一种密封机构及其高温反应系统技术方案

技术编号:30054056 阅读:18 留言:0更新日期:2021-09-15 10:57
本发明专利技术提供一种密封机构,包括主体,所述主体具有安装孔,还包括四氟盘根和唇形密封圈;所述四氟盘根和所述唇形密封圈配合设置于所述安装孔内。还提供一种高温反应系统,包括反应室和转轴,所述转轴穿设于所述反应室;包括所述的密封机构,所述密封机构套设于所述转轴且所述四氟盘根紧邻所述反应室外壁。本发明专利技术的有益效果是:该密封机构具有四氟盘根,能够直接吸收逸出气体,更进一步,设置唇形密封圈,阻滞气体逸出,该唇形密封圈能够设置多个,从而提高阻滞效果。而提高阻滞效果。而提高阻滞效果。

【技术实现步骤摘要】
一种密封机构及其高温反应系统


[0001]本专利技术涉及密封领域,特别是一种密封机构及其高温反应系统。

技术介绍

[0002]现有的高温反应系统,一般涉及高温高压反应环境,在这种情况下,当转轴从反应室穿出,且该转轴相对反应室进行转动时,会发生反应室内气体逸出的现象,从而导致污染环境,例如,逸出氟化氢气体。

技术实现思路

[0003]为了解决上述现有的技术问题,本专利技术提供一种密封机构及其高温反应系统,该密封机构具有四氟盘根,能够直接吸收逸出气体,更进一步,设置唇形密封圈,阻滞气体逸出。
[0004]本专利技术解决上述现有的技术问题,提供一种密封机构,包括主体,所述主体具有安装孔,还包括四氟盘根和唇形密封圈;所述四氟盘根和所述唇形密封圈配合设置于所述安装孔内。
[0005]本专利技术更进一步的改进如下所述。
[0006]所述四氟盘根位于所述主体的密封侧。
[0007]所述唇形密封圈位于所述主体的另一侧。
[0008]所述唇形密封圈为多个,线性阵列排列。
[0009]所述主体具有四氟盘根室,用于设置所述四氟盘根;所述主体具有唇形密封圈室,用于设置所述唇形密封圈。
[0010]所述主体分成串连的第一密封体和第二密封体,所述第一密封体包围所述四氟盘根;所述第二密封体设置所述唇形密封圈。
[0011]所述主体还包括第三密封体,所述第一密封体、所述第二密封体、所述第三密封体顺序串连成一体。
[0012]所述第二密封体的外侧设置唇形密封圈室,所述第三密封体抵接一唇形密封圈。
[0013]本专利技术解决上述现有的技术问题,提供一种高温反应系统,包括反应室和转轴,所述转轴穿设于所述反应室;包括所述的密封机构,所述密封机构套设于所述转轴且所述四氟盘根紧邻所述反应室外壁。
[0014]本专利技术更进一步的改进如下所述。
[0015]所述密封机构为两套,分别设置于所述转轴伸出所述反应室的位置。
[0016]相较于现有技术,本专利技术的有益效果是:该密封机构具有四氟盘根,能够直接吸收逸出气体,更进一步,设置唇形密封圈,阻滞气体逸出,该唇形密封圈能够设置多个,从而提高阻滞效果。
附图说明
[0017]图1为本专利技术密封机构的剖面示意图。
[0018]图2为本专利技术高温反应系统的剖面示意图。
[0019]主体11安装孔111 第一密封体112 第二密封体113 第三密封体114四氟盘根12 唇形密封圈13 转轴21 反应室22 具体实施方式
[0020]下面结合附图说明图1和图2及具体实施方式对本专利技术进一步说明。
[0021]一种密封机构,包括主体11、四氟盘根12和唇形密封圈13,主体11提供安装基础。四氟盘根12具有吸收氟化氢气体的效果。唇形密封圈13实现物理密封的效果。主体11具有安装孔111,四氟盘根12和唇形密封圈13配合设置于安装孔111内。
[0022]本专利技术的四氟盘根12位于主体11的密封侧。
[0023]本专利技术的唇形密封圈13位于主体11的另一侧,即与密封侧相背的另一侧。该唇形密封圈13为多个,线性阵列排列,能够提高物理密封效果。
[0024]本专利技术主体11具有四氟盘根12室,用于设置四氟盘根12;具有唇形密封圈13室,用于设置唇形密封圈13。
[0025]本专利技术的主体11能够为一体结构,亦能够为分体结构,当为分体结构时,其能够分成串连的第一密封体112和第二密封体113,第一密封体112包围四氟盘根12;第二密封体113设置唇形密封圈13。还能够包括第三密封体114,第一密封体112、第二密封体113、第三密封体114顺序串连成一体。当划分为三部门时,第二密封体113的外侧设置唇形密封圈13室,第三密封体114抵接一唇形密封圈13,且第三密封体114通过螺杆与第一密封体112连接成一体。
[0026]一种高温反应系统,包括反应室22和转轴21,转轴21穿设于反应室22;还包括上述的密封机构,密封机构套设于转轴21且四氟盘根12紧邻反应室22外壁。
[0027]本专利技术密封机构为两套,分别设置于转轴21伸出反应室22的两端位置,从而起到转轴21与反应室22两安装孔处的密封问题。
[0028]本专利技术密封机构具有四氟盘根12,能够直接吸收逸出气体,更进一步,设置唇形密封圈13,阻滞气体逸出,该唇形密封圈13能够设置多个,从而提高阻滞效果。
[0029]以上内容是结合具体的优选实施方式对本专利技术所作的进一步详细说明,不能认定本专利技术的具体实施只局限于这些说明。对于本专利技术所属
的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本专利技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种密封机构,其特征在于:包括主体,所述主体具有安装孔,还包括四氟盘根和唇形密封圈;所述四氟盘根和所述唇形密封圈配合设置于所述安装孔内。2.根据权利要求1所述的密封机构,其特征在于:所述四氟盘根位于所述主体的密封侧。3.根据权利要求2所述的密封机构,其特征在于:所述唇形密封圈位于所述主体的另一侧。4.根据权利要求3所述的密封机构,其特征在于:所述唇形密封圈为多个,线性阵列排列。5.根据权利要求4所述的密封机构,其特征在于:所述主体具有四氟盘根室,用于设置所述四氟盘根;所述主体具有唇形密封圈室,用于设置所述唇形密封圈。6.根据权利要求5所述的密封机构,其特征在于:所述主体分成串连的第一密封体和第二密封体,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:叶清东钟胜贤周志
申请(专利权)人:松岩冶金材料全南有限公司
类型:新型
国别省市:

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