光学膜、其制备方法、偏振片和图像显示装置制造方法及图纸

一种包括抗静电膜的光学膜，所述抗静电膜至少包括导电材料和纤维素酰化物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光学膜、其制备方法、偏振片和图像显示装置。
技术介绍
近年来，带有各种光学膜(如抗反射膜或抗眩光膜)的图像显示装置正日益增长。例如，抗反射膜或抗眩光膜通常被提供在各种图像显示装置中，如液晶显示装置(LCD)，等离子体显示面板(PDP)，电致发光显示器(ELD)或阴极射线管显示装置(CRT)，它们设置在这类显示器的最外表面上，防止因外部光反射或图像反射造成对比度损失。要求这种光学膜具有高的物理强度(如耐擦伤性)，透明度，耐化学品性和耐候性(如耐湿-热性和耐光性)。此外，需要一种措施防止使显示器可见性变差的粒子(如灰尘)在光学膜表面上的沉积。为提供高物理强度的光学膜，已经知道的是在光学膜上形成硬涂膜。此外，作为防止使显示器可见性变差的粒子(如灰尘)在光学膜表面上沉积的措施，已经知道的是在光学膜上形成抗静电膜。在用涂布方法制备抗静电膜的情况下，导电材料例如导电无机微粒子(如锑-掺杂的氧化锡(ATO)或锡-掺杂的氧化铟(ITO))通常包括在这种抗静电膜中(参见JP-A No.6-123086，JP-A No.2002-311208，JP-A No.2003-39586，JP-A No.2003-292826和JP-A No.2003-327430)。此外，在液晶显示装置中，偏振片是不可缺少的材料，通常在其结构中偏振膜被两个保护膜所保护。通过提供这种具有抗反射功能或抗眩光功能的保护膜，可以明显降低成本，使显示装置的结构更薄。另一方面，偏振片中所用的保护膜需要具有足够的粘合性能以与偏振膜粘合。为增强与偏振膜的粘合，通常使用的方法是皂化处理保护膜和亲水化处理保护膜的表面。
技术实现思路
在光学膜上形成抗静电膜可有效地防止污垢或灰尘沉积，但在硬涂膜上存在含有导电材料(如导电无机微粒子)的抗静电膜会损害光学膜的耐擦伤性。另一方面，导电材料(如导电无机微粒子)通常被着色。此外，硬涂层通常厚度为1μm或更大，并且为了提供其中包括导电材料的具有抗静电性能的硬涂膜，需要大量导电材料，从而损害光学膜的透明度(透光率)。此外，由于导电材料相对昂贵，这样大量的导电材料会增加成本。因此，抗静电膜优选在透明基材和硬涂膜间具有较小厚度。在制备用于光学膜的硬涂膜时，通常使用可用电离辐射固化的粘合剂。然而，对在透明基材和硬涂膜间提供抗静电膜进行研究发现了下面的缺点。在由纤维素酰化物构成的透明基材上形成抗静电膜时，通常在透明基材，抗静电膜和硬涂膜的各层间产生剥离问题。此外，在抗静电膜上形成的硬涂膜降低了光学膜表面上的抗静电效果，从而损害了防尘性能。这种对防尘性能的损害随硬涂膜厚度变得更显著。此外，在通过制造机制造透明基材、然后卷取、再用另一个涂布机在这种基材上涂布抗静电膜和硬涂膜的情况下，不能便宜地制备光学膜。本专利技术的一个目的是提供一种光学膜，其具有抗静电膜，但没有上述缺点，尤其是解决了与在透明基材和硬涂膜间形成抗静电膜相关的那些缺点，提供一种在由纤维素酰化物构成的透明基材，抗静电膜和硬涂膜间表现出优异的相互粘合并具有优异的物理性能如防尘性能和耐擦伤性的光学膜。另一个目的是便宜地大量制造具有上述优异性能的光学膜。另一个目的是提供一种具有光学性能如抗反射性能或抗眩光性能并且上述性能优异的偏振片和图像显示装置。上述目的可通过如下构成的光学膜，制造光学膜的方法，偏振片，和图像显示装置来实现(1)一种包括抗静电膜的光学膜，所述抗静电膜至少包括导电材料和纤维素酰化物。(2)如(1)中所述的光学膜，其中所述抗静电膜层压在主要包括纤维素酰化物的透明基材上。(3)如(1)中所述的光学膜，其中通过共浇铸方法将所述抗静电膜层压作为主要包括纤维素酰化物的基材的一部分。(4)如(1)中所述的光学膜，其中所述抗静电膜和硬涂膜按此顺序层压在主要包括纤维素酰化物的透明基材上。(5)如(1)～(4)中任一项所述的光学膜，其中所述纤维素酰化物是纤维素乙酸酯。(6)如(5)中所述的光学膜，其中所述纤维素乙酸酯其取代度为2.0～3.0。(7)如(1)～(6)中任一项所述的光学膜，其中所述导电材料包括含有至少一种选自锡，铟，锑和锌的元素的无机化合物。(8)如(7)中所述的光学膜，其中所述导电材料包括至少一种选自锑-掺杂的氧化锡(ATO)，锡-掺杂的氧化铟(ITO)，铝-掺杂的氧化锌(AZO)，氟-掺杂的氧化锡(FTO)，锌-掺杂的氧化铟(IZO)，氧化锡，氧化锑和氧化铟的无机化合物。(9)如(1)～(8)中任一项所述的光学膜，其中所述导电材料其平均粒度为1～200nm。(10)如(1)～(9)中任一项所述的光学膜，其中所述导电材料其比表面积为1～400m2/g。(11)如(1)～(10)中任一项所述的光学膜，其中所述导电材料用有机金属化合物进行表面处理。(12)如(1)～(11)中任一项所述的光学膜，其中所述导电材料用分散剂分散。(13)如(12)中所述的光学膜，其中所述分散剂是阴离子或非离子分散剂。(14)如(1)～(13)中任一项所述的光学膜，其中所述抗静电膜包括具有可交联的或可聚合的官能团的化合物。(15)如(14)中所述的光学膜，其中所述可交联的或可聚合的官能团是通过光或热表现出交联或聚合性能的官能团。(16)如(14)或(15)中所述的光学膜，其中所述抗静电膜的粘合剂是具有表现出与纤维素酰化物的交联性能或聚合性能的官能团的化合物的固化物质。(17)如(1)～(16)中任一项所述的光学膜，其中所述抗静电膜其表面电阻率等于或小于1×1014Ω/sq。(18)如(1)～(16)中任一项所述的光学膜，其中所述抗静电膜其表面电阻率等于或小于1×1012Ω/sq。(19)如(1)～(18)中任一项所述的光学膜，其中硬涂膜层压在所述抗静电膜上，并包括平均粒度为0.2～10μm的导电粒子。(20)如(19)中所述的光学膜，其中表示平均粒度为0.2～10μm的导电粒子的粒度分布的值S等于或小于2.0S＝/D(0.5)其中D(0.1)10％的累积体积换算时的粒度分布值；D(0.5)50％的累积体积换算时的粒度分布值；以及D(0.9)90％的累积体积换算时的粒度分布值。(21)如(20)中所述的光学膜，其中所述值S等于或小于1.0。(22)如(19)～(21)中任一项所述的光学膜，其中所述平均粒度为0.2～10μm的导电粒子是在有机化合物或无机化合物的粒子表面上具有导电化合物的粒子。(23)如(19)～(22)中任一项所述的光学膜，其中所述平均粒度为0.2～10μm的导电粒子是在有机化合物或无机化合物的粒子表面上具有导电金属的粒子。(24)如(19)～(23)中任一项所述的光学膜，其中所述平均粒度为0.2～10μm的导电粒子其平均粒度等于或大于所述硬涂膜厚度的30％。(25)如(2)和(4)～(24)中任一项所述的光学膜，其中所述抗静电膜和/或所述硬涂膜通过选自绕线棒涂布，凹版印刷涂布和模压涂布(diecoating)的涂布方法提供。(26)如(24)中所述的光学膜，其中所述抗静电膜和/或所述硬涂膜通过模压涂布方法提供。(27)如(1)～(26)中任一项所述的光学膜，其中在用于形成抗静电膜和/或所述硬涂膜的组合物中所含的溶剂含有能够溶解在所述透明基材和/或抗静电膜所含本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包括抗静电膜的光学膜，所述抗静电膜至少包括导电材料和纤维素酰化物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：村松雄造，中村谦一，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[]