一种曝光台机自动清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术适用于清洁装置技术领域，提供了一种曝光台机自动清洁装置，其特征在于:包括第一罐体，第一罐体上镶嵌安装有第二罐体，第二罐体内部具有电机，电机安装在电机安装板上，电机与吸入装置相连接，第二罐体上部与第三罐体连接，第三罐体具有清洁管，清洁管具有清洁头，第三罐体与出风口连接，电机与外电源相连接，且受外部控制器控制。第二罐体具有开关卡扣，出风口与第二罐体连接有把手。第二罐体上安装有开关。由于安装了吸入装置和清洁头，可以吸入曝光台机中的灰尘与杂质，同时采用了清洁管，方便在曝光台各种空间中进行工作。作。作。

【技术实现步骤摘要】
一种曝光台机自动清洁装置


[0001]本技术属于清洁装置
，尤其涉及一种曝光台机自动清洁装置。

技术介绍

[0002]光刻机，又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。其中生产光刻机的厂商主要为ABM光刻机公司，ABM光刻机公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机(光刻机)，单独曝光系统，光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。截止到2010年3月，ABM公司在世界范围售出了800多台光刻机，50多台单独曝光系统。在美国拥有众多客户，最著名的客户是美国NASA和INTEL，ABM 光刻机在中国台湾地区销量第一，超过半数的大学、研究所和部分工厂使用ABM的光刻机。ABM光刻机在中国销售超过150台，拥有众多的不同类型的客户，包括：国家重点实验室、各领域研究所、知名大学和为数众多的工厂，设备用于生产和研发，ABM光刻机愿以其优越的性能和有竞争力的价格为中国半导体市场提供了优良的产品和良好的服务。ABM光刻机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光台机自动清洁装置，其特征在于:包括第一罐体(1)，所述第一罐体(1)上镶嵌安装有第二罐体(2)，所述第二罐体(2)内部具有电机(9)，所述电机(9)安装在电机安装板(8)上，所述电机(9)与吸入装置(7)相连接，所述第二罐体(2)上部与第三罐体(3)连接，所述第三罐体(3)具有清洁管(6)，所述清洁管(6)具有清洁头(61)，所述第三罐体(3)与出风口(4)连接，所述电机(9)与外电源相连接，且受外部控制器控制。2.根据权利要求1所述的一种曝光台机自动清...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑中宇，
申请(专利权)人：深圳市凯瑞得智能股份有限公司，
类型：新型
国别省市：