圆筒型溅射靶的制造方法技术

本发明专利技术包括：基底处理工序，在圆筒型靶材的内周面和圆筒型衬管的外周面中的至少任一个部件上涂布基底处理接合材料来形成0.1mm以上且0.8mm以下的第一基底处理层；及接合工序，在基底处理工序之后，将圆筒型衬管插入到圆筒型靶材内，并将熔融状态的填充用接合材料填充于该圆筒型靶材与圆筒型衬管之间的间隙，在基底处理工序中，在第一基底处理层的至少表面上留下划伤，在接合工序中，在加热至第一基底处理层的至少表面成为半熔融状态之后，填充填充用接合材料。用接合材料。用接合材料。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】圆筒型溅射靶的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种用于溅射装置的圆筒型溅射靶的制造方法。
[0002]本申请主张基于2019年3月25日于日本申请的专利申请2019
‑
057175号的优先权，并将其内容援用于此。

技术介绍

[0003]已知一种在旋转圆筒型溅射靶的同时进行溅射的溅射装置。如专利文献1所示，用于这种溅射装置的圆筒型溅射靶中，圆筒型的靶材的内周面与圆筒型衬管的外周面接合。在该接合中，已知如下接合方法：将与接合材料相同或相似的基底处理接合材料涂布于成为接合面的圆筒型衬管的外周面及圆筒型靶材的内周面上来形成基底处理覆膜，然后，将圆筒型衬管插入到靶材内，在两者之间设置针对接合部的间隙，并且使靶材和圆筒型衬管成为被加热的状态，向该间隙供给熔融状态的接合材料来填充间隙。通常，将铟(In)用作接合材料。
[0004]此时，靶材及圆筒型衬管的基底处理接合材料的表面会经基底处理后的冷却及用于将接合材料填充到两者的间隙内的接合前的再加热等而氧化，形成氧化膜。
[0005]所填充的接合材料与基底处理接合材料本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种圆筒型溅射靶的制造方法，将圆筒型靶材的内周面与插入到该圆筒型靶材的内侧的圆筒型衬管的外周面之间的间隙用接合材料进行填充来接合，其特征在于，包括：基底处理工序，在所述圆筒型靶材的内周面和所述圆筒型衬管的外周面中的至少任一个部件上涂布基底处理接合材料来形成0.1mm以上且0.8mm以下的第一基底处理层；及接合工序，在基底处理工序之后，将所述圆筒型衬管插入到所述圆筒型靶材内，并将熔融状态的填充用接合材料填充于该圆筒型靶材与所述圆筒型衬管之间的间隙，在所述基底处理工序中，在所述第一基底处理层的至少表面上留下划伤，在所述接合工序中，在加热...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈野晋，大友健志，
申请(专利权)人：三菱综合材料株式会社，
类型：发明
国别省市：