光学构件、光学构件的制造方法及光信息传递装置制造方法及图纸

光学构件，其包含有机高分子，且包含面A，所述面A的面积为1mm

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学构件、光学构件的制造方法及光信息传递装置
本公开文本涉及光学构件、光学构件的制造方法及光信息传递装置。
技术介绍
近年来，对电子设备用玻璃基板的平坦度、表面缺陷等的要求正在变得严格，例如，要求平坦度高、且微小缺陷(凹状缺陷、凸状缺陷)少的空白掩模(maskblanks)用玻璃基板等电子设备用玻璃基板。作为这样的平坦度高、且微小缺陷(凹状缺陷、凸状缺陷)少的空白掩模用玻璃基板的制造方法，对下述方法进行了研究：在贴附有研磨垫、且上下相对设置的上研磨板与下研磨板之间，夹持多个玻璃基板，一边从前述上研磨板侧向该玻璃基板供给研磨液，一边对该玻璃基板的两主表面进行两面研磨的方法(例如，参见专利文献1)。[专利文献1]日本专利第6002528号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题另外，期望光学构件可进行高精度的光传递，从基于研磨等的制造的容易性考虑，使用了玻璃等无机材料。然而，近年来，例如可穿戴用的光学构件要求轻量化，通过将使用无机材料制作的光学构件薄膜化等来实现轻量化。通过将光学构件的材料变更为有机材料，从而能实现进一步的轻量化，但在将有机材料加工成光学构件时，存在光学构件容易变形、容易受损伤等问题，这是技术常识。因此，使用有机材料制作的光学构件难以进行高精度的光信息的传递，将有机材料用于光学构件这样的尝试极少。本公开文本的课题是鉴于上述课题而作出的，本公开文本的课题在于提供轻量、并且可进行高精度的光信息的传递的光学构件及其制造方法、以及具备上述光学构件的光信息传递装置。用于解决课题的手段本公开文本涉及以下的方式。＜1＞光学构件，其包含有机高分子，且包含面A，所述面A的面积为1mm2以上，且用非接触光学式平坦度计测定面积为1mm2的区域的平坦度时，前述平坦度为80μm以下。＜2＞如＜1＞所述的光学构件，其中，前述面A的前述平坦度为50μm以下。＜3＞如＜1＞或＜2＞所述的光学构件，其包含位于前述面A的相反侧、且面积为1mm2以上的面B，对于前述面A及前述面B，用非接触光学式平坦度计分别测定面积为1mm2的区域的平坦度时，前述面A的平坦度与前述面B的平坦度之差的绝对值为5μm以下。＜4＞光学构件，其包含有机高分子，且包含面积为1mm2以上的面A、和位于前述面A的相反侧、且面积为1mm2以上的面B，对于前述面A及前述面B，用非接触光学式平坦度计分别测定面积为1mm2的区域的平坦度时，前述面A的平坦度与前述面B的平坦度之差的绝对值为5μm以下。＜5＞如＜3＞或＜4＞所述的光学构件，其中，前述面A与前述面B的平均距离为10mm以下。＜6＞如＜1＞～＜5＞中任一项所述的光学构件，其中，用非接触光学式表面粗糙度计测定面积为4200μm2的区域的算术平均粗糙度Ra时的前述面A的算术平均粗糙度Ra为10nm以下。＜7＞如＜1＞～＜6＞中任一项所述的光学构件，其中，折射率为1.58以上。＜8＞如＜1＞～＜7＞中任一项所述的光学构件，其中，用非接触光学式表面粗糙度计将面积为4200μm2的区域成像时，在前述面A的成像中观察到高度为50nm以下的多个线状部。＜9＞如＜1＞～＜8＞中任一项所述的光学构件，其中，23℃时的维氏硬度为1GPa以下。＜10＞如＜1＞～＜9＞中任一项所述的光学构件，其中，23℃时的拉伸弹性模量为1.0×103MPa～5.0×103MPa。＜11＞如＜1＞～＜10＞中任一项所述的光学构件，其中，前述有机高分子包含选自由聚(硫)氨酯树脂、环硫树脂、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚(甲基)丙烯酸酯树脂、聚烯烃树脂、聚脲氨酯树脂、聚硫醚树脂、聚(甲基)(硫代)丙烯酸酯树脂及烯丙基二缩水甘油基碳酸酯树脂组成的组中的至少一种。＜12＞如＜1＞～＜11＞中任一项所述的光学构件，其用于可穿戴设备。＜13＞光学构件的制造方法，其是制造＜1＞～＜12＞中任一项所述的光学构件的方法，其包括：准备包含有机高分子的成型构件的工序；和第1研磨工序，将前述成型构件配置于在对前述成型构件进行研磨时限制前述成型构件的移动的移动限制部后，用研磨垫对前述成型构件进行研磨；前述第1研磨工序中，使用粒度为3μm以上的研磨材料对前述成型构件进行研磨。＜14＞如＜13＞所述的光学构件的制造方法，其中，用前述研磨垫对前述成型构件进行研磨时，前述成型构件相对于前述移动限制部可进行相对移动。＜15＞如＜13＞或＜14＞所述的光学构件的制造方法，其中，前述第1研磨工序中，以间隙成为1mm以上的方式，将前述成型构件配置于前述移动限制部。＜16＞如＜13＞～＜15＞中任一项所述的光学构件的制造方法，其还包括第2研磨工序，所述第2研磨工序中，用研磨垫及研磨材料对进行了前述第1研磨工序后的前述成型构件进行研磨。＜17＞光信息传递装置，其具备：光照射部；和导光路，其具备多个＜1＞～＜12＞中任一项所述的光学构件，且多个前述光学构件以前述光学构件的主面大致平行的方式配置。专利技术的效果通过本公开文本，可提供轻量、并且可进行高精度的光信息的传递的光学构件及其制造方法、以及具备上述光学构件的光信息传递装置。附图说明[图1]为表示行星齿轮方式中的恒星齿轮、内齿轮及移动限制部的啮合关系的立体图。[图2]为表示本公开文本的光信息传递装置的一例的概略构成图。[图3]为用非接触光学式表面粗糙度计进行成像而得到的三维数据。[图4]为研磨痕迹的图像数据。具体实施方式以下，关于本公开文本，对优选的实施方式的一例进行详细说明。这些说明及实施例用于对实施方式进行示例，不限制实施方式的范围。本公开文本中，使用“～”表示的数值范围表示包含“～”的前后所记载的数值分别作为最小值及最大值的范围。本公开文本中，术语“工序”，不仅是指独立的工序，即使在无法与其他工序明确区别时，只要能达成该工序的目的，就也包含在本术语中。本公开文本中，“光学构件”是指由至少一层包含有机高分子的构件形成的构件。需要说明的是，本公开文本的光学构件可形成为层叠多个包含有机高分子的构件而成的层叠体的形态，也可形成为层叠有其他构件的层叠体的形态。＜光学构件＞本公开文本的光学构件包含有机高分子，且包含面A，所述面A的面积为1mm2以上，且用非接触光学式平坦度计测定面积为1mm2的区域的平坦度时，前述平坦度为80μm以下。本公开文本的光学构件通过以包含有机高分子的方式构成从而为轻量，此外，通过包含平坦度为80μm以下的面A，从而可以精度良好地进行光信息的传递。本公开文本的光学构件中的面A的位置没有特别限制，该面A位于该光学构件露出的面(包含主面)的至少一部分的构成由于通过面A的高平坦度而容易传递光信息，因而优选。面A位于本公开文本的光学构件露出的面的一部分的情况下本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.光学构件，其包含有机高分子，/n且包含面A，所述面A的面积为1mm

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190218 JP 2019-0269061.光学构件，其包含有机高分子，
且包含面A，所述面A的面积为1mm2以上，且用非接触光学式平坦度计测定面积为1mm2的区域的平坦度时，所述平坦度为80μm以下。


2.如权利要求1所述的光学构件，其中，所述面A的所述平坦度为50μm以下。


3.如权利要求1或2所述的光学构件，其包含位于所述面A的相反侧、且面积为1mm2以上的面B，
对于所述面A及所述面B，用非接触光学式平坦度计分别测定面积为1mm2的区域的平坦度时，所述面A的平坦度与所述面B的平坦度之差的绝对值为5μm以下。


4.光学构件，其包含有机高分子，
且包含面积为1mm2以上的面A、和位于所述面A的相反侧、且面积为1mm2以上的面B，
对于所述面A及所述面B，用非接触光学式平坦度计分别测定面积为1mm2的区域的平坦度时，所述面A的平坦度与所述面B的平坦度之差的绝对值为5μm以下。


5.如权利要求3或4所述的光学构件，其中，所述面A与所述面B的平均距离为10mm以下。


6.如权利要求1～5中任一项所述的光学构件，其中，用非接触光学式表面粗糙度计测定面积为4200μm2的区域的算术平均粗糙度Ra时的所述面A的算术平均粗糙度Ra为10nm以下。


7.如权利要求1～6中任一项所述的光学构件，其中，折射率为1.58以上。


8.如权利要求1～7中任一项所述的光学构件，其中，用非接触光学式表面粗糙度计将面积为4200μm2的区域成像时，在所述面A的成像中观察到高度为50nm以下的多个线状部。


9.如权利要求1～8中任一项所述的光学构件，其中，23℃时的维氏硬度为1GPa以下。
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【专利技术属性】
技术研发人员：安彦宗一郎，田中大祐，梅田真一，
申请(专利权)人：三井化学株式会社，安彦尖端科技株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP