用于减少颗粒产生的气体扩散器安装板制造技术

本公开内容的实施方式总体提供用于真空腔室的气体扩散器组件的设备和方法，气体扩散器组件包括安装板，安装板包括中心部；复数个弯曲辐条，从中心部在径向方向中延伸；角板部，耦接于中心部与这些弯曲辐条的每个弯曲辐条之间，这些角板部的每个角板部具有凸弯曲部，设置于轴向方向中；和一个或多个安装孔，耦接于这些弯曲辐条。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于减少颗粒产生的气体扩散器安装板背景领域本公开内容的实施方式总体涉及一种安装板，所述安装板用于在等离子体腔室中使用的气体或等离子体扩散器。相关技术的说明等离子体增强化学气相沉积(Plasmaenhancedchemicalvapordeposition，PECVD)是一种沉积方法，处理气体通过背板、通过扩散器、并且接着至气体分配喷头而被引导至处理腔室中。喷头是电偏压的以将处理气体点燃成等离子体。与喷头相对地定位的底座是电接地的并且用作阳极以及基板支撑件。处理气体的等离子体在基板上形成一个或多个膜。通过使清洁气体自由基(cleaninggasradical)的等离子体沿着与处理气体相同的流动路径流动并且流动通过与处理气体相同的流动路径来执行内部腔室部件的定期腔室清洁。举例来说，清洁气体在处理腔室的外侧被点燃成等离子体并且流动通过背板、扩散器、和通过喷头。清洁气体自由基的等离子体一般约为摄氏400度、或更高，并且造成流动路径的部分膨胀。在清洁之后，气体路径的所述部分逐渐冷却。此热循环在生产周期期间重复多次。然而，热循环造成气体路径的部分以不同的速率膨胀或收缩。相邻部分之间的有差别膨胀(differentialexpansion)造成这些部分抵靠着彼此摩擦，而产生颗粒。这些颗粒接着被夹带至流动路径中并且污染腔室。留在流动路径中的颗粒可被夹带至处理气体流中，而在沉积工艺期间污染基板。基板的颗粒污染使产量降低。因此，需要用于在处理腔室中支撑气体扩散器的安装板的设备和方法。概述r>本公开内容的实施方式一般提供用于真空腔室的气体扩散器组件的设备和方法，气体扩散器组件包括安装板，安装板包括中心部；复数个弯曲辐条，从中心部在径向方向中延伸；角板部，耦接于中心部和这些弯曲辐条中的每个弯曲辐条之间，这些角板部的每个角板部具有凸弯曲部，所述凸弯曲部设置于轴向方向中；和一个或多个安装孔，耦接于这些弯曲辐条。在另一实施方式中，说明一种用于真空腔室的气体扩散器组件，气体扩散器组件包括安装板，安装板包括中心部；复数个辐条，从中心部在径向方向中延伸；角板部，耦接于中心部与这些辐条中的每个辐条之间，这些角板部中的每个角板部具有凸弯曲部，所述凸弯曲部设置于轴向方向中；一个或多个安装孔，耦接于这些弯曲辐条；和螺纹孔，形成于中心部中。在另一实施方式中，说明一种用于真空腔室的气体扩散器组件，所述气体扩散器组件包括安装板；和气体偏转器，通过单个紧固件耦接于安装板。安装板包括中心部；复数个弯曲辐条，从中心部在径向方向中延伸；和一个或多个安装孔，耦接于这些弯曲辐条。附图简要说明为了能够详细地理解本公开内容的上述特征，可通过参考实施方式获得上文简要概述的本公开内容的更具体说明，在附图中图示实施方式中的一些。然而，值得注意的是，附图仅图示本公开内容的典型实施方式并且因此不视为限制本公开内容的范围，因为本公开内容也允许其他等效的实施方式。图1是腔室的一个实施方式的示意性侧视横截面图。图2是依照本公开内容的一个实施方式的具有气体扩散器支撑组件的腔室的局部示意性截面图。图3A是沿着图2的线3A-3A的扩散器组件的一部分的底部平面图。图3B是图3A的安装板的侧视图。图4A是可用作图1的安装板的安装板的另一实施方式的底部平面图。图4B是图4A的安装板的侧视图。图5A是可用作图1的安装板的安装板的另一实施方式的底部平面图。图5B是图5A的安装板的侧视图。图6A是可用作图1的安装板的安装板的另一实施方式的底部平面图。图6B是图6A的安装板的侧视图。图7A是可用作图1的安装板的安装板的另一实施方式的底部平面图。图7B是图7A的安装板的侧视图。为了有助于理解，已经尽可能使用相同的参考数字来表示各图共有的相同元件。还应理解的是，一个实施方式的元件和特征可有利地并入其他实施方式，而无需进一步阐述。具体说明本公开内容的实施方式一般提供用于在处理腔室中支撑气体扩散器的设备和方法。将在下文关于等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备描述本公开内容，此PECVD设备可从美国AKT公司(AKTAmerica,Inc.)获得，美国AKT公司公司为位于加利福尼亚州圣克拉拉(SantaClara)的应用材料公司(AppliedMaterials,Inc.)的子公司。将理解的是，本公开内容也可具有在其他沉积腔室中的适用性，其他沉积腔室包括可从其他制造商获得的沉积腔室和PECVD设备。图1是腔室100的一个实施方式的示意性侧视横截面图。腔室100适于PECVD工艺，以在由玻璃制成的大面积基板105、聚合物或其他适合的基板上制造电路。腔室100经配置以在大面积基板105上形成结构和装置，大面积基板105用于在液晶显示器(LCD)或平板显示器、用于太阳能电池阵列的光生伏打装置、或其他结构的制造中使用。这些结构可为复数个背通道蚀刻反转交错式(backchanneletchinvertedstaggered)(下栅极)薄膜晶体管，可包括复数个顺序的沉积和遮蔽步骤。其他结构可包括p-n结，以形成用于光生伏打电池的二极管。腔室100包括腔室侧壁110、底部115和基板支撑件120，基板支撑件120例如是在处理期间支撑大面积基板105的底座。气体分配喷头145与基板支撑件120和大面积基板105相对地定位。腔室100还具有口125，例如是狭缝阀开口，口125通过选择性地打开和关闭而有助于大面积基板105传送进入和离开腔室100。腔室100还包括盖结构130、背板140和气体分配喷头145。盖结构130包括盖板135。在一个实施方式中，盖结构130支撑背板140和气体分配喷头145。在一个实施方式中，背板140的内部表面146和腔室侧壁110的内部表面147界定可变压力区域148。在一个方面中，腔室100包括主体，所述主体包括腔室侧壁110、底部115和背板140，腔室侧壁110、底部115和背板140界定可变压力区域148。通过在界面处的合适o形环而将背板140在背板140的周围密封，背板140和盖结构130可在所述界面处彼此接触。当通过耦接于腔室100的真空泵提供负压时，o形环有助于电绝缘以及密封可变压力区域148。在一个实施方式中，通过一个或多个中心支撑构件150，在气体分配喷头145的中心区域处通过背板140支撑气体分配喷头145。此一个或多个中心支撑构件150有助于在气体分配喷头145的中心区域处支撑气体分配喷头145，以控制气体分配喷头145的水平轮廓来减缓气体分配喷头145因热、重力和真空的一者或组合而导致的下垂(droop)或下弯(sag)的趋势。也可在气体分配喷头145的周围通过柔性悬架(suspension)155支撑气体分配喷头145。柔性悬架155经适配以从气体分配喷头145的边缘支撑气体分配喷头145，并且允许气体分配喷头145的横向(lateral)膨胀和收缩。腔室100耦接于气体入口160，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体扩散器组件，用于真空腔室，所述气体扩散器组件包括：/n安装板，所述安装板包括：/n中心部；/n复数个弯曲辐条，从所述中心部在径向方向中延伸；/n角板部，耦接于所述中心部与这些弯曲辐条中的每个弯曲辐条之间，这些角板部中的每个角板部具有凸弯曲部，所述凸弯曲部设置于轴向方向中；和/n一个或多个安装孔，相邻于这些弯曲辐条定位。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181127 US 16/201,7551.一种气体扩散器组件，用于真空腔室，所述气体扩散器组件包括：
安装板，所述安装板包括：
中心部；
复数个弯曲辐条，从所述中心部在径向方向中延伸；
角板部，耦接于所述中心部与这些弯曲辐条中的每个弯曲辐条之间，这些角板部中的每个角板部具有凸弯曲部，所述凸弯曲部设置于轴向方向中；和
一个或多个安装孔，相邻于这些弯曲辐条定位。


2.如权利要求1所述的气体扩散器组件，其中这些安装孔中的每个安装孔在这些弯曲辐条之间形成于圆形安装结构中。


3.如权利要求1所述的气体扩散器组件，其中所述一个或多个安装孔的其中一者定位在这些弯曲辐条中的每个弯曲辐条的远端。


4.如权利要求1所述的气体扩散器组件，其中这些弯曲辐条中的每个弯曲辐条包括远端主体。


5.如权利要求4所述的气体扩散器组件，其中这些弯曲辐条中的每个弯曲辐条包括锐角部和钝角部，所述锐角部和所述钝角部位于所述远端主体处。


6.如权利要求1所述的气体扩散器组件，其中这些弯曲辐条中的每个弯曲辐条包括锐角部和钝角部。


7.如权利要求1所述的气体扩散器组件，其中所述中心部包括平表面。


8.如权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘家凌，安翔，赵来，周建华，R·L·迪纳，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US