真空泵制造技术

本发明专利技术公开一种真空泵包括二个转子、汽缸以及旋转驱动结构。该汽缸包括一汽缸壁。该两转子设于该汽缸，该两转子皆包括爪部与凹陷部，凹陷部设于爪部并与汽缸壁形成一闪避空间。旋转驱动结构包括一槽体、多个磁性柱、二个磁性旋转柱和多个电磁线圈。二个磁性旋转柱位于槽体内并分别与两转子枢接。各磁性柱皆包括一第一连接端、一第二连接端、一第一侧边以及一第二侧边，其中各磁性柱分散设置并与槽体以第一连接端连接，且第二连接端环绕两磁性旋转柱。各电磁线圈是分散设各第一侧边及各第二侧边并紧靠槽体。边并紧靠槽体。边并紧靠槽体。

【技术实现步骤摘要】
真空泵


[0001]本专利技术关于一种真空泵，特别是一种能与汽缸壁形成一闪避空间以改善爪形转子运转时气体异物沉积并通过均匀的磁力线而驱动泵的转子旋转及通过均匀的磁力线而驱动泵的转子旋转的真空泵。

技术介绍

[0002]现有用于真空泵的爪形转子运转时，因为爪形转子的爪部与真空泵汽缸之间多为紧密配合，故两者间没有多余的空间可以容纳真空泵运转时空气中所夹杂的异物，而因为气流带动，这类异物大多会卡在爪部与真空泵汽缸壁之间，造成爪部被异物卡入而无法转动的情况发生，在使用上有改进的必要。真空泵是将气体从容器内排出，使容器内形成负压的泵。一般的真空泵具有十二只磁性柱、一对磁性旋转轴和一对转子。十二只磁性柱环绕该对磁性旋转轴，并通过磁力而驱使磁性旋转轴同步反向旋转。当该对磁性旋转轴同步反向旋转时，会带动转子一起同步反向旋转，以将气体排出。然而，十二只磁性柱所形成的磁力线较不均匀，且密度较稀疏，因此会造成磁性旋转轴偶尔无法平稳转动。因此，有必要提供一种新的旋转趋动结构，以改变上述问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术的主要目的是在提供一种通过均匀的磁力线而驱动泵的转子旋转的真空泵。
[0004]本专利技术的另一主要目的在提供一种能与汽缸壁形成一闪避空间以改善爪形转子运转时气体异物沉积的真空泵。
[0005]为达成上述的目的，本专利技术的真空泵包括二个转子、汽缸以及旋转驱动结构。汽缸，其中该汽缸包括一汽缸壁。两转子，该两转子设于该汽缸，该两转子皆包括爪部与凹陷部，凹陷部设于爪部并与汽缸壁形成一闪避空间。旋转驱动结构包括一槽体、多个磁性柱、二个磁性旋转柱和多个电磁线圈。二个磁性旋转柱位于槽体内并分别与两转子枢接。各磁性柱皆包括一第一连接端、一第二连接端、一第一侧边以及一第二侧边，其中各磁性柱分散设置并与槽体以第一连接端连接，且第二连接端环绕两磁性旋转柱。各电磁线圈是分散设各第一侧边及各第二侧边并紧靠槽体。
[0006]在本专利技术的一实施例中，该爪部包括一第一外缘面以及一第二外缘面，该凹陷部设于该第一外缘面与该第二外缘面之间，其中该凹陷部包括一深度h，该深度h>0.1mm，其特征在于，该凹陷部包括一底面，其中该深度h为该底面与该汽缸壁间的距离。
[0007]在本专利技术的一实施例中，该第一外缘面以及该第二外缘面的面积分别占该爪部的爪面截面积的5％～50％。
[0008]在本专利技术的一实施例中，该第一外缘面以及该第二外缘面的面积分别占该爪部的爪面截面积的10％～30％。
[0009]在本专利技术的一实施例中，该两磁性旋转柱皆包括一主体和多个磁性件，各该磁性
件分散设置于该主体。
[0010]在本专利技术的一实施例中，各个磁性旋转柱更包括一转轴，该转轴设于该主体内，且各该磁性件分散并以该转轴为圆心以相隔度设置于该转轴的四周。
[0011]在本专利技术的一实施例中，任两个相邻的磁性件具有相反的磁极。
[0012]在本专利技术的一实施例中，该槽体更包括多个内侧壁面，各该第一连接端连接该多个内侧壁面，其中该多个内侧壁面呈现为平坦的表面。
[0013]在本专利技术的一实施例中，至少一内侧壁面包括一延伸柱，其中该多个磁性柱的其中至少一磁性柱连接该延伸柱。
[0014]在本专利技术的一实施例中，该多个磁性柱的数目为二十四个，且其中的十二个该磁性柱以该两磁性旋转柱的其中一为中心呈放射状排列，且此该十二个磁性柱的该第二连接端以该两磁性旋转柱的其中一形成一旋转区。
[0015]通过本专利技术的凹陷部的设计，于爪形转子运转时，让异物不会被卡在爪部，且此设计能让凹陷部与汽缸壁形成可容纳异物沉积的一闪避空间，达到延长爪形转子运转时间的功效，并解决先前技术中沉积物卡住爪部让爪形转子无法正常运转的问题，通过设置多个磁性柱产生密度高且分布均匀的磁力线，故可以使二个磁性旋转柱更为平顺的转动。
附图说明
[0016]图1A是本专利技术的真空泵的一实施例的立体图。
[0017]图1B是本专利技术的转子的一实施例的俯视图。
[0018]图1C是本专利技术的转子的一实施例的立体图。
[0019]图1D是本专利技术的转子的爪部的一实施例的局部放大示意图。
[0020]图1E是本专利技术的转子设于汽缸的一实施例的俯视图。
[0021]图1F本专利技术的爪部设于汽缸的一实施例的局部放大示意图。
[0022]图2是本专利技术的一实施例的旋转驱动结构的示意图。
[0023]图3是本专利技术的一实施例的旋转驱动结构的部分示意图。
[0024]其中附图标记为：
[0025]旋转驱动结构1
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
槽体10
[0026]内侧壁面11、11a
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
延伸柱111
[0027]磁性柱20
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
第一连接端22
[0028]第二连接端23
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
第一侧边24
[0029]第二侧边25
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
旋转区26
[0030]磁性旋转柱30
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
主体31
[0031]磁性件32、32a
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
转轴33
[0032]电磁线圈40
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
真空泵200
[0033]转子210
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
旋转方向A、B
[0034]汽缸230
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
汽缸壁231
[0035]爪部211
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
第一外缘面2111
[0036]第二外缘面2112
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
凹陷部212
[0037]底面2122
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
闪避空间S1
[0038]沉积物90
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
深度h
[0039]A处
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
B处
具体实施方式
[0040]为让本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，特举较佳具体实施例说明如下。以下请一并参考图1A至图1F关于本专利技术的真空泵的一实施例的立体图、转子的一实施例的俯视图、转子的一实施例的立体图、爪部的一实施例的局部放大示意图、转子设于汽缸的一实施例的俯视图以及爪部设于汽缸的一实施例的局部放大示意图。
[0041]如图1A至图1F所示，在本专利技术的一实施例中，真空泵200包括二个转子210、汽缸230以及旋转驱动结构1，其中转子210设于汽缸230，其中汽缸230包括汽缸壁2本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空泵，其特征在于，该真空泵包括：一汽缸，其中该汽缸包括一汽缸壁；两转子，该两转子设于该汽缸，该两转子皆包括：一爪部；一凹陷部，设于该爪部并与该汽缸壁形成一闪避空间；一旋转驱动结构，包括：一槽体；两磁性旋转柱，其是位于该槽体内并分别与该两转子枢接；多个磁性柱，各该磁性柱皆包括一第一连接端、一第二连接端、一第一侧边以及一第二侧边，其中各该磁性柱分散设置并与该槽体以该第一连接端连接，且该第二连接端环绕该两磁性旋转柱；以及多个电磁线圈，各该电磁线圈是分散设于各该第一侧边及各该第二侧边并紧靠该槽体。2.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，该爪部包括一第一外缘面以及一第二外缘面，该凹陷部设于该第一外缘面与该第二外缘面之间，其中该凹陷部包括一深度h，该深度h>0.1mm，其特征在于，该凹陷部包括一底面，其中该深度h为该底面与该汽缸壁间的距离。3.如权利要求2所述的真空泵，其特征在于，该第一外缘面以及该第二外缘面的面积分别占该爪部的爪面截面积的5％～50％。4.如权利要求3所述的真空泵，...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾崇诚，
申请(专利权)人：信强宁波半导体设备制造有限公司，
类型：发明
国别省市：