一种可调靶基距的基片装夹装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于自动化镀膜的技术领域，尤其涉及一种可调靶基距的基片装夹装置。包括基片架框架，所述基片架框架上设有多个可用于安装垫片的安装位，通过安装不同高度的垫片可调节基片镀膜表面与靶材表面之间的靶基距使异型基片正面镀膜时的靶基距与反面镀膜时的靶基距相等或接近。通过在用于装放基片的基片架上设置安装位安装位，可安装垫片，使得基片正反面在连续镀膜过程中，通过选择不同的装夹装置，可直接改变基片正反面镀膜的靶基距，从而保证产品正反面镀膜时工艺的一致性以及膜层性能的一致性。而且通过安装不同的垫片，可使满足不同规格的基片调节实用，无需更换基片架，其灵活性强。其灵活性强。其灵活性强。

【技术实现步骤摘要】
一种可调靶基距的基片装夹装置


[0001]本技术属于自动化镀膜的
，尤其涉及一种可调靶基距的基片装夹装置。

技术介绍

[0002]在各类镀膜设备中，阴极靶到所镀基片之间的距离，也就是所说的靶基距一般在设备设计加工阶段，就已经确定下来，后续生产中，随着靶材的消耗，靶基距会有微小的变化，但是这种微小变化通过调整功率等参数进行了弥补，不需要调整原有的靶基距。
[0003]以上情况对于平面产品的镀膜，无论是单面镀膜还是基片双面镀膜，由于靶材消耗所引起的靶基距的微小变化，都通过工艺调整来保证了镀膜效果，随着日益增长的镀膜需求，越来越多的产品需要镀膜，出现了非平面产品异型，对于这些异形产品，其正反被镀膜面与靶材之间的距离差别较大，而且对基片在镀膜过程中表面的温度变化有严格要求的，单纯通过工艺调整就无法满足；如果通过整个阴极靶位的前后移动来调整靶基距，会使阴极机构变得复杂，且必须停机处理，影响生产效率。

技术实现思路

[0004]为解决现有技术中由于非平面镀膜产品的正反面靶基距相差大且无法及时调整导致效率低的问题，本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可调靶基距的基片装夹装置，包括基片架框架(1)，其特征在于，所述基片架框架(1)上设有多个可用于安装垫片(2)的安装位(11)，通过安装不同高度的垫片(2)可调节基片镀膜表面与靶材表面(8)之间的靶基距使异型基片正面镀膜时的靶基距(D1)与反面镀膜时的靶基距(D2)相等。2.根据权利要求1所述的一种可调靶基距的基片装夹装置，其特征在于，所述基片架框架(1)上设有若干间隔设置的调节横梁(12)，所述安装位(11)设于调节横梁(12)上或设于调节横梁(12)以及基片架框架(1)上。3.根据权利要求2所述的一种可调靶基距的基片装夹装置，其特征在于，所述基片架框架(1)包括两平行设置的基片架竖梁(101)和两平行设置的基片架横梁(102)，且两基片架竖梁(101)与两基片架横梁(102)围成框式的基片架框架(1)，所述调节横梁(12)连接在两侧基片架竖梁(101)上且位于两基片架横梁(102)之间。4.根据权利要求3所述的一种可调靶基距的基片装夹装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：姜翠宁，
申请(专利权)人：广东生波尔光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：