【技术实现步骤摘要】
一种银复合膜层刻蚀剂及其制备方法
本专利技术涉及一种银复合膜层刻蚀剂及其制备方法。
技术介绍
刻蚀工艺是将玻璃或硅片等衬底上的材料使用化学反应或物理撞击作用移除的技术,此过程是在玻璃或硅片衬底上形成图案的重要也是关键步骤之一,现广泛应用于薄膜液晶显示器(TFT-LCD)、有机电激光显示(OLED)、大规模集成电路(IC)、半导体等微电子工业领域,金属银作为一种过渡元素理化性质较为稳定,且具有极好的的导电性、反射率高等特性先被越来越多的使用于取代金属钼、铝制程中。但磁控溅射后的银膜层极易与环境中的硫化学物发生反应生产硫化银及银黑,为防止银膜的硫化产生现工艺改进为使用一定膜厚的铟锡氧化物(ITO)上下保护银膜层。但现有的刻蚀工艺为三步刻蚀法,上下ITO膜层使用草酸或ITO刻蚀液、银膜层使用银复合膜刻蚀剂,此方法首先工艺繁琐,再者由于在经过ITO刻蚀液的产品发现图案表面会出现大量银盐析出,此银盐会附着与图案表面,对产品特性影响极大。为改进以上问题现专利技术一种一步刻蚀ITO/Ag/ITO膜层的刻蚀剂。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种一种银复合膜层刻蚀剂,该刻蚀剂可解决传统ITO/Ag/ITO复合膜刻蚀工艺繁琐、图案表面银盐附着问题。本专利技术银复合膜层刻蚀剂是通过以下技术方案来实现的:包括磷酸、硝酸、醋酸以及缓冲剂。作为优选的技术方案,以重量百分比为计,磷酸为30-60%、硝酸为2-20%、醋酸为12-40%、缓冲剂为0.01-10%和去离子水5-50%。作 ...
【技术保护点】
1.一种银复合膜层刻蚀剂,其特征在于:包括磷酸、硝酸、醋酸以及缓冲剂。/n
【技术特征摘要】
1.一种银复合膜层刻蚀剂,其特征在于:包括磷酸、硝酸、醋酸以及缓冲剂。
2.根据权利要求1所述的银复合膜层刻蚀剂,其特征在于:以重量百分比为计,磷酸为30-60%、硝酸为2-20%、醋酸为12-40%、缓冲剂为0.01-10%和去离子水5-50%。...
【专利技术属性】
技术研发人员:鲁晨泓,尹淞,刘江华,张建,
申请(专利权)人:芯越微电子材料嘉兴有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江;33
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