜版(CVD Mask)，且通过表面镀膜的方法以提高其阻隔绝缘耐腐蚀特性，即通过磁控溅射方式在表面制备氧化铝涂层。
[0004]现有的磁控溅射方式中，采用溅射阴极与基片表面垂直的方式进行制备氧化铝涂层，但是溅射过程中存在一定的缺陷，如：氧化铝涂层内应力大引起脱膜、掩膜版褶皱变形严重；氧化铝涂层的沉积速率慢；氧化铝涂层较疏松，耐击穿及耐腐蚀性能较差；掩膜版开口边缘包覆性差。

技术实现思路

[0005]基于此，本专利技术的目的是提供一种低应力绝缘阻隔耐腐蚀涂层制备方法，以降低应力，提高沉积速率、绝缘阻隔性本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低应力绝缘阻隔耐腐蚀涂层制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S10，将预处理后的基片传输至真空腔内的清洗区域，并采用气体等离子体源对基片的待镀膜表面进行等离子体清洗；步骤S11，将等离子体清洗后的基片传输至涂层制备区域，调整每组中的两个溅射阴极各自角度位置至对应的预设溅射角度，以及调整每组中的两个溅射阴极各自靶材的高度位置，以使各自靶材的最底端位置距离基片的待镀膜表面至同一预设高度；步骤S12，通入反应气体进行溅射，并移动基片使两个溅射阴极在基片的待镀膜表面上形成单层厚度涂层，以及调整每组中的两个溅射阴极的高度并反向移动基片以在单层厚度涂层的表面形成另一单层厚度涂层，且往复交替动作后，以在基片的待镀膜表面上沉积形成预设厚度涂层；步骤S13，停止溅射，将溅射后的半成品传输至暂存腔中进行冷却，放置预设时间；步骤S14，将放置后的半成品进行翻面，并传输至真空腔内，重复步骤S10至步骤S13，以形成包覆基片的低应力绝缘阻隔耐腐蚀涂层。2.根据权利要求1所述的低应力绝缘阻隔耐腐蚀涂层制备方法，其特征在于，在步骤S11中，进行角度调整时，每个溅射阴极的轴线与基片的待镀膜表面之间呈倾斜状，且每组中的两个溅射阴极的轴线处于垂直于待镀膜表面的同一平面上。3.根据权利要求2所述的低应力绝缘阻隔耐腐蚀涂层制备方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖舒，吴俊越，孙泽润，李嘉坤，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：发明
国别省市：