【技术实现步骤摘要】
一种密封机构及其高温反应系统
[0001]本专利技术涉及密封领域,特别是一种密封机构及其高温反应系统。
技术介绍
[0002]现有的高温反应系统,一般涉及高温高压反应环境,在这种情况下,当转轴从反应室穿出,且该转轴相对反应室进行转动时,会发生反应室内气体逸出的现象,从而导致污染环境,例如,逸出氟化氢气体。
技术实现思路
[0003]为了解决上述现有的技术问题,本专利技术提供一种密封机构及其高温反应系统,该密封机构具有四氟盘根,能够直接吸收逸出气体,更进一步,设置唇形密封圈,阻滞气体逸出。
[0004]本专利技术解决上述现有的技术问题,提供一种密封机构,包括主体,所述主体具有安装孔,还包括四氟盘根和唇形密封圈;所述四氟盘根和所述唇形密封圈配合设置于所述安装孔内。
[0005]本专利技术更进一步的改进如下所述。
[0006]所述四氟盘根位于所述主体的密封侧。
[0007]所述唇形密封圈位于所述主体的另一侧。
[0008]所述唇形密封圈为多个,线性阵列排列。
[0009]所述主体具有四氟盘根室,用于设置所述四氟盘根;所述主体具有唇形密封圈室,用于设置所述唇形密封圈。
[0010]所述主体分成串连的第一密封体和第二密封体,所述第一密封体包围所述四氟盘根;所述第二密封体设置所述唇形密封圈。
[0011]所述主体还包括第三密封体,所述第一密封体、所述第二密封体、所述第三密封体顺序串连成一体。
[0012]所述第二密封体的外侧设置唇形密封圈室, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种密封机构,其特征在于:包括主体,所述主体具有安装孔,还包括四氟盘根和唇形密封圈;所述四氟盘根和所述唇形密封圈配合设置于所述安装孔内。2.根据权利要求1所述的密封机构,其特征在于:所述四氟盘根位于所述主体的密封侧。3.根据权利要求2所述的密封机构,其特征在于:所述唇形密封圈位于所述主体的另一侧。4.根据权利要求3所述的密封机构,其特征在于:所述唇形密封圈为多个,线性阵列排列。5.根据权利要求4所述的密封机构,其特征在于:所述主体具有四氟盘根室,用于设置所述四氟盘根;所述主体具有唇形密封圈室,用于设置所述唇形密封圈。6.根据权利要求5所述的密封机构,其特征在于:所述主体分成串连的第一密封体和第二密封体,所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:叶清东,钟胜贤,周志,
申请(专利权)人:松岩冶金材料全南有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。