【技术实现步骤摘要】
一种用于旋涂设备的定位辅助装置
本技术涉及定位辅助装置
,具体为一种用于旋涂设备的定位辅助装置。
技术介绍
纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。是通过光刻胶辅助,将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。要想实现图形的精确复制和转移,首先要实现光刻胶在基片上的均匀涂覆。目前最常用的涂胶方式是旋涂。市面上旋涂设备如匀胶机、旋涂仪层出不穷,但工作原理都是通过真空将基片固定在真空吸盘上,设置适当的加速度及转速,利用离心力使光刻胶在基片上均匀铺展。因此,基片圆心的准确定位尤为重要。一旦偏离圆心,就会出现胶层厚度不均匀或无法完全覆盖基片等问题影响压印效果。目前常用的定位辅助装置一般为单尺寸,定位不同尺寸的基片更换麻烦。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于旋涂设备的定位辅助装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种用于旋涂设备的定位辅助装置,包括升降式旋涂操作台,升降式旋涂操作台的上表面中部设有真空吸盘,且真空吸盘连接外部气泵,所述升降式旋涂操作台 ...
【技术保护点】
1.一种用于旋涂设备的定位辅助装置,包括升降式旋涂操作台(1),其特征在于:升降式旋涂操作台(1)的上表面中部设有真空吸盘(2),且真空吸盘(2)连接外部气泵,所述升降式旋涂操作台(1)上设有保护罩(3),所述升降式旋涂操作台(1)后侧设有安装底座(4),且安装底座(4)前端固定装配有支撑杆(5),所述支撑杆(5)前端固定装配有位于升降式旋涂操作台(1)上方的定位辅助装置本体(6)。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于旋涂设备的定位辅助装置,包括升降式旋涂操作台(1),其特征在于:升降式旋涂操作台(1)的上表面中部设有真空吸盘(2),且真空吸盘(2)连接外部气泵,所述升降式旋涂操作台(1)上设有保护罩(3),所述升降式旋涂操作台(1)后侧设有安装底座(4),且安装底座(4)前端固定装配有支撑杆(5),所述支撑杆(5)前端固定装配有位于升降式旋涂操作台(1)上方的定位辅助装置本体(6)。
2.根据权利要求1所述的一种用于旋涂设备的定位辅助装置,其特征在于:所述定位辅助装置本体(6)包括固定装配于支撑杆(5)前端的第一定位块(61),且第一定位块(61...
【专利技术属性】
技术研发人员:冀然,
申请(专利权)人:青岛天仁微纳科技有限责任公司,
类型:新型
国别省市:山东;37
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