高纯多晶硅的低消耗生产系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种高纯多晶硅的低消耗生产系统，系统包括还原炉、闪蒸罐、换热器、气化器和精馏装置。还原炉冷却水夹套内的加压冷却水借助闪蒸罐转变为高品位水蒸气，用以加热精馏装置，而换热后的水蒸气经加压、液化后又输送至还原炉冷却水夹套内充当新鲜加压冷却水，从而实现还原炉冷却水余热的高价值利用。还原炉高温尾气借助换热器和气化器对来自精馏装置的原料进行加热，以实现还原炉尾气余热的最大化利用。还原炉内壁还设置有能够高效反射来自高温硅棒的热辐射的热辐射反射层，具有减少还原炉热辐射损失量及提高多晶硅纯度的效果。本实用新型专利技术系统可以大幅降低多晶硅还原炉运行能耗及物耗，实现高纯多晶硅的低消耗生产。

【技术实现步骤摘要】
高纯多晶硅的低消耗生产系统
本技术涉及多晶硅设备
，尤其涉及一种高纯多晶硅的低消耗生产系统。
技术介绍
多晶硅是硅基太阳能电池和硅基半导体器件的基础材料。目前，全球90％以上的多晶硅由改良西门子法生产。在改良西门子法多晶硅生产工艺中，钟罩式反应器(多晶硅还原炉)是生长多晶硅的场所，其运行能耗占多晶硅生产综合能耗的70％以上。热辐射损失是多晶硅还原炉运行过程中最主要的能量损失现象，占多晶硅还原炉总输入能量的60％以上。随着对社会智能化结构的快速升级和太阳能需求的不断增长，对多晶硅需求量增长的同时，对其纯度和生产成本也提出了更高的要求，以更低的消耗生产纯度更高的多晶硅，成为人类社会对这种历史悠久且使用最为广泛的半导体材料的新需求。鉴于上述因素，一种高纯多晶硅的低消耗生产系统的专利技术就显得很有必要。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有多晶硅生产能耗高的问题，提供了一种高纯多晶硅的低消耗生产系统。本技术的目的是通过以下技术方案来实现的：高纯多晶硅的低消耗生产系统，系统具体包括还原炉、闪蒸罐和精馏装置；所述还原本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高纯多晶硅的低消耗生产系统，其特征在于：所述系统包括还原炉(1)、闪蒸罐(2)和精馏装置；所述还原炉(1)由钟罩和底盘组成；所述钟罩和底盘均由外层和内层构成，内层和外层相对构成钟罩冷却水夹套和底盘冷却水夹套；所述钟罩内层、底盘内层上均设有热辐射反射层；所述钟罩冷却水夹套内含有压力为0.5-1.5MPa、温度为120-180℃的冷却水；精馏装置内设有再沸器，再沸器上设有水蒸气夹套，水蒸气夹套出口设有压缩装置；/n再沸器水蒸气夹套出口端与还原炉(1)的冷却水夹套进水端连接，还原炉(1)的冷却水夹套出水端连接至闪蒸罐进口端，闪蒸罐出口端与再沸器的水蒸气夹套进口端连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种高纯多晶硅的低消耗生产系统，其特征在于：所述系统包括还原炉(1)、闪蒸罐(2)和精馏装置；所述还原炉(1)由钟罩和底盘组成；所述钟罩和底盘均由外层和内层构成，内层和外层相对构成钟罩冷却水夹套和底盘冷却水夹套；所述钟罩内层、底盘内层上均设有热辐射反射层；所述钟罩冷却水夹套内含有压力为0.5-1.5MPa、温度为120-180℃的冷却水；精馏装置内设有再沸器，再沸器上设有水蒸气夹套，水蒸气夹套出口设有压缩装置；
再沸器水蒸气夹套出口端与还原炉(1)的冷却水夹套进水端连接，还原炉(1)的冷却水夹套出水端连接至闪蒸罐进口端，闪蒸罐出口端与再沸器的水蒸气夹套进口端连接。


2.根据权利要求1所述的高纯多晶硅的低消耗生产系统，其特征在于：所述闪蒸罐(2)中的压强为0.01-0.1Mpa。


3.根据权利要求1所述的高纯多晶硅的低消耗生产系统，其特征在于：所述热辐射反射层的材质为金、银、铜、氧化铝、硫酸钡的任意一种。


4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：张宝顺，宗冰，王体虎，王志权，孟兵营，任长春，何乃栋，鲍守珍，蔡延国，肖建忠，尹东林，郑连基，冉胜国，刘军，
申请(专利权)人：亚洲硅业青海股份有限公司，青海省亚硅硅材料工程技术有限公司，
类型：新型
国别省市：青海;63