转印滚轮的移动式成形系统及离子蚀刻设备技术方案

本实用新型专利技术公开一种转印滚轮的移动式成形系统及离子蚀刻设备。转印滚轮的移动式成形系统包括：离子蚀刻设备，包含：无尘腔体，形成有相连通的加工件空间及蚀刻器空间；环型离子蚀刻器，安装于无尘腔体且位于蚀刻器空间内，且具有朝向加工件空间的环状驱动面；支撑构件，安装于无尘腔体且对应于加工件空间设置；及移动机构，安装于无尘腔体；以及金属转印滚轮，能拆卸地设置于支撑构件且位于加工件空间内，并且金属转印滚轮的外表面与环状驱动面呈间隔地相向设置。据此，所述离子蚀刻设备能相对于金属转印滚轮移动，以通过所述环状驱动面来在所述金属转印滚轮的外表面上凹设形成有所述转印微结构层，由此有效地降低成本且提高良率。

【技术实现步骤摘要】
转印滚轮的移动式成形系统及离子蚀刻设备
本技术涉及一种转印滚轮成形系统，尤其涉及一种转印滚轮的移动式成形系统及离子蚀刻设备。
技术介绍
现有的转印滚轮成形系统是用来在一金属滚轮的外表面通过一系列复杂的流程与技术而堆叠形成一微结构层，进而通过上述微结构层来在一光学膜上形成有一全息影像层。然而，现有转印滚轮成形系统的架构过于复杂，所以导致成本过大但良率却不高的情况。于是，本专利技术人认为上述缺陷可改善，因此潜心研究并配合科学原理的运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本技术。
技术实现思路
本技术实施例在于提供一种转印滚轮的移动式成形系统及离子蚀刻设备，其能有效地改善现有转印滚轮成形系统。本技术实施例公开一种转印滚轮的移动式成形系统，其包括：一离子蚀刻设备，包含：一无尘腔体，形成有相连通的一加工件空间及一蚀刻器空间；一环型离子蚀刻器，安装于无尘腔体且位于蚀刻器空间内，并且环型离子蚀刻器具有朝向加工件空间的一环状驱动面；一支撑构件，安装于无尘腔体且对应于加工件空间设置；及一移动机构，安装于无尘腔体；以及一金属转本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种转印滚轮的移动式成形系统，其特征在于，所述转印滚轮的移动式成形系统包括：/n一离子蚀刻设备，包含：/n一无尘腔体，形成有相连通的一加工件空间及一蚀刻器空间；/n一环型离子蚀刻器，安装于所述无尘腔体且位于所述蚀刻器空间内，并且所述环型离子蚀刻器具有朝向所述加工件空间的一环状驱动面；/n一支撑构件，安装于所述无尘腔体且对应于所述加工件空间设置；及/n一移动机构，安装于所述无尘腔体；以及/n一金属转印滚轮，能拆卸地设置于所述支撑构件且位于所述加工件空间内，并且所述金属转印滚轮的外表面与所述环状驱动面呈间隔地相向设置；其中，所述移动机构能驱使所述环型离子蚀刻器与所述金属转印滚轮沿一直线方向相对...

【技术特征摘要】
1.一种转印滚轮的移动式成形系统，其特征在于，所述转印滚轮的移动式成形系统包括：
一离子蚀刻设备，包含：
一无尘腔体，形成有相连通的一加工件空间及一蚀刻器空间；
一环型离子蚀刻器，安装于所述无尘腔体且位于所述蚀刻器空间内，并且所述环型离子蚀刻器具有朝向所述加工件空间的一环状驱动面；
一支撑构件，安装于所述无尘腔体且对应于所述加工件空间设置；及
一移动机构，安装于所述无尘腔体；以及
一金属转印滚轮，能拆卸地设置于所述支撑构件且位于所述加工件空间内，并且所述金属转印滚轮的外表面与所述环状驱动面呈间隔地相向设置；其中，所述移动机构能驱使所述环型离子蚀刻器与所述金属转印滚轮沿一直线方向相对地移动，以使所述环状驱动面能够相对地移动经过所述金属转印滚轮的整个所述外表面，进而通过所述环状驱动面与所述金属转印滚轮之间所形成的蚀刻离子而使所述金属转印滚轮在所述外表面上凹设形成有一转印微结构层。


2.根据权利要求1所述的转印滚轮的移动式成形系统，其特征在于，所述金属转印滚轮具有平行于所述直线方向的一中心轴线，并且所述环状驱动面呈圆环状且所述环状驱动面的圆心落在所述中心轴线；其中，所述转印滚轮的移动式成形系统进一步包含有一供电模块，并且所述供电模块与所述环型离子蚀刻器相连且用来向所述环型离子蚀刻器施加一正电压，所述供电模块与所述金属转印滚轮相连且用来向所述金属转印滚轮施加一负电压。


3.根据权利要求2所述的转印滚轮的移动式成形系统，其特征在于，所述移动机构连接于所述金属转印滚轮，并且所述移动机构能驱使所述金属转印滚轮沿所述直线方向移动。


4.根据权利要求2所述的转印滚轮的移动式成形...

【专利技术属性】
技术研发人员：林刘恭，
申请(专利权)人：光群雷射科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71