一种清洗设备制造技术

本实用新型专利技术涉及特种清洗设备技术领域，特别涉及一种清洗设备，包括机体，还包括转动设置于机体的清洗台、用于驱动所述清洗台转动的离心组件和清洗组件，清洗台上设置有吸孔，清洗台的周向设置有用于固定硅晶圆片的夹具；所述清洗组件包括设置于所述清洗台一侧的清洗架和设置于所述清洗架上用于向所述清洗台喷射二流体的二流体喷嘴。本实用新型专利技术在清洗台上设置用于吸附硅晶圆片的吸孔，并在清洗台的四周设置用于固定硅晶圆片的夹具，通过真空吸附的夹具固定的方式固定硅晶圆片，可以适用不同型号的硅晶圆片，然后在通过二流体喷嘴对硅晶圆片进行清洗，清洗完成后在通过离心组件离心脱水，极大地提高了硅晶圆片的清洗质量和清洗效率。效率。效率。

【技术实现步骤摘要】
一种清洗设备


[0001]本技术涉及特种清洗设备
，特别涉及一种清洗设备。

技术介绍

[0002]硅晶圆片经划线掰断及磨边倒角后,进入清洗机区段,用物理和化学的方法对硅晶圆片表面研磨屑等异物进行清洗,并经风刀干燥后，将硅晶圆片排齐定位传送至检查区段。
[0003]硅晶圆片主要应用于手机、电脑等显示终端，是液晶显示面板的关键原材料，面板制程过程中镀膜是一道关键工序，超标的颗粒数会造成面板厂镀膜过程中膜破、亮点等缺陷集发，造成大量废品的产生。
[0004]二流体是清洗工序的清洗手段之一，利用两种流体(水和空气)的物理作用力清除玻璃上下表面上的异物，针对清洗颗粒大小，设置不同的气水比。
[0005]但是，现有的清洗设备只能清洗特定的硅晶圆片，更换其他型号的硅晶圆片后，清洗效果差，清洗过程易造成硅晶圆片划伤。

技术实现思路

[0006]为了克服现有技术的不足，本技术提供一种清洗设备，以解决现有设备只能清洗特有型号的硅晶圆片，适用性较低的技术问题。
[0007]本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：
[0008]一种清洗设备，包括机体，还包括转动设置于机体的清洗台、用于驱动所述清洗台转动的离心组件和清洗组件，所述清洗台上设置有吸孔，所述清洗台的周向设置有用于固定硅晶圆片的夹具；所述清洗组件包括设置于所述清洗台一侧的清洗架和设置于所述清洗架上用于向所述清洗台喷射二流体的二流体喷嘴。
[0009]其中，所述清洗组件还包括设置于所述二流体喷嘴一侧的离子风嘴。
>[0010]其中，所述机体包括安装室和工作室，所述离心组件设置于所述安装室，所述清洗台、所述清洗组件设置于所述工作室；所述工作室设置有透明门，所述工作室靠近所述透明门的内侧设置有安全光栅，所述安全光栅电连接有处理器，所述处理器电连接报警器、离心组件和清洗组件。
[0011]其中，所述离心组件包括主轴、旋转密封接头和离心电机，所述主轴贯穿安装室和工作室设置，所述旋转密封接头套设在所述主轴外且用于密封所述工作室，所述主轴的两端分别传动连接所述清洗台和所述离心电机。
[0012]其中，在所述工作室内且位于所述清洗台四周竖直滑动设置有多个挡水板，所述安装室内设置有用于驱动所述挡水板上升或者下降的气缸。
[0013]其中，所述机体还设置有用于对所述工作室空气进行过滤的过滤组件，所述工作室设置有进气管和排气管，所述过滤组件包括与所述进气管相连通的空气过滤器和风扇。
[0014]其中，所述工作室内设置有与所述二流体喷嘴连接的气控箱。
[0015]其中，所述机体设置有与所述工作室相通的氮气备用口、排水口、纯水接口、气源接口和电源接口。
[0016]其中，所述机体的底端设置有万向轮。
[0017]本技术的有益效果是：本技术在清洗台上设置用于吸附硅晶圆片的吸孔，并在清洗台的四周设置用于固定硅晶圆片的夹具，通过真空吸附的夹具固定的方式固定硅晶圆片，可以适用不同型号的硅晶圆片，然后在通过二流体喷嘴对硅晶圆片进行清洗，清洗完成后在通过离心组件离心脱水，极大地提高了硅晶圆片的清洗质量和清洗效率。
附图说明
[0018]下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。
[0019]图1是本技术装配示意图；
[0020]图2是本技术安装室的示意图；
[0021]图3是本技术清洗组件和离心组件的连接示意图。
[0022]图中，10、机体；11、工作室；12、安装室；13、万向轮；14、透明门；15、安全光栅；16、报警器；17、排气管；20、清洗台；22、夹具；30、离心组件；31、主轴；32、旋转密封接头；33、离心电机；40、清洗组件；41、清洗架；42、二流体喷嘴；43、离子风嘴；44、挡水板；45、气缸；50、过滤组件；51、空气过滤器；60、气控箱；61、氮气备用口；62、排水口；63、纯水接口；64、气源接口；65、电源接口；
具体实施方式
[0023]以下将结合实施例和附图对本技术的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本技术的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本技术的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本技术的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本技术保护的范围。另外，专利中涉及到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本技术创造中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
[0024]参照图1至图3，一种清洗设备，包括机体10，还包括转动设置于机体10的清洗台20、用于驱动所述清洗台20转动的离心组件30和清洗组件40，所述清洗台20上设置有吸孔，所述清洗台20的周向设置有用于固定硅晶圆片的夹具22；所述清洗组件40包括设置于所述清洗台20一侧的清洗架41和设置于所述清洗架41上用于向所述清洗台20喷射二流体的二流体喷嘴42。本技术在清洗台20上设置用于吸附硅晶圆片的吸孔，并在清洗台20的四周设置用于固定硅晶圆片的夹具22，通过真空吸附的夹具22固定的方式固定硅晶圆片，可以适用不同型号的硅晶圆片，然后在通过二流体喷嘴42对硅晶圆片进行清洗，清洗完成后在通过离心组件30离心脱水，极大地提高了硅晶圆片的清洗质量和清洗效率。
[0025]具体地，夹具22设置有四个，且沿径向均匀分布于清洗台20的四周，夹具22用于夹住硅晶圆片的侧面，以保证硅晶圆片的中心与清洗台20的中心重合，离心时更加稳定。
[0026]如图1和图2所示，所述机体10包括安装室12和工作室11，所述离心组件30设置于所述安装室12，所述清洗台20、所述清洗组件40设置于所述工作室11。具体地，机体10采用
不锈钢材质制成，工作时不易被腐蚀，同时也可以保护内部组件，避免搬运设备时时造成内部组件损坏。
[0027]如图1所示，所述工作室11设置有透明门14，所述工作室11靠近所述透明门14的内侧设置有安全光栅15，所述安全光栅15电连接有处理器，所述处理器电连接报警器16、离心组件30和清洗组件40。具体地，报警器16可以采用报警灯；透明门14为电控升降门，一方面方便开关门，另一方便可以方便观测工作室11内的情况。安全光栅15的设置可以提高本设备的安全性能，工作人员的手进入工作室11后设备停止工作。
[0028]如图1和图2所示，所述机体10还设置有用于对所述工作室11空气进行过滤的过滤组件50，所述工作室11设置有进气管和排气管17，所述过滤组件50包括与所述进气管相连通的空气过滤器51和风扇。清洗前，可以通过过滤组件50过滤净化工作室11内的环境，避免灰尘污染，提高清洗质量。
[0029]结合图1所示，清洗架41包括设置在工作室11内的支撑柱和转动连接在支撑柱顶端的摆臂，二流体喷嘴42设置于摆臂本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗设备，包括机体，其特征在于：还包括转动设置于机体的清洗台、用于驱动所述清洗台转动的离心组件和清洗组件，所述清洗台上设置有吸孔，所述清洗台的周向设置有用于固定硅晶圆片的夹具；所述清洗组件包括设置于所述清洗台一侧的清洗架和设置于所述清洗架上用于向所述清洗台喷射二流体的二流体喷嘴。2.根据权利要求1所述的一种清洗设备，其特征在于：所述清洗组件还包括设置于所述二流体喷嘴一侧的离子风嘴。3.根据权利要求1或2所述的一种清洗设备，其特征在于：所述机体包括安装室和工作室，所述离心组件设置于所述安装室，所述清洗台、所述清洗组件设置于所述工作室；所述工作室设置有透明门，所述工作室靠近所述透明门的内侧设置有安全光栅，所述安全光栅电连接有处理器，所述处理器电连接报警器、离心组件和清洗组件。4.根据权利要求3所述的一种清洗设备，其特征在于：所述离心组件包括主轴、旋转密封接头和离心电机，所述主轴贯穿安装...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘春华，高辉武，
申请(专利权)人：深圳市玖优科技有限公司，
类型：新型
国别省市：