X射线双频全息干涉仪制造技术

一种Ｘ射线双频全息干涉仪，其特征在于它包括Ｘ射线源（１）、微波带片（１５）、小孔光阑（１６）、探测器（７）和计算机（１８），所说的微波带片（１５）是一块直径为１ｍｍ，波带数大于５００的能对Ｘ射线进行聚焦的微光学元件；所说的小孔光阑（１６）置于由波带片（１５）产生一级Ｘ射线衍射的焦点处；所说的探测器（７）是一个能接受软Ｘ射线的电荷耦合器；所说的计算机（１８）用来实施重构Ｘ射线全息图。（*该技术在2013年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及X射线干涉仪，特别是一种X射线双频全息干涉仪，主要用于各种球面反射镜、激光等离子体的高精密检测。
技术介绍
如我们所知道的，任何一个成像系统，它的分辨率和波长成反比，为了获得高的分辨率，总是寻求短的波长，于是专利技术了电子显微镜，尽管电子的德布罗意波长很短，但它穿透样品的能力很差。为了克服这种不足，人们采用X射线作为照明源。近年来，由于同步辐射、激光等离子体X射线以及微光学元件等的快速发展，X射线全息术以及X射线干涉技术也取得了许多长足的进步。目前使用的X射线干涉仪有两种类型，一种是由三块近完美的晶体平行放置，形成一个干涉仪，如图1所示，它由七部分组成同步辐射源1，硅单晶片2，3，4，待测样品5，相移器6和探测器7。同步辐射源1出射的X射线，经第一块硅单晶片2后，产生±一级衍射，其中负一级衍射经相移器6以后，进入到第二块单晶片3，再产生衍射，由单晶片3产生的负一级衍射经过待测样品5，与硅单晶片3产生的正一级衍射，进入到硅单晶片4上，再一次产生衍射形成干涉条纹。Momose小组采用这种干涉仪进行了相衬层析方面的工作(参见在先技术A.Momose etal.，Hitachi 本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建文，高鸿奕，谢红兰，李儒新，徐至展，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：实用新型
国别省市：