一种用于单晶硅片清洗的清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及单晶硅片加工技术领域，且公开了一种用于单晶硅片清洗的清洗装置，包括清洗箱，所述清洗箱内腔底部的中部固定连接有电动伸缩杆一，所述电动伸缩杆一的顶部固定连接有推板，所述清洗箱底端的两侧均固定连接有支撑板，所述支撑板的上方放置有硅片放置框。该用于单晶硅片清洗的清洗装置，通过电动伸缩杆一的设置，电动伸缩杆一的伸缩可以改变与之相固定连接的推板的位置，推板可以向上推动硅片放置框，使硅片放置框可以移动至清洗箱的上方，便于工作人员搬运硅片放置框，通过支撑板的设置，支撑板支撑硅片放置框，使硅片放置框的底部与清洗箱内腔的底部分隔开，便于硅片上杂质的掉落。杂质的掉落。杂质的掉落。

【技术实现步骤摘要】
一种用于单晶硅片清洗的清洗装置


[0001]本技术涉及单晶硅片加工
，具体为一种用于单晶硅片清洗的清洗装置。

技术介绍

[0002]单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿，其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等，由于太阳能具有清洁、环保、方便等诸多优势，近三十年来，太阳能利用技术在研究开发、商业化生产、市场开拓方面都获得了长足发展，成为世界快速、稳定发展的新兴产业之一。
[0003]单晶硅可以用于二极管级、整流器件级、电路级以及太阳能电池级单晶产品的生产和深加工制造，其后续产品集成电路和半导体分离器件已广泛应用于各个领域，在军事电子设备中也占有重要地位。
[0004]单晶硅片是制造半导体硅器件的原料，用于制大功率整流器、大功率晶体管、二极管、开关器件等的主要材料，在硅片加工过程中，单晶硅片易附着颗粒、有机物、金属或是吸附杂质分子，需要对其进行清洗，现有的清洗装置均是将单晶硅片放入水槽中冲洗，效率较低。

技术实现思路

[0005]针对现有用于单晶硅片清洗的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于单晶硅片清洗的清洗装置，包括清洗箱(1)，其特征在于：所述清洗箱(1)内腔底部的中部固定连接有电动伸缩杆一(3)，所述电动伸缩杆一(3)的顶部固定连接有推板(4)，所述清洗箱(1)底端的两侧均固定连接有支撑板(5)，所述支撑板(5)的上方放置有硅片放置框(10)，所述清洗箱(1)内腔的一侧固定连接有电动伸缩杆二(6)，所述电动伸缩杆二(6)的另一端固定连接有推板一(7)，所述清洗箱(1)内腔的另一侧固定连接有弹簧(8)，所述弹簧(8)的另一端固定连接有推板二(9)，所述推板一(7)和推板二(9)均位于硅片放置框(10)的中部，所述清洗箱(1)一侧的地面上固定连接有放置台(13)，所述放置台(13)的顶部固定连接有液体泵(14)，所述液体泵(14)的出水口固定连接有出水管(15)，所述出水管(15)的另一端贯穿清洗箱(1)顶端的侧壁并延伸至清洗箱(1)内腔的顶端，所述放置台(13)顶端的一侧固定连接有液体过滤箱(16)，所述液体过滤箱(16)的一侧固定连接有进水管(17)，所述进水管(17)的另一端与液体泵(14)的进水口相固定连接，所述液体过滤箱(16)的另一侧固定连接有连接管(12)，所述连接管(12)的另一端贯穿清洗箱(1)的侧壁并延伸至清洗箱(1)内腔的底端，所述连接管(12)的另一端位于...

【专利技术属性】
技术研发人员：张世杰，
申请(专利权)人：新疆东方希望光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：