流体压力波动抑制装置及光刻设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种流体压力波动抑制装置及光刻设备，涉及半导体加工领域，为解决现有光刻设备存在因水流不稳定而影响工作精度的问题而设计。该流体压力波动抑制装置包括减压元件和增压稳压模块，减压元件用于连接在水冷机的出口端与光刻设备的承片台之间，减压元件被配置为使水冷机的出口端的压力保持在第一设定值；增压稳压模块包括增压元件，增压元件的入口端与承片台连接，增压元件的出口端与水冷机的入口端连接，增压元件被配置为使流回水冷机的流体压力保持在第二设定值。该光刻设备包括上述流体压力波动抑制装置。本实用新型专利技术提供的流体压力波动抑制装置及光刻设备抑制了流体的波动，从而提高了光刻设备的工作精度。度。度。

【技术实现步骤摘要】
流体压力波动抑制装置及光刻设备


[0001]本技术涉及半导体加工领域，具体而言，涉及一种流体压力波动抑制装置及光刻设备。

技术介绍

[0002]在新一代光刻设备工作的过程中，即使是温度的微小变化，也会影响到光刻设备的工作精度，因此，需要硅片周围的温度保持恒定，这就要求工件台具有稳定的高精度冷却水循环，使吸盘的温度保持恒定。而上述高精度冷却水循环不仅需要对吸盘进行冷却，还需要对电机、顶部水冷板和内外屏蔽层等多个部品进行冷却，因此在水循环的过程中，容易造成流体压力变化，导致水流不稳定，从而影响光刻设备的工作精度。

技术实现思路

[0003]本技术的第一个目的在于提供一种流体压力波动抑制装置，以解决现有光刻设备存在因水流不稳定而影响工作精度的技术问题。
[0004]本技术提供的流体压力波动抑制装置，设置于光刻设备，所述流体压力波动抑制装置包括减压元件和增压稳压模块，其中，所述减压元件用于连接在水冷机的出口端与所述光刻设备的承片台之间，所述减压元件被配置为使所述水冷机的出口端的压力保持在第一设定值；所述增压稳压模块包括增压元件，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种流体压力波动抑制装置，其特征在于，设置于光刻设备，所述流体压力波动抑制装置包括减压元件(100)和增压稳压模块(200)，其中，所述减压元件(100)用于连接在水冷机(300)的出口端与所述光刻设备的承片台(400)之间，所述减压元件(100)被配置为使所述水冷机(300)的出口端的压力保持在第一设定值；所述增压稳压模块(200)包括增压元件(210)，所述增压元件(210)的入口端与所述承片台(400)连接，所述增压元件(210)的出口端与所述水冷机(300)的入口端连接，所述增压元件(210)被配置为使流回所述水冷机(300)的流体压力保持在第二设定值。2.根据权利要求1所述的流体压力波动抑制装置，其特征在于，所述增压稳压模块(200)还包括第一管路(220)，所述第一管路(220)与所述增压元件(210)并联设置，所述第一管路(220)设置有第一单向阀(221)，所述第一单向阀(221)被配置为使所述第一管路(220)自所述承片台(400)向所述水冷机(300)的入口端单向导通。3.根据权利要求2所述的流体压力波动抑制装置，其特征在于，所述增压稳压模块(200)还包括第二管路(230)，所述第二管路(230)与所述增压元件(210)并联设置，所述第二管路(230)设置有第二单向阀(231)，所述第二单向阀(231)被配置为使所述第二管路(230)自所述水冷机(300)的入口端向所述承片台(400)单向导通。4.根据权利要求3所述的流体压力波动抑制装置，其特征在于，所述增压稳压模块(200)还包括入口分流元件，所述入口分流元件包括用于与所述承片台(400)连接的主入口，以及多个分流出口，多个所述分流出口被配置为分别与所述第一管路...

【专利技术属性】
技术研发人员：张利，周二虎，曹红波，
申请(专利权)人：杭州天睿精密科技有限公司，
类型：新型
国别省市：