一种光斑光强度分布测量装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种光斑光强度分布测量装置及方法，其主要组成元件为：功率计、带透过孔径的遮挡屏、XZ轴平动机械装置、机械控制系统和计算机。所述的功率计与计算机相连，导轨与控制系统相连。利用上述装置，通过透过孔径确定光斑内待测位置，光束透过遮挡板上的后进入功率计，测定相应位置的光强度。在XZ轴不断移动遮挡屏和功率计，得到整体光斑位置与光强度的关系，从而实现光斑内部的光强度分布测量的目的。本发明专利技术具有透射孔径尺寸可调从而控制测量精度的优点，能够有效地测量高功率、大面积光斑内部的光强度分布。

【技术实现步骤摘要】
一种光斑光强度分布测量装置及方法
本专利技术涉及激光大气传输领域，特别是适用于高功率、大面积光斑的光强度分布测定。
技术介绍
光斑光强度分布，是指光强度在二维平面上的分布情况，测量光斑光强度分布有着广泛的应用。例如，随着激光技术的不断发展地对空、地对地、空对地、空对空的激光无线能量传输技术越来越受到重视。由于其不需要铺设光缆、准直性好、能量高且集中，在能量输运领域有其独特的优势。激光束在大气中传输时，受到大气分子的散射、大气中各种成分对光束的吸收、以及湍流、热晕引起的闪烁、光斑漂移等大气效应，使得能量损失严重，分布也不再呈高斯分布。另外，对于一些高功率激光器产生的光斑，由于热效应，其光束空间分布与低功率下的是不同的。为了得到光强度分布均匀的远场光斑，需要对这些效应产生的光束畸变进行补偿。自适应光学技术按照补偿原理可以分为两种：一种是校正式自适应光学技术，即利用电光器件、声光器件和可变形反射镜进行补偿的系统；另一种是非线性相位共轭技术，不需要其他设备，利用激光与某些介质的非线性互相作用产生畸变光波的相位共轭波。这两种补偿技术的前提都是需要测定远场本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光斑光强度分布测量装置，其特征在于：包括带有透过小孔且孔径可调的光束遮挡板(2)、功率计(4)、供光束遮挡板(2)及功率计(4)移动的滑轨(3)和机械控制系统(5)，该机械控制系统(5)控制滑轨(3)带动光束遮挡板(2)和功率计(4)移动；所述的功率计(4)用于显示并记录接收的光强度；/n入射光(1)通过光束遮挡板(2)上的小孔射入置于滑轨(3)上的功率计(4)，通过滑轨(3)调整功率计(4)及光束遮挡板(2)的位置，在确定的移动范围内，按照预先设定的移动顺序扫描整个被测光斑，并记录各个位置实时的光强度，最终得到光斑内部的光强度分布。/n

【技术特征摘要】
1.一种光斑光强度分布测量装置，其特征在于：包括带有透过小孔且孔径可调的光束遮挡板(2)、功率计(4)、供光束遮挡板(2)及功率计(4)移动的滑轨(3)和机械控制系统(5)，该机械控制系统(5)控制滑轨(3)带动光束遮挡板(2)和功率计(4)移动；所述的功率计(4)用于显示并记录接收的光强度；
入射光(1)通过光束遮挡板(2)上的小孔射入置于滑轨(3)上的功率计(4)，通过滑轨(3)调整功率计(4)及光束遮挡板(2)的位置，在确定的移动范围内，按照预先设定的移动顺序扫描整个被测光斑，并记录各个位置实时的光强度，最终得到光斑内部的光强度分布。


2.根据权利要求1所述的光斑光强度分布测量装置，其特征在于，被测光斑平均功率在一百瓦以上、光斑尺寸在数十厘米到数米之间。


3.根据权利要求1所述的光斑光强度分布测量装置，其特征在于，所述的光束遮挡板与滑轨连接，光束遮挡板的孔径尺寸可调，可调范围在2mm～20mm，最小孔径尺寸应远大于光波长；遮挡板的尺寸应遮挡住光束入射到功率计上除感光区以外的区域；遮挡板透过孔径中心应与待测位置及功率计中心同轴。

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【专利技术属性】
技术研发人员：张帅宇，胡国行，汪琳，祖继锋，邵建达，刘永江，左旭超，杨文涛，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：上海;31