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本实用新型提供了一种流体压力波动抑制装置及光刻设备，涉及半导体加工领域，为解决现有光刻设备存在因水流不稳定而影响工作精度的问题而设计。该流体压力波动抑制装置包括减压元件和增压稳压模块，减压元件用于连接在水冷机的出口端与光刻设备的承片台之间，...
该专利属于杭州天睿精密科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州天睿精密科技有限公司授权不得商用。

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