一种模块化旋转式空间原子层沉积系统技术方案

本发明专利技术涉及空间原子层沉积技术领域，提供了一种模块化旋转式空间原子层沉积系统，包括：第一壳体，第一壳体是由多个相同的可拆卸相连的单元腔室组合而成的环形结构，每个单元腔室内均间隔设有多个隔断以将单元腔室分割成多个功能区域腔；多段传动导轨，多段传动导轨上设有多个用于放置晶圆的托盘，多个托盘一一对应地与多个单元腔室相对应，每一段传动导轨设置在第一壳体内的每一个单元腔室中，当单元腔室组合成第一壳体时，多段传动导轨形成闭环，以使多个托盘在多个单元腔室内循环移动；通过将第一壳体设置成环形结构，具有空间紧凑，本系统可以将系统配件放置在环形中央，利于产线布局。

A modular rotating space atomic layer deposition system

【技术实现步骤摘要】
一种模块化旋转式空间原子层沉积系统
本专利技术涉及空间原子层沉积
，具体涉及一种模块化旋转式空间原子层沉积系统。
技术介绍
原子层沉积(atomiclayerdeposition，ALD)技术，是一种基于顺序性的、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术。其与传统的化学气相沉积(chemicalvapordeposition，CVD)技术相比，ALD具有膜层致密、均匀度高、台阶覆盖率高等优势，在显示、半导体、微电子、能源等领域受到广泛关注。随着适应不同领域应用的ALD技术的发展，其逐步从基础研究阶段进入到实际应用阶段。原子层沉积循环过程(reactioncycle)由A、B两个半反应(halfcycle)组成，一个cycle分四个步骤进行：1)前驱体A脉冲进入反应腔室，在基板表面进行吸附反应；2)惰气吹扫多余的前驱体A及反应副产物；3)前驱体B脉冲进入反应腔室，在步骤1反应后的基板表面进行吸附反应；4)惰气吹扫多余的前驱体B及反应副产物，然后依次循环从而实现薄膜在基板表面逐层生长这一沉积过程。但因ALD每次沉积只能实现自限性单原子层的生长，薄本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种模块化旋转式空间原子层沉积系统，其特征在于，包括：/n第一壳体，所述第一壳体是由多个相同的可拆卸相连的单元腔室组合而成的环形结构，每个所述单元腔室内均间隔设有多个隔断以将所述单元腔室分割成多个功能区域腔；/n多段传动导轨，所述多段传动导轨上设有多个用于放置晶圆的托盘，多个所述托盘一一对应地与多个所述单元腔室相对应，多段所述传动导轨分别设置在所述第一壳体内的多个单元腔室中，当所述单元腔室组合成第一壳体时，所述多段传动导轨形成闭环，以使多个所述托盘在多个所述单元腔室内循环移动；/n第二壳体，所述第二壳体与其中一个所述单元腔室相连通，所述第二壳体内设有用于将晶圆放置在托盘上的搬运机械臂；/n...

【技术特征摘要】
1.一种模块化旋转式空间原子层沉积系统，其特征在于，包括：
第一壳体，所述第一壳体是由多个相同的可拆卸相连的单元腔室组合而成的环形结构，每个所述单元腔室内均间隔设有多个隔断以将所述单元腔室分割成多个功能区域腔；
多段传动导轨，所述多段传动导轨上设有多个用于放置晶圆的托盘，多个所述托盘一一对应地与多个所述单元腔室相对应，多段所述传动导轨分别设置在所述第一壳体内的多个单元腔室中，当所述单元腔室组合成第一壳体时，所述多段传动导轨形成闭环，以使多个所述托盘在多个所述单元腔室内循环移动；
第二壳体，所述第二壳体与其中一个所述单元腔室相连通，所述第二壳体内设有用于将晶圆放置在托盘上的搬运机械臂；
气体进入管道，所述气体进入管道分别与多个所述单元腔室相连通，所述气体进入管道用于向至少部分所述功能区域腔送入相应气体。


2.根据权利要求1所述的模块化旋转式空间原子层沉积系统，其特征在于，所述传动导轨包括导轨本体和连接件，所述连接件的下端滑动设置在所述导轨本体内，所述连接件的上端连接于所述托盘，所述连接件上设有齿轮接口；
还包括驱动电机，所述驱动电机的电机轴上设有齿轮盘，所述齿轮盘与所述齿轮接口啮合配合。


3.根据权利要求2所述的模块化旋转式空间原子层沉积系统，其特征在于，所述连接件和所述导轨本体之间滚动连接有多个钢珠。


4.根据权利要求1所述的模块化旋转式空间原子层沉积系统，其特征在于，多个所述功能区域...

【专利技术属性】
技术研发人员：张雨晴，
申请(专利权)人：北京态锐仪器科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11