【技术实现步骤摘要】
一种用于清理单晶炉内杂质底料的吸杂罐
本技术涉及单晶拉晶
，特别是一种用于清理单晶炉内杂质底料的吸杂罐。
技术介绍
目前，单晶拉棒由于采用了二次加料的方式，较传统的拉制一根棒停炉一次有显著改善，现有技术一般可达到多根棒才停炉一次。但是，由于多次加料导致杂质富集在坩埚底部，因而拉制多根单晶棒后即无法再通过二次加料的方式进行继续拉棒，需停炉清理，造成了无形的成本增加；并且，由于杂质的富集，拉制晶棒到三根以后，晶棒质量也会呈现明显的降低趋势。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种能够将单晶炉内拉棒后剩余的高杂质含量的埚底料吸出，有效增加拉棒量，并且显著降低多次拉棒晶棒间质量差异性的用于清理单晶炉内杂质底料的吸杂罐。本技术所要解决的技术问题是通过以下的技术方案来实现的。本技术是一种用于清理单晶炉内杂质底料的吸杂罐，该吸杂罐包括罐体，罐体的一端采用密封板密封，罐体的另一端插装有吸杂管，吸杂管的一端由外至内贯穿罐体、并延伸至罐体的内部，在罐体内的吸杂管与罐体的内壁之间形成有便...
【技术保护点】
1.一种用于清理单晶炉内杂质底料的吸杂罐，其特征在于：该吸杂罐包括罐体，罐体的一端采用密封板密封，罐体的另一端插装有吸杂管，吸杂管的一端由外至内贯穿罐体、并延伸至罐体的内部，在罐体内的吸杂管与罐体的内壁之间形成有便于盛装杂质底料的吸杂腔室，在罐体内的吸杂管的端部与密封板之间形成有便于杂质底料进入吸杂腔室的吸杂间隙。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于清理单晶炉内杂质底料的吸杂罐，其特征在于：该吸杂罐包括罐体，罐体的一端采用密封板密封，罐体的另一端插装有吸杂管，吸杂管的一端由外至内贯穿罐体、并延伸至罐体的内部，在罐体内的吸杂管与罐体的内壁之间形成有便于盛装杂质底料的吸杂腔室，在罐体内的吸杂管的端部与密封板之间形成有便于杂质底料进入吸杂腔室的吸杂间隙。
2.根据权利要求1所述的用于清理单晶炉内杂质底料的吸杂罐，其特征在于：所述吸杂管垂直插装在罐体上。
3.根据权利要求1所述的用于清理单晶炉内杂质底料的吸杂罐，其特征在于：所述罐体呈圆柱状，密封板呈圆盘状，吸杂管呈圆管状。
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【专利技术属性】
技术研发人员：陈梦楠，
申请(专利权)人：江苏神汇新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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