【技术实现步骤摘要】
一种透过率可切换的衰减片装置
本专利技术涉及光刻
,具体为一种透过率可切换的衰减片装置。
技术介绍
光刻技术是一种用于制造微结构的先进光学加工技术,包括接触式、接近式及投影式光刻技术,通过紫外光源将掩膜板上印有的特征图案转印到涂有光敏感介质的半导体晶片或玻璃基片上,是制造大规模集成电路(IC)、微机电系统(MEMS)、平板显示器(LCD、OLED等)最主要的加工技术手段。在光刻工艺中,曝光剂量会直接影响曝光线条的宽度,为了精确的控制曝光剂量,目前常用的方法有:改变光源光功率输出,控制快门转速和在光路中设置衰减片。直接改变光源功率的方法,对于传统的汞灯照明光源来说,调节过程繁琐,照度稳定时间较长,且光源功率存在有限的调节范围,超出范围会导致光源输出照度的不稳定。通过改变曝光快门的转速来有效控制曝光位置的受光时间,可以起到控制曝光剂量的目的,但因为是机械结构,会受到曝光快门切换时间的限制。衰减片是一种有效控制曝光剂量的方法,通过对照明光源的光能进行衰减,可以获得特定透过率的光能输出。常见的衰减片包括中性密度 ...
【技术保护点】
1.一种透过率可切换的衰减片装置,包括基板(1)、旋转叶片(2)、固定挡板(3)、伺服电机(4)、光线收集器(5)、散热风扇(6)和光源(7),其特征在于:所述伺服电机(4)的输出轴上端设有旋转叶片(2),旋转叶片(2)的边缘处均匀连接有基板(1),基板(1)的下端通过固定挡板(3)与旋转叶片(2)的下表面连接,所述旋转叶片(2)的下方设有光源(7),光源(7)与基板(1)上下相对应,旋转叶片(2)的一侧设有设有光线收集器(5),光线收集器(5)与基板(1)左右对应,光线收集器(5)的一侧设有对其散热的散热风扇(6)。/n
【技术特征摘要】
1.一种透过率可切换的衰减片装置,包括基板(1)、旋转叶片(2)、固定挡板(3)、伺服电机(4)、光线收集器(5)、散热风扇(6)和光源(7),其特征在于:所述伺服电机(4)的输出轴上端设有旋转叶片(2),旋转叶片(2)的边缘处均匀连接有基板(1),基板(1)的下端通过固定挡板(3)与旋转叶片(2)的下表面连接,所述旋转叶片(2)的下方设有光源(7),光源(7)与基板(1)上下相对应,旋转叶片(2)的一侧设有设有光线收集器(5),光线收集器(5)与基板(1)左右对应,光线收集器(5)的一侧设有对其散热的散热风扇(6)。
2.根据权利要求1所述的一种透...
【专利技术属性】
技术研发人员:张博,徐厚吉,王艳军,刘琴,孙文俊,赵刚,袁延忠,陈龙飞,
申请(专利权)人:河南百合特种光学研究院有限公司,
类型:发明
国别省市:河南;41
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