一种间隙测量仪、反应腔及半导体设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种间隙测量仪、反应腔及半导体设备，所述间隙测量仪包括光源、探头、两个图像传感器和数据处理器；探头包括两个具有预设夹角的镜头；光源用于向待测位置提供照射光以形成反射光；两个镜头用于分别接收由待测位置反射回来的反射光，并将反射光分别传输至与其对应设置的图像传感器；两个图像传感器分别用于对所接收的光信号进行光电转换，以获取对应视角下的待测位置的图像，并将所述图像传输至数据处理器；数据处理器用于根据所述图像，计算待测位置处的间隙。本实用新型专利技术提供的间隙测量仪能够测量出反应腔的部件之间的间隙，使得聚焦环与静电吸附盘之间的安装间隙均匀，有效地避免待测位置处产生颗粒物和引起放电效应。电效应。电效应。

【技术实现步骤摘要】
一种间隙测量仪、反应腔及半导体设备


[0001]本技术涉及半导体设备
，尤其涉及一种间隙测量仪、反应腔及半导体设备。

技术介绍

[0002]TEL Vigus型号的机台每次在进行腔体保养时会更换聚焦环(focus ring)，目前方法是使用TEL公司专用的的静电吸附盘的保护盖和0.1mm的塑料卡片确保安装间隙均匀，安装完成后使用塞规测量间隙。
[0003]然而，安装之后的聚焦环与静电吸附盘之间的间隙仅有0.09～0.11mm，同时塑料卡片轻薄易损耗变形，仅靠目视检查安装间隙是否均匀，无法保证所述聚焦环与所述静电吸附盘完全同心，使得安装精度不高；安装间隙不均匀时，易造成聚合物在间隙中堆积过多，进而在静电吸附盘与聚焦环之间形成较大的电势差而造成放电效应，从而容易造成静电吸附盘与聚焦环的金属损伤缺陷以及容易在间隙处形成颗粒物；而在采用塞规对安装后的间隙进行测量时，所述塞规会与部件发生摩擦，易产生颗粒物(particle)。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种间隙测量仪、反应腔及半导体设备，以解决现有技术中存在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种间隙测量仪，用于测量两个物体之间的间隙，其特征在于，所述间隙测量仪包括光源、探头、两个图像传感器和数据处理器；所述探头包括两个具有预设夹角的镜头；所述光源用于向待测位置提供照射光以形成反射光；两个所述镜头用于分别接收由所述待测位置反射回来的反射光，并将所接收的反射光分别传输至与其对应设置的所述图像传感器；两个所述图像传感器分别用于对所接收的光信号进行光电转换，以获取对应视角下的所述待测位置的图像，并将所获得的所述待测位置的图像传输至所述数据处理器；所述数据处理器用于根据所接收到的两个不同视角下的所述待测位置的图像，计算所述待测位置处的间隙。2.根据权利要求1所述的间隙测量仪，其特征在于，两个所述图像传感器均为CCD图像传感器。3.根据权利要求1所述的间隙测量仪，其特征在于，所述光源与所述探头之间通过光纤相连。4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏峥颖，叶璘珂，荆泉，陈力钧，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：