一种镀膜机真空密封结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种镀膜机真空密封结构，包括连接法兰和密封圈，连接法兰上设有环形的密封槽，密封槽包括宽槽和窄槽，窄槽设置在宽槽的底部，所述密封圈的形状与密封槽适配，密封圈的一端凸出密封槽，所述密封圈由具有电磁隔离特性的弹性材料制成。本实用新型专利技术提供了一种镀膜机真空密封结构，两类密封圈整合为一个，两道槽口加工改为一道，降低成本，减少机加工量，更适用于可加工区域小的密封面且可达到较好的密封效果。达到较好的密封效果。达到较好的密封效果。

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜机真空密封结构


[0001]本技术涉及密封结构
，尤其是涉及一种镀膜机真空密封结构。

技术介绍

[0002]真空设备的密封结构根据不同的密封圈类型，常见的密封槽设计有矩形直口槽、V型槽、燕尾槽等。在真空密封领域，比如一些镀膜机过渡连接法兰密封面，仅一种密封圈和一道密封槽设计常常无法满足设备的使用要求，因为该类真空产品在保证真空密封性的同时，还要能有效地阻断电磁波的外漏。现有的技术是在镀膜机过渡连接法兰面的密封区域加工两道燕尾型密封槽口（以下简称双燕尾），内外圈密封槽放置两类功能不一样的密封圈。其主要特点是：同时使用两种功能不一样的密封圈，内圈密封圈用于真空密封，内密封圈为橡胶材质；外圈密封圈用于屏蔽电磁波，外密封圈为金属材质。但是使用双燕尾结构存在如下缺陷：
[0003]1、需在密封区域精加工两道燕尾槽，需要的加工区域较大，至少25mm以上；对于密封面较小的法兰，无法布置两道密封槽。2、需配置两种类型的密封圈，成本较高。3、两种不同材质的密封圈，受力时变形量不同，影响密封效果。因此，需要设计一种镀膜机真空密封结构，两类密封圈整合为一个，两道槽口加工改为一道，降低成本，减少机加工量，更适用于可加工区域小的密封面且可达到较好的密封效果。
[0004]中国专利申请公开号CN211449632U，公开日为2020年09月08日，名称为“一种真空镀膜机的旋转密封结构”，公开了一种真空镀膜机的旋转密封结构，其包括：PVD真空镀膜机外壳1、磁流体密封2和气缸3，PVD真空镀膜机外壳1的内部包括两个腔室，分别为第一腔室11和第二腔室12，可旋转门13的下部转轴131固定在PVD真空镀膜机的底部，可旋转门13的上部转轴132穿过PVD真空镀膜机的顶部，其特征在于：还包括聚氟四乙烯垫圈4，聚氟四乙烯垫圈4的中心设有一个开孔，上部转轴132可以穿过聚氟四乙烯垫圈4的中心，磁流体密封2的主体外壳的下表面与聚氟四乙烯垫圈4的上表面贴合，磁流体密封2的传动轴21穿过聚氟四乙烯垫圈4的中心并与上部转轴132固定连接。但是密封结构不适用于镀膜机过渡连接法兰的密封面。

技术实现思路

[0005]本技术为了克服现有技术中镀膜机过渡连接法兰面的密封区域加工两道燕尾型密封槽口，需要的加工区域较大，两种不同材质的密封圈，受力时变形量不同，影响密封效果的不足，提供一种镀膜机真空密封结构，两类密封圈整合为一个，两道槽口加工改为一道，降低成本，减少机加工量，更适用于可加工区域小的密封面且可达到较好的密封效果。
[0006]为了实现上述目的，本技术采用以下技术方案：
[0007]一种镀膜机真空密封结构，包括连接法兰和密封圈，连接法兰上设有环形的密封槽，密封槽包括宽槽和窄槽，窄槽设置在宽槽的底部，所述密封圈的形状与密封槽适配，密
封圈的一端凸出密封槽，所述密封圈由具有电磁隔离特性的弹性材料制成。
[0008]上述技术方案中，密封圈的材料为一种复合材料，复合材料的主要成分为聚酯、环氧树脂和石墨。也可以是其它弹性材料，具有电磁屏蔽特性即可。上述技术方案中的密封结构仅需精加工一道密封槽即可，该特殊密封结构具备气体密封和屏蔽电磁波两种功能。窄槽可以保证密封圈在密封槽内的相对位置稳定，宽槽可以保证密封结构具有足够的密封面，增加密封效果。上述结构的效果是：只需加工一道密封槽和一个密封圈，加工简单，降低成本；可适用于加工区域较小的密封面（密封面可加工宽度18mm以上）；可以保证气密封同时也有效防止电磁波外泄；可有效防止两个密封圈高度不一致导致密封效果不佳的问题。
[0009]作为优选，所述窄槽的深度大于宽槽的深度。所述结构可以保证密封圈在窄槽内可以稳定固定，同时降低宽槽内密封圈的形变，保证密封效果。
[0010]作为优选，所述密封槽总深度是密封圈总高度的0.75
‑
0.85倍。所述结构可以保证密封圈可以适当变形，保证密封圈弹性变形后的密封效果。
[0011]作为优选，所述窄槽的上端的宽度小于窄槽底面的宽度。所述结构可以防止密封圈从密封槽内脱离。
[0012]作为优选，所述窄槽槽口的夹角α为7
°‑‑
13
°
。夹角为10度时固定效果最好。
[0013]作为优选，所述弹性密封圈与窄槽底面接触位置的宽度小于窄槽底面的宽度。所述结构便于为密封圈的形变提供空间。弹性密封圈与窄槽底面接触位置的宽度大于窄槽顶面的宽度。
[0014]作为优选，所述弹性密封圈与窄槽底面接触位置的宽度等于窄槽底面的宽度的0.9—0.7倍。所述结构便于为密封圈形变提供空间。
[0015]作为优选，所述宽槽和窄槽的一侧交界位置设有过渡斜角β，过渡斜角β的角度为44
°‑‑
50
°
。
[0016]作为优选，所述密封圈的内径周长小于密封槽的内圈周长。所述结构可以利用密封圈本身的弹性回复力，使密封圈与密封槽的侧壁之间产生一定的收紧力，从而有效地降低密封圈滑出密封槽的可能。
[0017]本技术的有益效果是：（1）只需加工一道密封槽和一个密封圈，加工简单，降低成本；（2）可适用于加工区域较小的密封面；（3）可以保证气密封同时也有效防止电磁波外泄；（4）可有效防止两个密封圈高度不一致导致密封效果不佳的问题；（5）密封圈与密封槽连接可靠，不易脱落。
附图说明
[0018]图1是本技术的结构示意图；
[0019]图2是本技术中连接法兰的局部剖视图。
[0020]图中：连接法兰1、密封槽1.1、宽槽1.1.1、窄槽1.1.2、过渡斜角1.1.3、密封圈2。
具体实施方式
[0021]下面结合附图和具体实施例对本技术做进一步的描述。
[0022]实施例1：
[0023]如图1和图2所示，一种镀膜机真空密封结构，包括连接法兰1和密封圈2，连接法兰
1上设有环形的密封槽1.1，密封槽1.1包括宽槽1.1.1和窄槽1.1.2，窄槽1.1.2设置在宽槽1.1.1的底部，所述密封圈2的形状与密封槽1.1适配，密封圈2的一端凸出密封槽1.1；所述密封圈2的内径周长小于密封槽1.1的内圈周长。窄槽1.1.2的深度大于宽槽1.1.1的深度，密封槽1.1总深度是密封圈2总高度的0.8倍。窄槽1.1.2的上端的宽度小于窄槽1.1.2底面的宽度，窄槽1.1.2槽口的夹角α为10
°
，弹性密封圈2与窄槽1.1.2底面接触位置的宽度等于窄槽1.1.2底面的宽度的0.8倍。宽槽1.1.1和窄槽1.1.2的一侧交界位置设有过渡斜角1.1.3，过渡斜角1.1.3的角度为47
°
。所述密封圈2由具有电磁隔离特性的弹性材料制成。窄槽1.1.2的深度大于宽槽1.1.1的深度。
[0024]上述技术方案中，密封圈2的材料为一种复合材料，复合材料的主要成分为聚酯、环氧树脂和石墨。也可以是其它弹性材料，具有电磁屏蔽特性即可。上述技术方案中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜机真空密封结构，其特征是，包括连接法兰和密封圈，连接法兰上设有环形的密封槽，密封槽包括宽槽和窄槽，窄槽设置在宽槽的底部，所述密封圈的形状与密封槽适配，密封圈的一端凸出密封槽，所述密封圈由具有电磁隔离特性的弹性材料制成。2.根据权利要求1所述的一种镀膜机真空密封结构，其特征是，所述窄槽的深度大于宽槽的深度。3.根据权利要求1所述的一种镀膜机真空密封结构，其特征是，所述密封槽总深度是密封圈总高度的0.75
‑
0.85倍。4.根据权利要求1或2或3所述的一种镀膜机真空密封结构，其特征是，所述窄槽的上端的宽度小于窄槽底面的宽度。5.根据权利要求4所述的一种镀膜机真空密封结构，其特征是，所述窄槽槽口的夹...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪志阳，洪婧，陈军，雷林光，谢如应，邱亚盛，
申请(专利权)人：杭州大和热磁电子有限公司，
类型：新型
国别省市：