用于光掩模的清洁方法及其装置制造方法及图纸

本申请涉及用于光掩模的清洁方法及其装置。在清洁光掩模的方法中，将光掩模放置在支撑件上，使得经图案化的表面朝下，并且将粘合剂片施加到光掩模的背面表面的边缘。

【技术实现步骤摘要】
用于光掩模的清洁方法及其装置
本公开涉及用于光掩模的清洁方法及其装置。
技术介绍
光刻装置将图案从图案化器件(例如，光掩模)投影到设置在半导体衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。当光掩模不被使用(被存储)或从存储装置转移到光刻装置(例如，步进器或扫描仪)时，可以通过将光掩模放置在掩模盒(容器(pod))中，来适当地保护光掩模免受诸如灰尘或颗粒之类的污染。
技术实现思路
根据本公开的第一方面，提供了一种清洁光掩模的方法，包括：将所述光掩模放置在支撑件上，使得所述光掩模的经图案化的表面朝下；以及将粘合剂片施加到所述光掩模的背面表面的边缘。根据本公开的第二方面，提供了一种清洁光掩模的方法，包括：将所述光掩模装载到内部容器中；将所述内部容器装载到外部容器中；打开所述外部容器；打开所述内部容器，使得所述光掩模放置在所述内部容器的下盖之上，其中所述光掩模的经图案化的表面朝下；以及在所述光掩模放置在所述内部容器的下盖之上时，将粘合剂片施加到所述光掩模的背面表面的边缘。根据本公开的第三方面，提供了一种用于从EUV光掩模的背面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洁光掩模的方法，包括：/n将所述光掩模放置在支撑件上，使得所述光掩模的经图案化的表面朝下；以及/n将粘合剂片施加到所述光掩模的背面表面的边缘。/n

【技术特征摘要】
20200528 US 63/031,071;20201202 US 17/109,8781.一种清洁光掩模的方法，包括：
将所述光掩模放置在支撑件上，使得所述光掩模的经图案化的表面朝下；以及
将粘合剂片施加到所述光掩模的背面表面的边缘。


2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光掩模的背面表面的边缘是斜切边缘。


3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述粘合剂片由硅树脂制成。


4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述粘合剂片由苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯共聚物、或苯乙烯-乙烯-丙烯-苯乙烯共聚物制成。


5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述粘合剂片附接到主体。


6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述主体由弹性材料制成。


7.根据权利要求5所述的方...

【专利技术属性】
技术研发人员：李信昌，许倍诚，郑浩平，连大成，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71