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一种低应力绝缘阻隔耐腐蚀涂层制备方法，包括：采用气体等离子体源对基片进行等离子体清洗；调整每组中的两个溅射阴极各自角度位置至对应的预设溅射角度，以及调整每组中的两个溅射阴极各自靶材的高度位置；通入反应气体进行溅射，并通过移动基片以形成单层厚...
该专利属于华南理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过华南理工大学授权不得商用。

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